Cristalização e stress devidos à presença de níquel em filmes de silício amorfo

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Zanatta, Antonio Ricardo
Data de Publicação: 2008
Tipo de documento: Artigo de conferência
Idioma: por
Título da fonte: Repositório Institucional da USP (Biblioteca Digital da Produção Intelectual)
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