Simulação multifísica utilizando método dos elementos finitos auxiliando interativamente a fabricação de moduladores eletro-ópticos em substratos de Bi4Ge3O12.

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Sato, Sandra Sayuri
Data de Publicação: 2015
Tipo de documento: Tese
Idioma: por
Título da fonte: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP
Texto Completo: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3143/tde-21072016-091619/
Resumo: Este trabalho apresenta um método desenvolvido pela autora para, através de simulações multifísicas pelo Método dos Elementos Finitos (MEF), servir como ferramenta de apoio ao projeto e fabricação de guias de onda e moduladores eletro-ópticos em óptica integrada, além de possibilitar a análise da performance de moduladores eletro-ópticos. A técnica adotada para a fabricação dos guias de onda ópticos foi a de tensão mecânica. Os parâmetros de geometria (espessura do filme e larguras das trincheiras) e de temperatura de deposição do filme são definidos nas simulações e utilizados no processo de fabricação de guias de ondas em óptica integrada, que servem de base para a fabricação de moduladores eletro-ópticos em substrato cristalino de retículo cúbico. As trincheiras dos guias de onda do tipo canal são construídas em Germanato de Bismuto (BGO - Bi4Ge3O12), a partir da deposição sobre o substrato de um filme fino indutor de tensão mecânica (stress) Nitreto de Silício (Si3N4) e definidas pelos processos de litografia óptica e corrosão seletiva por plasma. Os moduladores são obtidos através da deposição dos eletrodos de alumínio sobre o filme, seguida de Si3N4 dos processos de litografia óptica e corrosão, obtendo-se eletrodos. O processo iterativo proposto inicia-se com os resultados das simulações, em que são definidos os parâmetros de fabricação do filme, da trincheira e dos eletrodos. Após a fabricação desses elementos, o componente é caracterizado e são medidos os parâmetros reais filme e do substrato. Esses valores são realimentados nas simulações para refinar o projeto do componente. O trabalho, além de apresentar todos os passos do processo interativo de simulações, projeto, fabricação e caracterização do componente desejado, indica as dificuldades encontradas na implementação do processo e as atividades futuras a serem desenvolvidas para o aperfeiçoamento do mesmo.
id USP_e859654df4199d9030ff7e80dfc7f0ca
oai_identifier_str oai:teses.usp.br:tde-21072016-091619
network_acronym_str USP
network_name_str Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP
repository_id_str 2721
spelling Simulação multifísica utilizando método dos elementos finitos auxiliando interativamente a fabricação de moduladores eletro-ópticos em substratos de Bi4Ge3O12.Multiphysics simulation using finite element method interactively assisting manufacture electro-optical modulators substrates Bi4Ge3O12Bismuth Germanate (Bi4Ge3O12)Electro-optic modulatorEstresse residual induzido termicamenteFEM simulationGermanato de Bismuto (Bi4Ge3O12)Guias de onda ópticosISSLPCVDLPCVDMétodo dos elementos finitosModulador eletro-ópticoNitreto de Silício (Si3N4)Óptica integradaOptical waveguidesPlasma etching. Integrated opticSilicon Nitride (Si3N4)SimulaçãoEste trabalho apresenta um método desenvolvido pela autora para, através de simulações multifísicas pelo Método dos Elementos Finitos (MEF), servir como ferramenta de apoio ao projeto e fabricação de guias de onda e moduladores eletro-ópticos em óptica integrada, além de possibilitar a análise da performance de moduladores eletro-ópticos. A técnica adotada para a fabricação dos guias de onda ópticos foi a de tensão mecânica. Os parâmetros de geometria (espessura do filme e larguras das trincheiras) e de temperatura de deposição do filme são definidos nas simulações e utilizados no processo de fabricação de guias de ondas em óptica integrada, que servem de base para a fabricação de moduladores eletro-ópticos em substrato cristalino de retículo cúbico. As trincheiras dos guias de onda do tipo canal são construídas em Germanato de Bismuto (BGO - Bi4Ge3O12), a partir da deposição sobre o substrato de um filme fino indutor de tensão mecânica (stress) Nitreto de Silício (Si3N4) e definidas pelos processos de litografia óptica e corrosão seletiva por plasma. Os moduladores são obtidos através da deposição dos eletrodos de alumínio sobre o filme, seguida de Si3N4 dos processos de litografia óptica e corrosão, obtendo-se eletrodos. O processo iterativo proposto inicia-se com os resultados das simulações, em que são definidos os parâmetros de fabricação do filme, da trincheira e dos eletrodos. Após a fabricação desses elementos, o componente é caracterizado e são medidos os parâmetros reais filme e do substrato. Esses valores são realimentados nas simulações para refinar o projeto do componente. O trabalho, além de apresentar todos os passos do processo interativo de simulações, projeto, fabricação e caracterização do componente desejado, indica as dificuldades encontradas na implementação do processo e as atividades futuras a serem desenvolvidas para o aperfeiçoamento do mesmo.This work presents a method developed by the author to support the project and fabrication of integrated optic waveguides and electro-optic modulators by means of Finite Element Method (FEM) multiphysics simulations, also enabling the electro-optic modulators performance analysis. The technique used for fabricating the optical waveguides was the thermally induced residual stress (ISS). The geometry parameters (film thicknesses and trenches widths) and the film deposition temperature are obtained in the simulations and subsequently used in the integrated optical waveguides fabrication process, which serve as a basic building block for the electrooptic modulators on crystalline cubic lattice substrate. The channel waveguide trenches are built on Bismuth Germanate (BGO Bi4Ge3O12) by depositing a Silicon Nitride (Si3N4) Stress-inducing thin film, being later defined by optical lithography and plasma etching process. Modulators are obtained depositing aluminum on the Si3N4 film followed by the optical lithography and corrosion process, defining electrodes. The proposed iterative process starts with the simulation results that define the fabrication parameters of the film, trench and electrodes. After the fabrication of these elements, the device is characterized and the actual parameters of the film and substrate are measured. These values are fed back into the simulations to refine the component design. The work besides presenting all the simulation-design-fabrication-characterization iterative process for obtaining the devised device also highlights the difficulties encountered in the implementation process along with suggestions of future activities aiming at improving it.Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USPSantos, Josemir CoelhoSato, Sandra Sayuri2015-03-12info:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/doctoralThesisapplication/pdfhttp://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3143/tde-21072016-091619/reponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USPinstname:Universidade de São Paulo (USP)instacron:USPLiberar o conteúdo para acesso público.info:eu-repo/semantics/openAccesspor2017-09-04T21:03:48Zoai:teses.usp.br:tde-21072016-091619Biblioteca Digital de Teses e Dissertaçõeshttp://www.teses.usp.br/PUBhttp://www.teses.usp.br/cgi-bin/mtd2br.plvirginia@if.usp.br|| atendimento@aguia.usp.br||virginia@if.usp.bropendoar:27212017-09-04T21:03:48Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP - Universidade de São Paulo (USP)false
dc.title.none.fl_str_mv Simulação multifísica utilizando método dos elementos finitos auxiliando interativamente a fabricação de moduladores eletro-ópticos em substratos de Bi4Ge3O12.
Multiphysics simulation using finite element method interactively assisting manufacture electro-optical modulators substrates Bi4Ge3O12
title Simulação multifísica utilizando método dos elementos finitos auxiliando interativamente a fabricação de moduladores eletro-ópticos em substratos de Bi4Ge3O12.
spellingShingle Simulação multifísica utilizando método dos elementos finitos auxiliando interativamente a fabricação de moduladores eletro-ópticos em substratos de Bi4Ge3O12.
Sato, Sandra Sayuri
Bismuth Germanate (Bi4Ge3O12)
Electro-optic modulator
Estresse residual induzido termicamente
FEM simulation
Germanato de Bismuto (Bi4Ge3O12)
Guias de onda ópticos
ISS
LPCVD
LPCVD
Método dos elementos finitos
Modulador eletro-óptico
Nitreto de Silício (Si3N4)
Óptica integrada
Optical waveguides
Plasma etching. Integrated optic
Silicon Nitride (Si3N4)
Simulação
title_short Simulação multifísica utilizando método dos elementos finitos auxiliando interativamente a fabricação de moduladores eletro-ópticos em substratos de Bi4Ge3O12.
title_full Simulação multifísica utilizando método dos elementos finitos auxiliando interativamente a fabricação de moduladores eletro-ópticos em substratos de Bi4Ge3O12.
title_fullStr Simulação multifísica utilizando método dos elementos finitos auxiliando interativamente a fabricação de moduladores eletro-ópticos em substratos de Bi4Ge3O12.
title_full_unstemmed Simulação multifísica utilizando método dos elementos finitos auxiliando interativamente a fabricação de moduladores eletro-ópticos em substratos de Bi4Ge3O12.
title_sort Simulação multifísica utilizando método dos elementos finitos auxiliando interativamente a fabricação de moduladores eletro-ópticos em substratos de Bi4Ge3O12.
author Sato, Sandra Sayuri
author_facet Sato, Sandra Sayuri
author_role author
dc.contributor.none.fl_str_mv Santos, Josemir Coelho
dc.contributor.author.fl_str_mv Sato, Sandra Sayuri
dc.subject.por.fl_str_mv Bismuth Germanate (Bi4Ge3O12)
Electro-optic modulator
Estresse residual induzido termicamente
FEM simulation
Germanato de Bismuto (Bi4Ge3O12)
Guias de onda ópticos
ISS
LPCVD
LPCVD
Método dos elementos finitos
Modulador eletro-óptico
Nitreto de Silício (Si3N4)
Óptica integrada
Optical waveguides
Plasma etching. Integrated optic
Silicon Nitride (Si3N4)
Simulação
topic Bismuth Germanate (Bi4Ge3O12)
Electro-optic modulator
Estresse residual induzido termicamente
FEM simulation
Germanato de Bismuto (Bi4Ge3O12)
Guias de onda ópticos
ISS
LPCVD
LPCVD
Método dos elementos finitos
Modulador eletro-óptico
Nitreto de Silício (Si3N4)
Óptica integrada
Optical waveguides
Plasma etching. Integrated optic
Silicon Nitride (Si3N4)
Simulação
description Este trabalho apresenta um método desenvolvido pela autora para, através de simulações multifísicas pelo Método dos Elementos Finitos (MEF), servir como ferramenta de apoio ao projeto e fabricação de guias de onda e moduladores eletro-ópticos em óptica integrada, além de possibilitar a análise da performance de moduladores eletro-ópticos. A técnica adotada para a fabricação dos guias de onda ópticos foi a de tensão mecânica. Os parâmetros de geometria (espessura do filme e larguras das trincheiras) e de temperatura de deposição do filme são definidos nas simulações e utilizados no processo de fabricação de guias de ondas em óptica integrada, que servem de base para a fabricação de moduladores eletro-ópticos em substrato cristalino de retículo cúbico. As trincheiras dos guias de onda do tipo canal são construídas em Germanato de Bismuto (BGO - Bi4Ge3O12), a partir da deposição sobre o substrato de um filme fino indutor de tensão mecânica (stress) Nitreto de Silício (Si3N4) e definidas pelos processos de litografia óptica e corrosão seletiva por plasma. Os moduladores são obtidos através da deposição dos eletrodos de alumínio sobre o filme, seguida de Si3N4 dos processos de litografia óptica e corrosão, obtendo-se eletrodos. O processo iterativo proposto inicia-se com os resultados das simulações, em que são definidos os parâmetros de fabricação do filme, da trincheira e dos eletrodos. Após a fabricação desses elementos, o componente é caracterizado e são medidos os parâmetros reais filme e do substrato. Esses valores são realimentados nas simulações para refinar o projeto do componente. O trabalho, além de apresentar todos os passos do processo interativo de simulações, projeto, fabricação e caracterização do componente desejado, indica as dificuldades encontradas na implementação do processo e as atividades futuras a serem desenvolvidas para o aperfeiçoamento do mesmo.
publishDate 2015
dc.date.none.fl_str_mv 2015-03-12
dc.type.status.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.type.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/doctoralThesis
format doctoralThesis
status_str publishedVersion
dc.identifier.uri.fl_str_mv http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3143/tde-21072016-091619/
url http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3143/tde-21072016-091619/
dc.language.iso.fl_str_mv por
language por
dc.relation.none.fl_str_mv
dc.rights.driver.fl_str_mv Liberar o conteúdo para acesso público.
info:eu-repo/semantics/openAccess
rights_invalid_str_mv Liberar o conteúdo para acesso público.
eu_rights_str_mv openAccess
dc.format.none.fl_str_mv application/pdf
dc.coverage.none.fl_str_mv
dc.publisher.none.fl_str_mv Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
publisher.none.fl_str_mv Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
dc.source.none.fl_str_mv
reponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP
instname:Universidade de São Paulo (USP)
instacron:USP
instname_str Universidade de São Paulo (USP)
instacron_str USP
institution USP
reponame_str Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP
collection Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP
repository.name.fl_str_mv Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP - Universidade de São Paulo (USP)
repository.mail.fl_str_mv virginia@if.usp.br|| atendimento@aguia.usp.br||virginia@if.usp.br
_version_ 1815257244127723520