Influência do auto-aquecimento na característica I-V de transistores MOS/SOI.

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Brunetti, Cláudia
Data de Publicação: 1997
Tipo de documento: Dissertação
Idioma: por
Título da fonte: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP
Texto Completo: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-04102024-105930/
Resumo: Este trabalho apresenta o estudo dos efeitos do auto-aquecimento na característica I-V de transistores SOI NMOS totalmente depletados. Para este fim, um dispositivo de comprimento de canal de 1 \'mü\'m foi medido e simulado utilizando os programas bidimensionais \'TSUPREM-4 POT.TM\' (simulador de processos) e \'MEDICI POT.TM\' (simulador de dispositivos). Foram realizados dois tipos de medidas: estáticas e dinâmicas. Das medidas estáticas, observou-se o efeito do auto-aquecimento através do surgimento da região de condutância diferencial de saída negativa na característica I-V, fenômeno justificado pela degradação da mobilidade com o aumento da temperatura. Para a simulação da característica estática utilizou-se, juntamente com as equações tradicionais de Poisson e Continuidade, o módulo de Aquecimento da Rede Cristalina, as Equações de Balanço de Energia para elétrons e modelos de Ionização por Impacto. Verifica-se dos resultados que a temperatura da rede cristalina, para polarizações de dreno e porta de 5V e 6V, respectivamente, pode atingir valores em torno de 425K enquanto que, para mesmas condições de polarização, a temperatura local dos elétrons pode atingir 2380K. Isto justifica a utilização das Equações de Balanço de Energia para elétrons nas simulações, que permitem o melhor modelamento de parâmetros tais como mobilidade e ionização por impacto, de acordo com a temperatura local dos portadores. A simulação da característica I-V sem oauto-aquecimento foi feita desativando-se o módulo de Aquecimento da Rede Cristalina, ou seja, eliminando-se a degradação da mobilidade com a temperatura. Para fins de comparação, através de medidas dinâmicas, avaliamos a corrente \'I IND.DS\' no dispositivo sem o efeito de auto-aquecimento, utilizando o método pulsado. A diferença entre valores de corrente com aquecimento (medidas estáticas) e sem aquecimento (medidas dinâmicas), para tensão de porta de 6V e tensão de dreno para máxima corrente no transistor, ficou em torno de 2,5mA, valor bastante próximo daquele obtido através das simulações.
id USP_8c48d1fb1465488d3ceafb1b4b364784
oai_identifier_str oai:teses.usp.br:tde-04102024-105930
network_acronym_str USP
network_name_str Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP
repository_id_str 2721
spelling Influência do auto-aquecimento na característica I-V de transistores MOS/SOI.Untitled in englishMicroelectronicsMicroeletrônicaMOS/SOI TransistorTransistor MOS/SOIEste trabalho apresenta o estudo dos efeitos do auto-aquecimento na característica I-V de transistores SOI NMOS totalmente depletados. Para este fim, um dispositivo de comprimento de canal de 1 \'mü\'m foi medido e simulado utilizando os programas bidimensionais \'TSUPREM-4 POT.TM\' (simulador de processos) e \'MEDICI POT.TM\' (simulador de dispositivos). Foram realizados dois tipos de medidas: estáticas e dinâmicas. Das medidas estáticas, observou-se o efeito do auto-aquecimento através do surgimento da região de condutância diferencial de saída negativa na característica I-V, fenômeno justificado pela degradação da mobilidade com o aumento da temperatura. Para a simulação da característica estática utilizou-se, juntamente com as equações tradicionais de Poisson e Continuidade, o módulo de Aquecimento da Rede Cristalina, as Equações de Balanço de Energia para elétrons e modelos de Ionização por Impacto. Verifica-se dos resultados que a temperatura da rede cristalina, para polarizações de dreno e porta de 5V e 6V, respectivamente, pode atingir valores em torno de 425K enquanto que, para mesmas condições de polarização, a temperatura local dos elétrons pode atingir 2380K. Isto justifica a utilização das Equações de Balanço de Energia para elétrons nas simulações, que permitem o melhor modelamento de parâmetros tais como mobilidade e ionização por impacto, de acordo com a temperatura local dos portadores. A simulação da característica I-V sem oauto-aquecimento foi feita desativando-se o módulo de Aquecimento da Rede Cristalina, ou seja, eliminando-se a degradação da mobilidade com a temperatura. Para fins de comparação, através de medidas dinâmicas, avaliamos a corrente \'I IND.DS\' no dispositivo sem o efeito de auto-aquecimento, utilizando o método pulsado. A diferença entre valores de corrente com aquecimento (medidas estáticas) e sem aquecimento (medidas dinâmicas), para tensão de porta de 6V e tensão de dreno para máxima corrente no transistor, ficou em torno de 2,5mA, valor bastante próximo daquele obtido através das simulações.This work presents a study of the self-heating effects on the I-V characteristics of thin-film, fully-depleted SOI NMOS transistors. To accomplish this, a divice with channel length of 1µm has been measured and simulated with the two-dimensional programs TSUPREM-4TM (Process simulator) and MEDICITM (device simulator). Two types of measurements have been done: static and dynamics. From the static measurements, it was possible to observe the negative differential channel output conductance, caused by degradation of eléctron mobility with increasing temperature. For the simulation of the static I-V characteristic, in addition to Poisson and Continuity Equations, Total Energy Balance for electrons, couple with Lattice Heating and Impact Ionization models were of essential importance. It was noticed from the simulation results that, for drain and gate voltages of 5V and 6V, respectively, the lattice can reach temperature of about 425K, while local eléctron temperatures, for the same bias conditions can reach 2380K. These values justify then usage of the Energy Balance Equations for electrons in the simulations, for the accurate modeling of parameters such as mobility and impact ionizattion, according to local eléctron temperature. The simulation of the I-V charactristics without self-heating was performed by deactivating the Lattice Heating Module (elimination of the degradation of eléctron mobility with increasing temperature). Through dynamics meaurements, we evaluated the devices current, without self-heating, by a pulsed method. The difference between current values with heating (static measurements) and without heating (pulsed measurements), for a gate bias of 6V and drain bias for the maximum current in he transistor, was about 2,5mA, a value very close to the one obtained through simulations.Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USPZasnicoff, Luiz SergioBrunetti, Cláudia1997-07-25info:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisapplication/pdfhttps://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-04102024-105930/reponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USPinstname:Universidade de São Paulo (USP)instacron:USPLiberar o conteúdo para acesso público.info:eu-repo/semantics/openAccesspor2024-10-04T14:04:02Zoai:teses.usp.br:tde-04102024-105930Biblioteca Digital de Teses e Dissertaçõeshttp://www.teses.usp.br/PUBhttp://www.teses.usp.br/cgi-bin/mtd2br.plvirginia@if.usp.br|| atendimento@aguia.usp.br||virginia@if.usp.bropendoar:27212024-10-04T14:04:02Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP - Universidade de São Paulo (USP)false
dc.title.none.fl_str_mv Influência do auto-aquecimento na característica I-V de transistores MOS/SOI.
Untitled in english
title Influência do auto-aquecimento na característica I-V de transistores MOS/SOI.
spellingShingle Influência do auto-aquecimento na característica I-V de transistores MOS/SOI.
Brunetti, Cláudia
Microelectronics
Microeletrônica
MOS/SOI Transistor
Transistor MOS/SOI
title_short Influência do auto-aquecimento na característica I-V de transistores MOS/SOI.
title_full Influência do auto-aquecimento na característica I-V de transistores MOS/SOI.
title_fullStr Influência do auto-aquecimento na característica I-V de transistores MOS/SOI.
title_full_unstemmed Influência do auto-aquecimento na característica I-V de transistores MOS/SOI.
title_sort Influência do auto-aquecimento na característica I-V de transistores MOS/SOI.
author Brunetti, Cláudia
author_facet Brunetti, Cláudia
author_role author
dc.contributor.none.fl_str_mv Zasnicoff, Luiz Sergio
dc.contributor.author.fl_str_mv Brunetti, Cláudia
dc.subject.por.fl_str_mv Microelectronics
Microeletrônica
MOS/SOI Transistor
Transistor MOS/SOI
topic Microelectronics
Microeletrônica
MOS/SOI Transistor
Transistor MOS/SOI
description Este trabalho apresenta o estudo dos efeitos do auto-aquecimento na característica I-V de transistores SOI NMOS totalmente depletados. Para este fim, um dispositivo de comprimento de canal de 1 \'mü\'m foi medido e simulado utilizando os programas bidimensionais \'TSUPREM-4 POT.TM\' (simulador de processos) e \'MEDICI POT.TM\' (simulador de dispositivos). Foram realizados dois tipos de medidas: estáticas e dinâmicas. Das medidas estáticas, observou-se o efeito do auto-aquecimento através do surgimento da região de condutância diferencial de saída negativa na característica I-V, fenômeno justificado pela degradação da mobilidade com o aumento da temperatura. Para a simulação da característica estática utilizou-se, juntamente com as equações tradicionais de Poisson e Continuidade, o módulo de Aquecimento da Rede Cristalina, as Equações de Balanço de Energia para elétrons e modelos de Ionização por Impacto. Verifica-se dos resultados que a temperatura da rede cristalina, para polarizações de dreno e porta de 5V e 6V, respectivamente, pode atingir valores em torno de 425K enquanto que, para mesmas condições de polarização, a temperatura local dos elétrons pode atingir 2380K. Isto justifica a utilização das Equações de Balanço de Energia para elétrons nas simulações, que permitem o melhor modelamento de parâmetros tais como mobilidade e ionização por impacto, de acordo com a temperatura local dos portadores. A simulação da característica I-V sem oauto-aquecimento foi feita desativando-se o módulo de Aquecimento da Rede Cristalina, ou seja, eliminando-se a degradação da mobilidade com a temperatura. Para fins de comparação, através de medidas dinâmicas, avaliamos a corrente \'I IND.DS\' no dispositivo sem o efeito de auto-aquecimento, utilizando o método pulsado. A diferença entre valores de corrente com aquecimento (medidas estáticas) e sem aquecimento (medidas dinâmicas), para tensão de porta de 6V e tensão de dreno para máxima corrente no transistor, ficou em torno de 2,5mA, valor bastante próximo daquele obtido através das simulações.
publishDate 1997
dc.date.none.fl_str_mv 1997-07-25
dc.type.status.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.type.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/masterThesis
format masterThesis
status_str publishedVersion
dc.identifier.uri.fl_str_mv https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-04102024-105930/
url https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-04102024-105930/
dc.language.iso.fl_str_mv por
language por
dc.relation.none.fl_str_mv
dc.rights.driver.fl_str_mv Liberar o conteúdo para acesso público.
info:eu-repo/semantics/openAccess
rights_invalid_str_mv Liberar o conteúdo para acesso público.
eu_rights_str_mv openAccess
dc.format.none.fl_str_mv application/pdf
dc.coverage.none.fl_str_mv
dc.publisher.none.fl_str_mv Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
publisher.none.fl_str_mv Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
dc.source.none.fl_str_mv
reponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP
instname:Universidade de São Paulo (USP)
instacron:USP
instname_str Universidade de São Paulo (USP)
instacron_str USP
institution USP
reponame_str Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP
collection Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP
repository.name.fl_str_mv Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP - Universidade de São Paulo (USP)
repository.mail.fl_str_mv virginia@if.usp.br|| atendimento@aguia.usp.br||virginia@if.usp.br
_version_ 1815256487701774336