Política industrial, tecno-nacionalismo e indústria 4.0 : a guerra tecnológica entre China e EUA

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Diegues, Antonio Carlos, 1981-
Data de Publicação: 2021
Tipo de documento: Artigo
Idioma: por
Título da fonte: Repositório da Produção Científica e Intelectual da Unicamp
Texto Completo: https://hdl.handle.net/20.500.12733/12685
Resumo: Resumo: O objetivo deste artigo é analisar a evolução da guerra tecnológica entre China e EUA em um contexto de exacerbamento das estratégias tecno­nacionalistas de desenvolvimento industrial e tecnológico. Parte­se da hipótese de que tais políticas, econômico e assim reconfigurar as bases sobres as quais se assentam a dinâmica da concorrência intercapitalista e interestatal. A partir deste contexto, a principal contribuição pretendida pelo trabalho é a análise das implicações da Guerra Tecnológica entre China e EUA a partir da segmentação do paradigma tecno­econômico da Indústria 4.0 em diferentes camadas, para além do debate tradicional acerca da transição para as redes de comunicação 5G. Conclui­se que é nas camadas associadas à serviços inteligentes, inteligência artificial e big data que residem as maiores potencialidades de desenvolvimento chinesa. Em contrapartida, é na sub camada de infraestrutura habilitadora relacionada aos semicondutores de última geração que se observa a lacuna central da estratégia chinesa - expressa no Made in China 2025 e nos objetivos rascunhados para o China Standards 2035 - de fazer com que seu parque produtivo e suas tecnologias se posicionem em um espaço hierarquicamente superior na dinâmica internacional da concorrência inter­estatal
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spelling Política industrial, tecno-nacionalismo e indústria 4.0 : a guerra tecnológica entre China e EUAPolítica industrialIndústria 4.0China - Condições econômicasIndustrial policyIndustry 4.0.China - Economic conditionsGuerra tecnológicaTecno-nacionalismoArtigo originalResumo: O objetivo deste artigo é analisar a evolução da guerra tecnológica entre China e EUA em um contexto de exacerbamento das estratégias tecno­nacionalistas de desenvolvimento industrial e tecnológico. Parte­se da hipótese de que tais políticas, econômico e assim reconfigurar as bases sobres as quais se assentam a dinâmica da concorrência intercapitalista e interestatal. A partir deste contexto, a principal contribuição pretendida pelo trabalho é a análise das implicações da Guerra Tecnológica entre China e EUA a partir da segmentação do paradigma tecno­econômico da Indústria 4.0 em diferentes camadas, para além do debate tradicional acerca da transição para as redes de comunicação 5G. Conclui­se que é nas camadas associadas à serviços inteligentes, inteligência artificial e big data que residem as maiores potencialidades de desenvolvimento chinesa. Em contrapartida, é na sub camada de infraestrutura habilitadora relacionada aos semicondutores de última geração que se observa a lacuna central da estratégia chinesa - expressa no Made in China 2025 e nos objetivos rascunhados para o China Standards 2035 - de fazer com que seu parque produtivo e suas tecnologias se posicionem em um espaço hierarquicamente superior na dinâmica internacional da concorrência inter­estatalAbstract: This paper aims to analyze the evolution of the technological war between China and the USA in a context of exacerbation of technonationalist strategies for industrial and technological development. The hypothesis is that such policies, by boosting the Industry 4.0, aim to create a new technoeconomic paradigm and thus reconfigure the bases of intercapitalist and interstate competition. The main contribution to the literature is providing an analysis of the implications of the Technological War between China and the USA in different layers of the Industry 4.0 technoeconomic paradigm, in addition to the mainstream debate about the transition to 5G communication networks. The paper concludes that it is in the layers associated with intelligent services, artificial intelligence and big data that the greatest potential of Chinese development resides. On the other hand, it is in the sublayer of enabling infrastructure related to the latest generation semiconductors that the central gap of the Chinese strategy - expressed in Made in China 2025 and in the objectives outlined for China Standards 2035 - is observedAbertoUNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINASDiegues, Antonio Carlos, 1981-2021info:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/articleapplication/pdfhttps://hdl.handle.net/20.500.12733/12685DIEGUES, Antonio Carlos. Política industrial, tecno-nacionalismo e indústria 4.0: a guerra tecnológica entre China e EUA. Texto para discussão. Campinas,SP : UNICAMP/IE, 2021. N. 401 (jan. 2021), p. 1-19. Disponível em: https://hdl.handle.net/20.500.12733/12685. Acesso em: 7 mai. 2024.https://repositorio.unicamp.br/acervo/detalhe/1350518porreponame:Repositório da Produção Científica e Intelectual da Unicampinstname:Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)instacron:UNICAMPinfo:eu-repo/semantics/openAccess2023-10-31T13:46:14Zoai:https://www.repositorio.unicamp.br/:1350518Repositório InstitucionalPUBhttp://repositorio.unicamp.br/oai/requestreposip@unicamp.bropendoar:2023-10-31T13:46:14Repositório da Produção Científica e Intelectual da Unicamp - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)false
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