Construção e caracterização de diodos \'n POT. +\'p com contatos Al/Ni/Ti\'Si IND. 2\'.

• Autor(a) principal: Reis, Ronaldo Willian
• Data de Publicação: 2001
• Tipo de documento: Dissertação
• Idioma: por
• Título da fonte: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP
• Texto Completo: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-28082024-092302/
• topic: Diodes; Diodos

Neste trabalho foram construídos contatos Al/Ni/Ti\'Si IND. 2\' sobre junções rasas \'n POT. +\'p com 0,5 \'MICROMETROS\' de profundidade. O desempenho elétrico final obtido foi considerado excelente com corrente reversa de aproximadamente 15 nA/cm2 e a resistência de contato de 7,3.\'10 POT. -8\' \'OHM\'cm2 (áreas de (200 x 200) \'MICROMETROS\'). O processo térmico (T = 900 \'GRAUS\'C e t = 75 min) para obtenção das junções \'n POT. +\'p com profundidade de 0,5 \'MICROMETROS\' foi simulado com o programa SUPREM III. Para fabricar contatos Al/Ni/Ti\'Si IND. 2\' de boa qualidade, foram feitas caracterizações prévias dos filmes Ti\'Si IND. 2\' formados em duas etapas (700\'GRAUS\'C e 900\'GRAUS\'C) em ambiente de nitrogênio. De forma geral, os filmes de Ti\'Si IND. 2\'-C54 resultaram com baixas rugosidades (RRMS \'APROXIMADAMENTE\' 12 nm) e baixos valores de resistividade (p \'APROXIMADAMENTE\' 15 \'MICROM\'\'OHM\'cm). Por outro lado, filmes de Ni foram depositados por processo eletroquímico espontâneo sobre filmes Ti\'Si IND. 2\'-C54 previamente ativados em solução de paládio (\'H IND. 2\'O/HF/Pd\'Cl IND. 2\'). Os filmes de níquel depositados sobre Ti\'Si IND. 2\'-C54 apresentaram um pequeno aumento da rugosidade superficial (RRMS \'APROXIMADAMENTE\' 15 nm) em comparação com a superfície do siliceto de titânio (RRMS \'APROXIMADAMENTE\' 12 nm). Tal fato foi explicado como devido principalmente ao processo de pré-ativação que cria sítios sobre o siliceto antes da deposição do níquel. Os filmes de níquel obtidos resultaram do tipo Ni(P) com concentração de fósforo de aproximadamente 5% e resistência de folha de \'APROXIMADAMENTE\' 0,5 \'OHM\'\'POR QUADRADO\' para espessuras de 300 nm (p \'APROXIMADAMENTE\' 15 \'MICROM\'\'OHM\'cm).