Filmes finos de SrBi2Ta2O9 processados em forno microondas

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Vasconcelos,J. S.
Data de Publicação: 2003
Outros Autores: Vasconcelos,N. S. L. S., Zanetti,S. M., Gomes,J. W., Longo,E., Leite,E. R., Varela,J. A.
Tipo de documento: Artigo
Idioma: por
Título da fonte: Cerâmica (São Paulo. Online)
Texto Completo: http://old.scielo.br/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S0366-69132003000100013
Resumo: Filmes finos de SrBi2Ta2O9 foram depositados em substratos de Pt/Ti/SiO2/Si e, pela primeira vez, sinterizados em forno microondas doméstico. Os padrões de difração de raios X mostraram que os filmes são policristalinos. O processamento por microondas permite utilizar baixa temperatura na síntese e obter filmes com boas propriedades elétricas. Ensaios de microscopia eletrônica de varredura (MEV) e de Força Atômica (MFA) revelam boa aderência entre filme e substrato, com microestrutura de superfície apresentando grãos finos e esféricos e rugosidade de 4,7 nm. A constante dielétrica e o fator de dissipação, para freqüência de 100 KHz, à temperatura ambiente, foram de 77 e 0,04, respectivamente. A polarização remanescente (2Pr) e o campo coercitivo (Ec) foram 1,04 miC/cm² e 33 kV/cm. O comportamento da densidade de corrente de fuga revela três mecanismos de condução: linear, ôhmico e outro mecanismo que pode ser atribuído à corrente de Schottky. Dos padrões de DRX, análises das imagens por MEV e topografia de superfície por MFA observa-se que 10 min de tratamento térmico a 550 ºC, em forno microondas, é tempo suficiente para se obter a cristalização do filme.
id USP-29_f771067e562510903c7a0e8d39399011
oai_identifier_str oai:scielo:S0366-69132003000100013
network_acronym_str USP-29
network_name_str Cerâmica (São Paulo. Online)
repository_id_str
spelling Filmes finos de SrBi2Ta2O9 processados em forno microondasfilmes finosSBTferroelétricocristalizaçãomicroondasFilmes finos de SrBi2Ta2O9 foram depositados em substratos de Pt/Ti/SiO2/Si e, pela primeira vez, sinterizados em forno microondas doméstico. Os padrões de difração de raios X mostraram que os filmes são policristalinos. O processamento por microondas permite utilizar baixa temperatura na síntese e obter filmes com boas propriedades elétricas. Ensaios de microscopia eletrônica de varredura (MEV) e de Força Atômica (MFA) revelam boa aderência entre filme e substrato, com microestrutura de superfície apresentando grãos finos e esféricos e rugosidade de 4,7 nm. A constante dielétrica e o fator de dissipação, para freqüência de 100 KHz, à temperatura ambiente, foram de 77 e 0,04, respectivamente. A polarização remanescente (2Pr) e o campo coercitivo (Ec) foram 1,04 miC/cm² e 33 kV/cm. O comportamento da densidade de corrente de fuga revela três mecanismos de condução: linear, ôhmico e outro mecanismo que pode ser atribuído à corrente de Schottky. Dos padrões de DRX, análises das imagens por MEV e topografia de superfície por MFA observa-se que 10 min de tratamento térmico a 550 ºC, em forno microondas, é tempo suficiente para se obter a cristalização do filme.Associação Brasileira de Cerâmica2003-03-01info:eu-repo/semantics/articleinfo:eu-repo/semantics/publishedVersiontext/htmlhttp://old.scielo.br/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S0366-69132003000100013Cerâmica v.49 n.309 2003reponame:Cerâmica (São Paulo. Online)instname:Universidade de São Paulo (USP)instacron:USP10.1590/S0366-69132003000100013info:eu-repo/semantics/openAccessVasconcelos,J. S.Vasconcelos,N. S. L. S.Zanetti,S. M.Gomes,J. W.Longo,E.Leite,E. R.Varela,J. A.por2003-05-27T00:00:00Zoai:scielo:S0366-69132003000100013Revistahttps://www.scielo.br/j/ce/PUBhttps://old.scielo.br/oai/scielo-oai.phpceram.abc@gmail.com||ceram.abc@gmail.com1678-45530366-6913opendoar:2003-05-27T00:00Cerâmica (São Paulo. Online) - Universidade de São Paulo (USP)false
dc.title.none.fl_str_mv Filmes finos de SrBi2Ta2O9 processados em forno microondas
title Filmes finos de SrBi2Ta2O9 processados em forno microondas
spellingShingle Filmes finos de SrBi2Ta2O9 processados em forno microondas
Vasconcelos,J. S.
filmes finos
SBT
ferroelétrico
cristalização
microondas
title_short Filmes finos de SrBi2Ta2O9 processados em forno microondas
title_full Filmes finos de SrBi2Ta2O9 processados em forno microondas
title_fullStr Filmes finos de SrBi2Ta2O9 processados em forno microondas
title_full_unstemmed Filmes finos de SrBi2Ta2O9 processados em forno microondas
title_sort Filmes finos de SrBi2Ta2O9 processados em forno microondas
author Vasconcelos,J. S.
author_facet Vasconcelos,J. S.
Vasconcelos,N. S. L. S.
Zanetti,S. M.
Gomes,J. W.
Longo,E.
Leite,E. R.
Varela,J. A.
author_role author
author2 Vasconcelos,N. S. L. S.
Zanetti,S. M.
Gomes,J. W.
Longo,E.
Leite,E. R.
Varela,J. A.
author2_role author
author
author
author
author
author
dc.contributor.author.fl_str_mv Vasconcelos,J. S.
Vasconcelos,N. S. L. S.
Zanetti,S. M.
Gomes,J. W.
Longo,E.
Leite,E. R.
Varela,J. A.
dc.subject.por.fl_str_mv filmes finos
SBT
ferroelétrico
cristalização
microondas
topic filmes finos
SBT
ferroelétrico
cristalização
microondas
description Filmes finos de SrBi2Ta2O9 foram depositados em substratos de Pt/Ti/SiO2/Si e, pela primeira vez, sinterizados em forno microondas doméstico. Os padrões de difração de raios X mostraram que os filmes são policristalinos. O processamento por microondas permite utilizar baixa temperatura na síntese e obter filmes com boas propriedades elétricas. Ensaios de microscopia eletrônica de varredura (MEV) e de Força Atômica (MFA) revelam boa aderência entre filme e substrato, com microestrutura de superfície apresentando grãos finos e esféricos e rugosidade de 4,7 nm. A constante dielétrica e o fator de dissipação, para freqüência de 100 KHz, à temperatura ambiente, foram de 77 e 0,04, respectivamente. A polarização remanescente (2Pr) e o campo coercitivo (Ec) foram 1,04 miC/cm² e 33 kV/cm. O comportamento da densidade de corrente de fuga revela três mecanismos de condução: linear, ôhmico e outro mecanismo que pode ser atribuído à corrente de Schottky. Dos padrões de DRX, análises das imagens por MEV e topografia de superfície por MFA observa-se que 10 min de tratamento térmico a 550 ºC, em forno microondas, é tempo suficiente para se obter a cristalização do filme.
publishDate 2003
dc.date.none.fl_str_mv 2003-03-01
dc.type.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/article
dc.type.status.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/publishedVersion
format article
status_str publishedVersion
dc.identifier.uri.fl_str_mv http://old.scielo.br/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S0366-69132003000100013
url http://old.scielo.br/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S0366-69132003000100013
dc.language.iso.fl_str_mv por
language por
dc.relation.none.fl_str_mv 10.1590/S0366-69132003000100013
dc.rights.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
eu_rights_str_mv openAccess
dc.format.none.fl_str_mv text/html
dc.publisher.none.fl_str_mv Associação Brasileira de Cerâmica
publisher.none.fl_str_mv Associação Brasileira de Cerâmica
dc.source.none.fl_str_mv Cerâmica v.49 n.309 2003
reponame:Cerâmica (São Paulo. Online)
instname:Universidade de São Paulo (USP)
instacron:USP
instname_str Universidade de São Paulo (USP)
instacron_str USP
institution USP
reponame_str Cerâmica (São Paulo. Online)
collection Cerâmica (São Paulo. Online)
repository.name.fl_str_mv Cerâmica (São Paulo. Online) - Universidade de São Paulo (USP)
repository.mail.fl_str_mv ceram.abc@gmail.com||ceram.abc@gmail.com
_version_ 1748936779871813632