Oxidação eletrolítica por plasma no alumínio em meio sulfúrico

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Oshima, Fabia Yumi
Data de Publicação: 2018
Outros Autores: Fraga, João Gabriel Lobão
Tipo de documento: Trabalho de conclusão de curso
Idioma: por
Título da fonte: Repositório Institucional da UTFPR (da Universidade Tecnológica Federal do Paraná (RIUT))
Texto Completo: http://repositorio.utfpr.edu.br/jspui/handle/1/10526
Resumo: O alumínio possui naturalmente uma camada protetora anti corrosão, que muitas vezes no uso industrial não é suficiente para suprir a demanda, dependendo do local ou modo de utilização do material. Deste modo, tratamentos superficiais são aplicados para crescer uma camada de óxido suficiente para elevar sua resistência à corrosão. Este trabalho visa estudar uma vertente destes tratamentos superficiais através do processo de reação eletrolítica para crescimento de camadas de óxidos protetoras em superfícies de alumínio, chamada Oxidação Eletrolítica por Plasma ou Anodização à Plasma. Para tanto, foi analisada a influência de diversos parâmetros como: diferentes concentrações de ácido sulfúrico nos eletrólitos, variação das distâncias entre os eletrodos e a variação do tempo de tratamento. As análises foram feitas através de fotos de topo utilizando o microscópio eletrônico de varredura, resultados do rugosímetro 3D de interferometria de luz branca, análise de EDS e o levantamento de dados retirados, por frames, de vídeos filmando as marcações de corrente e tensão nos multímetros. Com isso, os resultados mostram que a distância não tem grande influência na tensão e na corrente, portanto, a caracterização do crescimento das camadas de óxido não é influenciada por esse parâmetro. Além disso, o aumento das concentrações utilizadas nos experimentos interfere no aumento de trincas na superfície e na maior quantidade de óxidos formados através do tratamento. Concluiu-se também, que o tempo utilizado nos experimentos não são suficientes para analisar a espessura da camada de óxido.
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Para tanto, foi analisada a influência de diversos parâmetros como: diferentes concentrações de ácido sulfúrico nos eletrólitos, variação das distâncias entre os eletrodos e a variação do tempo de tratamento. As análises foram feitas através de fotos de topo utilizando o microscópio eletrônico de varredura, resultados do rugosímetro 3D de interferometria de luz branca, análise de EDS e o levantamento de dados retirados, por frames, de vídeos filmando as marcações de corrente e tensão nos multímetros. Com isso, os resultados mostram que a distância não tem grande influência na tensão e na corrente, portanto, a caracterização do crescimento das camadas de óxido não é influenciada por esse parâmetro. Além disso, o aumento das concentrações utilizadas nos experimentos interfere no aumento de trincas na superfície e na maior quantidade de óxidos formados através do tratamento. Concluiu-se também, que o tempo utilizado nos experimentos não são suficientes para analisar a espessura da camada de óxido.The aluminum has naturally an anti-corrosion protective layer that often it is not sufficient to meet the demand depending on the place or of the method that the material will be used. Therefore, the superficial treatments are applied in order to grow a sufficient oxide layer to increase the corrosion resistance. So this monograph aim to study an aspect of those superficial treatments through a process of an electrolytic reaction for the protector oxide layers growth of the aluminum surface. The procedure is called Plasma Electrolytic Oxidation or Plasma Anodization. For this purpose, the influence of several parameters was analyzed: different concentration of sulfuric acid in electrolytes, distance variation between the electrodes and the variation of the treatment time. The analysis was done through pictures seen from the top using the scanning electron microscope, results of the 3D white light interferometry rugosimeter, EDS analysis and the collection of data by frames of videos filming the current and voltage’s data in the multimeter. Therefore, the results show that the distance does not have a great influence on the voltage and the current, consequently, the characterization of the growth of the oxide layers is not influenced by this parameter. In addition, the increase in the concentrations used in the experiments interferes with the increase of cracks in the surfaceand the greater amount of oxides formed through the treatment. It was also concluded that the time used in the experiments is not sufficient to analyze the thickness of the oxide layer.porUniversidade Tecnológica Federal do ParanáCuritibaCurso de Engenharia MecânicaUTFPRBrasilCNPQ::ENGENHARIAS::ENGENHARIA DE MATERIAIS E METALURGICA::METALURGIA DE TRANSFORMACAO::TRATAMENTO TERMICOS, MECANICOS E QUIMICOSOxidaçãoPlasma (Gases ionizados)AlumínioSuperfícies (Tecnologia)Engenharia mecânicaOxidationPlasma (Ionized gases)AluminumSurfaces (Technology)Mechanical engineeringOxidação eletrolítica por plasma no alumínio em meio sulfúricoinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/bachelorThesisCuritibaVillanova, Rodrigo LupinacciBernardelli, Euclides AlexandreVillanova, Rodrigo LupinacciBernardelli, Euclides AlexandreBorges, Paulo CésarReis, Ricardo Fernando dosOshima, Fabia YumiFraga, João Gabriel Lobãoinfo:eu-repo/semantics/openAccessreponame:Repositório Institucional da UTFPR (da Universidade Tecnológica Federal do Paraná (RIUT))instname:Universidade Tecnológica Federal do Paraná (UTFPR)instacron:UTFPRORIGINALCT_DAMEC_2018_2_41.pdfapplication/pdf20400732http://repositorio.utfpr.edu.br:8080/jspui/bitstream/1/10526/1/CT_DAMEC_2018_2_41.pdf37f73be41f2b4bf6407f50f7313b923fMD51LICENSElicense.txttext/plain1290http://repositorio.utfpr.edu.br:8080/jspui/bitstream/1/10526/2/license.txtb9d82215ab23456fa2d8b49c5df1b95bMD52TEXTCT_DAMEC_2018_2_41.pdf.txtExtracted texttext/plain88114http://repositorio.utfpr.edu.br:8080/jspui/bitstream/1/10526/3/CT_DAMEC_2018_2_41.pdf.txtfc24ed75268a29e989d6f35065f6d9bdMD53THUMBNAILCT_DAMEC_2018_2_41.pdf.jpgGenerated Thumbnailimage/jpeg1257http://repositorio.utfpr.edu.br:8080/jspui/bitstream/1/10526/4/CT_DAMEC_2018_2_41.pdf.jpg7062221bd03aa493d0559ae516e5475cMD541/105262020-11-12 16:51:15.379oai:repositorio.utfpr.edu.br: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ório de PublicaçõesPUBhttp://repositorio.utfpr.edu.br:8080/oai/requestopendoar:2020-11-12T18:51:15Repositório Institucional da UTFPR (da Universidade Tecnológica Federal do Paraná (RIUT)) - Universidade Tecnológica Federal do Paraná (UTFPR)false
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