Taxa de crescimento de filmes de diamante CVD em superfícies de molibdênio

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Fujiy,Oswaldo Kazushi
Data de Publicação: 2007
Outros Autores: Trava-Airoldi,Vladimir Jesus, Corat,Evaldo José, Ferreira,Marcelo Juni, Amorim,Amaurí, Moro,João Roberto
Tipo de documento: Artigo
Idioma: por
Título da fonte: REM. Revista Escola de Minas (Online)
Texto Completo: http://old.scielo.br/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S0370-44672007000200004
Resumo: O preparo dos substratos, para o crescimento de filmes de diamante CVD, é de fundamental importância por diversos fatores. Um novo método de preparação dos substratos de molibdênio, o jateamento por óxido de alumínio, é apresentado e comparado com os métodos tradicionais de preparo. As amostras de diamante CVD obtidas foram analisadas por espectroscopia de espalhamento RAMAN e por microscopia eletrônica de varredura (MEV). Obtiveram-se filmes de diamante CVD de boa qualidade e uniformidade e o novo processo proposto de tratamento do substrato de molibdênio permitiu maior taxa de crescimento que os métodos tradicionais.
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