Oxidação ao ar a altas temperaturas de ligas à base de níquel.

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Vicente, André de Albuquerque
Data de Publicação: 1999
Tipo de documento: Dissertação
Idioma: por
Título da fonte: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP
Texto Completo: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3133/tde-18112020-095449/
Resumo: O presente trabalho enfoca a oxidação a alta temperatura de ligas do sistemas Ni-Al e Ni-Cr-Al. As ligas estudadas foram o Inconel 713C, o IC50 e uma liga experimental baseada no intermetálico Ni3Al com adição de Cr denominada liga X. Todas as ligas foram oxidadas ao ar durante 24 horas, nas temperaturas 800, 900, 1000, 1100, 1200 e 1300ºC, sempre em uma microbalança termogravimétrica (TG). Estes ensaios tiveram suas curvas de ganho de massa registradas em um microcomputador, que é conectado à TG através de uma interface. A superfície oxidada das ligas foi analisada por difração de raios-X e no microscópio eletrônico de varredura (MEV) foi examinada a seção transversal, permitindo a observação morfológica das camadas formadas. Durante este exame foram realizadas micro-análises EDS nas camadas de óxido formadas. Todos ensaios de oxidação ao ar apresentaram cinéticas de crescimento parabólicas desprezando-se as etapas iniciais de formação dos óxidos. Para a liga IC50 foram identificados os óxidos NiO e Al2O3. Para a liga Inconel 713C e liga X foram identificados os óxidos NiO, Al2O3 e Cr2O3. A liga IC50 apresentou comportamento bimodal parabólico. A liga Inconel 713C apresentou o melhor comportamento quanto à oxidação a alta temperatura, ou seja, a menor constante de crescimento parabólico (Kp) das três ligas em estudo para todas as temperaturas de ensaio. Este comportamento da liga Inconel 713C deve-se à formação de uma película contínua e não-porosa de Al2O3. Devido à formação inicial de uma película de NiO e posterior formação de Al2O3 e/ou Cr2O3 , foram observados comportamentos complexos para todas as cinéticas de oxidação das ligas estudadas.
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