Análise dos processos de formação de aerossóis orgânicos secundários na macrorregião metropolitana de São Paulo

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Santos Junior, Djacinto Aparecido Monteiro dos
Data de Publicação: 2021
Tipo de documento: Tese
Idioma: por
Título da fonte: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP
Texto Completo: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/43/43134/tde-22122021-131958/
Resumo: A macrometrópole Paulista (MMP), conjunto de metrópoles incluindo a Região Metropolitana de São Paulo, com população superior a 33 milhões de habitantes, é uma região crítica do ponto de vista da poluição atmosférica. Foram estudadas propriedades físicas e químicas de aerossóis urbanos na MMP, bem como os processos de formação de aerossóis orgânicos secundários (SOA) por meio de experimentos realizados nos municípios de Diadema, Campinas e São Paulo. Foram utilizadas técnicas como espectrometria de massas de aerossóis e fatoração de matriz positiva. A concentração média de partículas submicrométricas (PM1) foi de 11,3 g/m3 em Diadema, 12,0 g/m3 em Cerqueira César e 13,4 g/m3 em Campinas, sendo predominantemente aerossóis orgânicos (OA) (43% - 58%) e Black Carbon (BC) (14% a 24%). Os sítios de São Paulo (Cerqueira César) e Diadema foram caracterizados pelo impacto de emissões veiculares, enquanto em Campinas verificou-se maior influência de poluição regional e emissões de queimadas. Processos secundários foram responsáveis por 56% da massa total de PM1 em Campinas, 54% em Diadema e 46% em Cerqueira César. Aerossóis da moda de Aitken apresentaram contribuição majoritária de espécies inorgânicas, enquanto a moda de acumulação foi dominada por partículas de BC e SOA. Entre as componentes químicas do aerossol, aerossóis inorgânicos de sulfato e nitrato apresentaram a maior eficiência de espalhamento em massa do PM1. Com relação aos coeficientes de absorção, a contribuição de OA foi quantificada em 23% da absorção total na faixa entre 370 e 880 nm, amplificando a absorção de radiação associada ao BC.
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