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1
Environment of hafnium and silicon in Hf-based dielectric films : an atomistic study by x-ray absorption spectroscopy and x-ray diffraction
por
Morais, Jonder
Publicado em 2005
Outros Autores:
“
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,
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2
Integrity of hafnium silicate/silicon dioxide ultrathin films on Si
por
Morais, Jonder
Publicado em 2002
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“
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,
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R
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3
Exchange-diffusion reactions in HfSiON during annealing studied by Rutherford backscattering spectrometry, nuclear reaction analysis and narrow resonant nuclear reaction profiling
por
Miotti, Leonardo
Publicado em 2004
Outros Autores:
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