Otimização do Processo de Deposição de Filmes TiO2:Mn usando RF Magnetron Sputtering

Detalhes bibliográficos
Principais autores: ANDRE LUIS DE JESUS PEREIRA, José Humberto Dias da Silva
Data de Publicação: 2012
Tipo de documento: Tese
Título da fonte: Portal de Dados Abertos da CAPES
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