Análise fotoelástica comparativa entre pilares protéticos com distintos diâmetros para implantes com conexão cone morse instalados em diferentes profundidades ósseas

• Autor(a) principal: Provinciatti, Mauricio Martins
• Data de Publicação: 2019
• Tipo de documento: Tese
• Idioma: por
• Título da fonte: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP
• Texto Completo: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/58/58131/tde-04102022-164029/
• topic: Abutments; Análise fotoelástica; Conexão cone morse; Dental implants; Implant prosthesis; Implantes dentais; Morse taper connection; Photoelastic analysis; Pilares protéticos; Próteses sobre implantes

O presente estudo avaliou por meio da análise fotoelástica qualitativa e quantitativa as tensões peri-implantares geradas por pilares protéticos sólidos com diferentes diâmetros na base de assentamento da prótese (3,3 mm e 4,5 mm). Os pilares protéticos utilizados apresentavam duas medidas de transmucoso (1,5 mm e 3,0 mm) e foram conectados a implantes com conexão cone morse instalados com a plataforma em diferentes profundidades ósseas (equicristal e subcristal a 1,5 mm). Os modelos fotoelásticos confeccionados reproduziam parte da hemi-arcada mandibular esquerda. Os Implantes foram colocados no local correspondente ao primeiro molar. Duas situações clínicas foram analisadas, na primeira o implante foi instalado entre as réplicas dentais do segundo pré-molar e do segundo molar. Na segunda havia o implante e apenas a réplica do segundo pré-molar (extremidade livre mandibular). Os modelos fotoelásticos receberam marcações na superfície frontal, as quais se referiam aos pontos selecionados para a avaliação das tensões (1 mm abaixo do pico das cristas ósseas periodontais, ao nível da plataforma do implante, 2,3 mm abaixo da plataforma do implante e ápice do implante). Pontas de carregamento personalizadas foram usadas para a aplicação de cargas (200 N) às próteses e às réplicas dentais. Todos os ajustes oclusais foram realizados visando um carregamento oclusal distribuído. Durante a aplicação das cargas uma folha de papel parafilme interpôs a ponta de carregamento e o modelo fotoelástico. A tensão média (MPa) gerada nos modelos foram: Pilar 3,3 / Equicristal - 17,0; Pilar 3,3 / Equicristal / Extremo Livre - 24,0; Pilar 3,3 / Subcristal - 14,9; Pilar 3,3 / Subcristal / Extremo Livre - 18,6; Pilar 4,5 / Equicristal - 15,3; Pilar 4,5 / Equicristal / Extremo Livre - 18,6; Pilar 4,5 / Subcristal - 13,7; Pilar 4,5 / Subcristal / Extremo Livre - 15,6. Os resultados obtidos revelaram o direcionamento das forças oclusais para o longo eixo do implante, com menores tensões próximas a plataforma e maiores perto do ápice. A ausência do segundo molar (extremidade livre mandibular) também acarretou aumento nas tensões peri-implantares. Os pilares protéticos sólidos com diâmetro de 4,5 mm na base de assentamento da prótese distribuíram as tensões de maneira mais eficiente que os pilares com diâmetro de 3,3 mm. A 2,3 mm abaixo da plataforma e no ápice as tensões foram inferiores com a posição equicristal dos implantes. Assim concluiu-se que a posição subcristal a 1,5 mm foi melhor que a equicristal, já que a média das tensões nas cristas ósseas periodontais e nos modelos fotoelásticos foram reduzidas com o posicionamento subcristal a 1,5 mm. E que os pilares protéticos com diâmetro de 4,5 mm promoveram melhor dissipação das forças oclusais.