Universalidade e leis de escalas em amostras de silício atacadas quimicamente

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Dotto, Marta Elisa Rosso
Data de Publicação: 2003
Tipo de documento: Tese
Idioma: por
Título da fonte: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
Texto Completo: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1593839
Resumo: Orientador: Mauricio Urban Kleinke
id UNICAMP-30_aa635a6bf149d1e5c4d274aba57253aa
oai_identifier_str oai::280618
network_acronym_str UNICAMP-30
network_name_str Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
repository_id_str
spelling Universalidade e leis de escalas em amostras de silício atacadas quimicamenteFractaisSilício - CorrosãoMicroscopia de força atômicaOrientador: Mauricio Urban KleinkeTese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica "Gleb Wataghin"Resumo: A morfologia de superfícies de Si atacadas foi investigada por microscopia de força atômica (AFM). As amostras foram atacadas em distintas condições experimentais por uma solução de NaOH. Comportamentos lineares foram observados em gráficos log-log das flutuações das alturas ( D h) versus variações do comprimento ( D l), onde o expoente de rugosidade ( a ) é obtido da inclinação da curva. O expoente de crescimento (b) foi obtido a partir da relação de escala D hsat ~ t b, onde D hsat é o valor de saturação de D h. Para as superfícies de Si(111), foi observado e caracterizado um comportamento de escala com dois valores distintos para a. O valor de a local foi associado aos processos difusionais locais de crescimento dos platôs (aloc ~ 0.85). Refletindo uma taxa de crescimento direcional, o a global foi próximo de 0.4, sendo este um valor típico para o modelo de KPZ. Características de percolação foram observadas nas superfícies de Si(100) nos estágios inicias de ataque. Os valores de aumentaram com o tempo de ataque e com as restrições experimentais, de 0.5 a 0.9, e o comportamento funcional de a em relação à potência do ataque concorda com o modelo de uma frente de invasão de um fluido em um meio poroso, o modelo de KLT. Amostras de Si(100) com diferentes dopagens foram atacadas por uma solução de NaOH em banho de ultra-som. Foram observadas relações de escalas com os expoentes a e b e um comportamento de escala de D hsat com a dopagem das amostras. Obteve-se uma excelente correlação entre os sistemas experimentais e os modelos teóricos, ampliando assim o conceito de universalidade nos fenômenos associados à formação de superfíciesAbstract: Morphology of etched Si surface has been investigated by atomic force microscope (AFM). Samples were etched by NaOH solution in distinct experimental condictions. Linear relationships were observed in log-log plots of height fluctuation ( D h ) versus length variation ( D l ), where the roughness exponent ( a ) is obtained from the slope. Growth exponent (b) was obtained from the D h sat ~ t b scaling relation, where D h sat is the D h saturation value. For Si(111) surfaces, a scaling behavior was observed and characterized by two distinct values of a . The local value of a was associated to the local diffusion process of plateaus growth (a loc ~ 0.85), and the global a (related to long-range surface correlations) was close to 0.4. This is typical value for the KPZ model reflecting the highest growth rates on surfaces with higher slopes. Percolation signals were observed at Si(100) surfaces at the initial stages of etching. a values increases with etching time and with the experimental constraints, from 0.5 to 0.9, and the functional behavior with respect to the etching power agree to the fluid front invasion in a porous medium model, the KLT model. Si(100) samples with diferent doping were attacked by NaOH solution in ultrasonic bath. Were observed scaling relation with a and b exponents, and a scaling behavior of Dhsat with the samples¿ doping. We obtained excellent agreement between our experimental results and the theoretical models, contributing in this way to the universality concepts associated to the surface formationDoutoradoFísicaDoutora em Ciências[s.n.]Kleinke, Maurício Urban, 1958-Cotta, Mônica AlonsoBernardes, Americo TristaoAguiar, Marcus Aloizio Martinez deReis, Fabio David Alves AaraoUniversidade Estadual de Campinas. Instituto de Física Gleb WataghinPrograma de Pós-Graduação em FísicaUNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINASDotto, Marta Elisa Rosso20032003-04-04T00:00:00Zinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/doctoralThesisapplication/pdf172 p. : il.https://hdl.handle.net/20.500.12733/1593839DOTTO, Marta Elisa Rosso. Universalidade e leis de escalas em amostras de silício atacadas quimicamente. 2003. 172 p. Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica "Gleb Wataghin", Campinas, SP. Disponível em: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1593839. Acesso em: 14 mai. 2024.https://repositorio.unicamp.br/acervo/detalhe/280618porreponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)instname:Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)instacron:UNICAMPinfo:eu-repo/semantics/openAccess2019-06-27T10:53:44Zoai::280618Biblioteca Digital de Teses e DissertaçõesPUBhttp://repositorio.unicamp.br/oai/tese/oai.aspsbubd@unicamp.bropendoar:2019-06-27T10:53:44Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP) - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)false
dc.title.none.fl_str_mv Universalidade e leis de escalas em amostras de silício atacadas quimicamente
title Universalidade e leis de escalas em amostras de silício atacadas quimicamente
spellingShingle Universalidade e leis de escalas em amostras de silício atacadas quimicamente
Dotto, Marta Elisa Rosso
Fractais
Silício - Corrosão
Microscopia de força atômica
title_short Universalidade e leis de escalas em amostras de silício atacadas quimicamente
title_full Universalidade e leis de escalas em amostras de silício atacadas quimicamente
title_fullStr Universalidade e leis de escalas em amostras de silício atacadas quimicamente
title_full_unstemmed Universalidade e leis de escalas em amostras de silício atacadas quimicamente
title_sort Universalidade e leis de escalas em amostras de silício atacadas quimicamente
author Dotto, Marta Elisa Rosso
author_facet Dotto, Marta Elisa Rosso
author_role author
dc.contributor.none.fl_str_mv Kleinke, Maurício Urban, 1958-
Cotta, Mônica Alonso
Bernardes, Americo Tristao
Aguiar, Marcus Aloizio Martinez de
Reis, Fabio David Alves Aarao
Universidade Estadual de Campinas. Instituto de Física Gleb Wataghin
Programa de Pós-Graduação em Física
UNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS
dc.contributor.author.fl_str_mv Dotto, Marta Elisa Rosso
dc.subject.por.fl_str_mv Fractais
Silício - Corrosão
Microscopia de força atômica
topic Fractais
Silício - Corrosão
Microscopia de força atômica
description Orientador: Mauricio Urban Kleinke
publishDate 2003
dc.date.none.fl_str_mv 2003
2003-04-04T00:00:00Z
dc.type.status.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.type.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/doctoralThesis
format doctoralThesis
status_str publishedVersion
dc.identifier.uri.fl_str_mv https://hdl.handle.net/20.500.12733/1593839
DOTTO, Marta Elisa Rosso. Universalidade e leis de escalas em amostras de silício atacadas quimicamente. 2003. 172 p. Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica "Gleb Wataghin", Campinas, SP. Disponível em: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1593839. Acesso em: 14 mai. 2024.
url https://hdl.handle.net/20.500.12733/1593839
identifier_str_mv DOTTO, Marta Elisa Rosso. Universalidade e leis de escalas em amostras de silício atacadas quimicamente. 2003. 172 p. Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica "Gleb Wataghin", Campinas, SP. Disponível em: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1593839. Acesso em: 14 mai. 2024.
dc.language.iso.fl_str_mv por
language por
dc.relation.none.fl_str_mv https://repositorio.unicamp.br/acervo/detalhe/280618
dc.rights.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
eu_rights_str_mv openAccess
dc.format.none.fl_str_mv application/pdf
172 p. : il.
dc.publisher.none.fl_str_mv [s.n.]
publisher.none.fl_str_mv [s.n.]
dc.source.none.fl_str_mv reponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
instname:Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
instacron:UNICAMP
instname_str Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
instacron_str UNICAMP
institution UNICAMP
reponame_str Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
collection Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
repository.name.fl_str_mv Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP) - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
repository.mail.fl_str_mv sbubd@unicamp.br
_version_ 1799138376363802624

Registros relacionados