Estudo do comportamento das correntes de fuga do dreno do Diamante SOI nMOSFET em altas temperaturas

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Carvalho, Daniel Belo de
Data de Publicação: 2012
Tipo de documento: Dissertação
Idioma: por
Título da fonte: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da FEI
Texto Completo: https://repositorio.fei.edu.br/handle/FEI/662
id FEI_81b0957481c482b13926423d1eb11299
oai_identifier_str oai:repositorio.fei.edu.br:FEI/662
network_acronym_str FEI
network_name_str Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da FEI
repository_id_str
spelling Carvalho, Daniel Belo deBellodi, Marcello2019-03-21T12:32:12Z2019-03-21T12:32:12Z2012CARVALHO, Daniel Belo de. <b> Estudo do comportamento das correntes de fuga do dreno do Diamante SOI nMOSFET em altas temperaturas. </b> 2012. 119 f. Dissertação (Mestrado em Engenharia Elétrica) - Centro Universitário da FEI, São Bernardo do Campo, 2012 Disponível em: <http://sofia.fei.edu.br/tede/tde_busca/arquivo.php?codArquivo=274>. Acesso em: 30 out. 2012.https://repositorio.fei.edu.br/handle/FEI/662porpt_BRCentro Universitário da FEI, São Bernardo do CampoTransistor de efeito de campo de metal-óxido semicondutorEstudo do comportamento das correntes de fuga do dreno do Diamante SOI nMOSFET em altas temperaturasinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisreponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da FEIinstname:Centro Universitário da Fundação Educacional Inaciana (FEI)instacron:FEIinfo:eu-repo/semantics/openAccessORIGINALfulltext.pdffulltext.pdfapplication/pdf9072664https://repositorio.fei.edu.br/bitstream/FEI/662/2/fulltext.pdfbd4a1130c5eeddf1003b9cf24929c493MD52TEXTfulltext.pdf.txtfulltext.pdf.txtExtracted texttext/plain199272https://repositorio.fei.edu.br/bitstream/FEI/662/3/fulltext.pdf.txteaaef538c99623bace8c6c924a820a33MD53THUMBNAILfulltext.pdf.jpgfulltext.pdf.jpgGenerated Thumbnailimage/jpeg1138https://repositorio.fei.edu.br/bitstream/FEI/662/4/fulltext.pdf.jpgdffd193bca6f938370b0297b6547a520MD54FEI/6622019-05-06 19:51:24.929Biblioteca Digital de Teses e Dissertaçõeshttp://sofia.fei.edu.br/pergamum/biblioteca/PRI
dc.title.pt_BR.fl_str_mv Estudo do comportamento das correntes de fuga do dreno do Diamante SOI nMOSFET em altas temperaturas
title Estudo do comportamento das correntes de fuga do dreno do Diamante SOI nMOSFET em altas temperaturas
spellingShingle Estudo do comportamento das correntes de fuga do dreno do Diamante SOI nMOSFET em altas temperaturas
Carvalho, Daniel Belo de
Transistor de efeito de campo de metal-óxido semicondutor
title_short Estudo do comportamento das correntes de fuga do dreno do Diamante SOI nMOSFET em altas temperaturas
title_full Estudo do comportamento das correntes de fuga do dreno do Diamante SOI nMOSFET em altas temperaturas
title_fullStr Estudo do comportamento das correntes de fuga do dreno do Diamante SOI nMOSFET em altas temperaturas
title_full_unstemmed Estudo do comportamento das correntes de fuga do dreno do Diamante SOI nMOSFET em altas temperaturas
title_sort Estudo do comportamento das correntes de fuga do dreno do Diamante SOI nMOSFET em altas temperaturas
author Carvalho, Daniel Belo de
author_facet Carvalho, Daniel Belo de
author_role author
dc.contributor.author.fl_str_mv Carvalho, Daniel Belo de
dc.contributor.advisor1.fl_str_mv Bellodi, Marcello
contributor_str_mv Bellodi, Marcello
dc.subject.por.fl_str_mv Transistor de efeito de campo de metal-óxido semicondutor
topic Transistor de efeito de campo de metal-óxido semicondutor
publishDate 2012
dc.date.issued.fl_str_mv 2012
dc.date.accessioned.fl_str_mv 2019-03-21T12:32:12Z
dc.date.available.fl_str_mv 2019-03-21T12:32:12Z
dc.type.status.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.type.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/masterThesis
format masterThesis
status_str publishedVersion
dc.identifier.citation.fl_str_mv CARVALHO, Daniel Belo de. <b> Estudo do comportamento das correntes de fuga do dreno do Diamante SOI nMOSFET em altas temperaturas. </b> 2012. 119 f. Dissertação (Mestrado em Engenharia Elétrica) - Centro Universitário da FEI, São Bernardo do Campo, 2012 Disponível em: <http://sofia.fei.edu.br/tede/tde_busca/arquivo.php?codArquivo=274>. Acesso em: 30 out. 2012.
dc.identifier.uri.fl_str_mv https://repositorio.fei.edu.br/handle/FEI/662
identifier_str_mv CARVALHO, Daniel Belo de. <b> Estudo do comportamento das correntes de fuga do dreno do Diamante SOI nMOSFET em altas temperaturas. </b> 2012. 119 f. Dissertação (Mestrado em Engenharia Elétrica) - Centro Universitário da FEI, São Bernardo do Campo, 2012 Disponível em: <http://sofia.fei.edu.br/tede/tde_busca/arquivo.php?codArquivo=274>. Acesso em: 30 out. 2012.
url https://repositorio.fei.edu.br/handle/FEI/662
dc.language.iso.fl_str_mv por
pt_BR
language por
language_invalid_str_mv pt_BR
dc.rights.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
eu_rights_str_mv openAccess
dc.publisher.none.fl_str_mv Centro Universitário da FEI, São Bernardo do Campo
publisher.none.fl_str_mv Centro Universitário da FEI, São Bernardo do Campo
dc.source.none.fl_str_mv reponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da FEI
instname:Centro Universitário da Fundação Educacional Inaciana (FEI)
instacron:FEI
instname_str Centro Universitário da Fundação Educacional Inaciana (FEI)
instacron_str FEI
institution FEI
reponame_str Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da FEI
collection Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da FEI
bitstream.url.fl_str_mv https://repositorio.fei.edu.br/bitstream/FEI/662/2/fulltext.pdf
https://repositorio.fei.edu.br/bitstream/FEI/662/3/fulltext.pdf.txt
https://repositorio.fei.edu.br/bitstream/FEI/662/4/fulltext.pdf.jpg
bitstream.checksum.fl_str_mv bd4a1130c5eeddf1003b9cf24929c493
eaaef538c99623bace8c6c924a820a33
dffd193bca6f938370b0297b6547a520
bitstream.checksumAlgorithm.fl_str_mv MD5
MD5
MD5
repository.name.fl_str_mv
repository.mail.fl_str_mv
_version_ 1734750991524298752

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