Adesão de um cimento resinoso a uma cerâmica feldspática: avaliação da resistência adesiva, ângulo de contato e ph, em função de diferentes técnicas de condicionamento

• Autor(a) principal: Amaral, Regina [UNESP]
• Data de Publicação: 2008
• Tipo de documento: Dissertação
• Idioma: por
• Título da fonte: Repositório Institucional da UNESP
• Texto Completo: http://hdl.handle.net/11449/97334
• topic: Resistência à tração; Cerâmica odontológica; Cimentos dentarios; Acido fluoridrico; pH. surface conditioning; Ceramic

O objetivo deste trabalho foi avaliar a durabilidade da resistência adesiva entre um cimento resinoso e uma cerâmica feldspática, o pH e o ângulo de contato da superfície cerâmica, submetida à diferentes tratamentos de superfície. Para análise do pH de superfície foram confeccionados 96 discos (8X3mm) da cerâmica feldspática (Vita VM7), os quais, foram divididos em 12 grupos (n=8): CS1- sem condicionamento; CS2- ácido fluorídrico (HF) 9% 1 min; CS3- CS2+lava/seca; CS4- CS3+silano (S); CS5- HF 4% 1 min; CS6- CS5+lava/seca; CS7- CS6+silano; CS8- HF 5% 1 min; CS9- CS8+lava/seca; CS10- CS9+silano 20 5min; CS11- CS9+neutralização+lava/seca+ultra-som; CS12- CS11+siano. Após, o pH foi medido com um peagâmetro digital. Para a análise do ângulo de contato foram confeccionados 40 discos com as mesmas dimensões (n=8): CS1- sem condicionamento; CS2- HF 9%; CS3- HF 4%; CS4- HF 5%; CS5- HF 5%+neutralização+lava/seca+ultra-som. As medidas foram realizadas com um Goniômetro. Para a resistência de união, foram confeccionados 40 blocos (6,4X6,4X4,8mm), os quais foram submetidos aos tratamentos (n=10): CS1- HF 9% 1 min; CS2- HF 4% 1 min; CS4- HF 5% 1 min; CS5- CS3+neutralização+lava/seca+ultra-som. Os espécimes foram armazenados em água destilada (37°C) por 24h e seccionados nos sentidos x e y. Os corpos-deprova obtidos foram divididos em 2 condições (Seco- ensaio imediato; TCarmazenagem + termociclagem) e submetidos ao teste de microtração. Na análise do pH, CS6 obteve o maior resultado e CS5, CS8 e CS2, obtiveram os menores valores estatisticamente. Para o ângulo de contato, CS1 obteve médias maiores comparados aos outros grupos. Para resistência de união, CS2=CS1>CS3=CS4, independente do fator armazenagem. Somente o CS4 sofreu redução na resistência adesiva após TC. Conclui-se que a neutralização parece afetar negativamente a resistência adesiva...