Desenvolvimento de um sistema de nitretação a plasma com tela ativa de alta eficiência

• Autor(a) principal: Lima, Edison Silva
• Data de Publicação: 2021
• Tipo de documento: Tese
• Idioma: por
• Título da fonte: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da UFRGS
• Texto Completo: http://hdl.handle.net/10183/223620
• topic: Nitretação a plasma; Tratamento de superfícies; Aço rápido

Este trabalho apresenta o desenvolvimento de um sistema de nitretação por plasma com tela ativa e tensão de polarização nas peças em tratamento, que apresentam camadas nitretadas semelhantes a nitretação por plasma direto para um mesmo tempo de tratamento. Para a investigação foram desenvolvidas diferentes configurações de tela ativa, sistema de isolamento das amostras e fontes de potência. Foram nitretadas amostras de aço ASTM M2 em 4 configurações diferentes: nitretação por plasma direto com fonte pulsada (DCPN); nitretação com tela ativa dupla sem tampa (ASPN); nitretação com tela ativa dupla sem tampa e tensão de polarização com plasma nas peças (ASBBPN); e nitretação com tela ativa dupla sem tampa e tensão de polarização sem abertura de plasma nas peças (ASDBPN). As nitretações aconteceram em 4h, 3 mbar, 76% N2 + 24% H2 e 500° C. Foram feitas análises dos resultados dos tratamentos utilizando-se microscopia, análise por GDOES, medições de dureza e difração de raio - X. A configuração de tela ativa dupla sem tampa na configuração ASDBPN apresentou os melhores resultados, sendo que a camada de compostos e a zona de difusão apresentaram profundidades próximas às obtidas por DCPN. O processo ASPN apresentou uma pequena profundidade de camada nitretada e o processo ASBBPN apresentou a menor profundidade de camada nitretada.