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1
Local order structure of a-SiOxNy:H grown by PECVD
por
Scopel,W.L.
Publicado em 2002
Outros Autores:
“
...
Fantini
,
M.C
.A....
”
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2
Highly ordered amorphous silicon-carbon alloys obtained by RF PECVD
por
Pereyra,I.
Publicado em 2000
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“
...
Fantini
,
M.C
.A....
”
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Artigo
3
Description and characterization of a ECR plasma device developed for thin film deposition
por
Matta,J.A.S. da
Publicado em 2003
Outros Autores:
“
...
Fantini
,
M.C
.A....
”
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