FUV: foto expositora ultravioleta para produção de placas de circuito impresso

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Silva, Gabriela Tabita da
Data de Publicação: 2018
Outros Autores: http://lattes.cnpq.br/7744217581273525, Duarte, Luciana Mirelly Gomes
Tipo de documento: Trabalho de conclusão de curso
Idioma: por
Título da fonte: Repositório Institucional Memoria (IFRN)
Texto Completo: http://memoria.ifrn.edu.br/handle/1044/1578
Resumo: No âmbito da eletrônica e nos campos de estudos acadêmicos atrelados a ela, a produção de placas de circuitos impressos, conhecidas como PCIs, é inegavelmente uma grande necessidade. Com isso, se faz necessário a obtenção de aparatos que possibilitem a confecção das PCIs com um maior rigor e qualidade, tendo em vista que o investimento em mecanismos de pesquisa oportuniza o fomento das atividades. Tais constatações levaram ao desenvolvimento do projeto FUV, cujo objetivo foi desenvolver um equipamento semi-automático para a realização da etapa de transferência de layouts à placa através da técnica de fotolitografia - fotoexposição a radiação ultravioleta (UV), de modo a oferecer funcionalidade e otimização no desenvolvimento de projetos de ensino e pesquisa no âmbito do IFRN. Este trabalho divide-se em duas grandes partes: O algoritmo, parte fundamental do equipamento e que refere-se ao código responsável pelo controle do sistema, e o hardware que, por sua vez, é subdividido em três pequenas partes: Os recursos relacionados a iluminação e sua manutenção, o recurso de controle e os elementos de interface com o usuário. Após produzido, o sistema apresentou excelentes resultados, demonstrando êxito tanto no funcionamento eletroeletrônico como um todo quanto na confecção das PCIs. Nesse ponto em específico, diante dos testes executados, o equipamento mostrou-se apto a confecção de placas single side e double side, permitindo a fabricação de trilhas com espessura mínima de 0,203 mm, evidenciando consequentemente sua utilidade na execução de projetos de sistemas eletrônicos com dimensões físicas reduzidas, permitindo inclusive o desenvolvimento de placas com tecnologia de montagem em superfície (SMT), entre outras possibilidades de uso. Trazendo assim, um saldo indiscutivelmente positivo em relação àquilo que foi proposto. Palavras-chave: Placa de Circuito Impresso. Fotolitografia. Fotoexposição. Impressão UV.
id IFRN_9e0ab2698d1dabaa41f402c7596a8680
oai_identifier_str oai:localhost:1044/1578
network_acronym_str IFRN
network_name_str Repositório Institucional Memoria (IFRN)
repository_id_str
spelling 2018-11-19T13:48:58Z2018-11-19T13:48:58Z2018-04-03SILVA, Gabriela Tabita da; DUARTE, Luciana Mirelly Gomes. FUV: foto expositora ultravioleta para produção de placas de circuito impresso. 2017. 111f. Trabalho de Conclusão de Curso (Técnico em Eletrônica) – Instituto Federal de Educação, Ciência e Tecnologia do Rio Grande do Norte, Natal, 2017.http://memoria.ifrn.edu.br/handle/1044/1578Submitted by Jair Fernandes de Souza (jair.fernandes@ifrn.edu.br) on 2018-09-21T14:42:39Z No. of bitstreams: 1 FUV - Fotoexpositora Ultravioleta. Relatório Final.pdf: 4291310 bytes, checksum: aa667ba09de6f8fe5e0d3f381b055105 (MD5)Approved for entry into archive by Vanessa Oliveira de Macedo Cavalcanti (vanessa.cavalcanti@ifrn.edu.br) on 2018-11-19T13:48:58Z (GMT) No. of bitstreams: 1 FUV - Fotoexpositora Ultravioleta. Relatório Final.pdf: 4291310 bytes, checksum: aa667ba09de6f8fe5e0d3f381b055105 (MD5)Made available in DSpace on 2018-11-19T13:48:58Z (GMT). No. of bitstreams: 1 FUV - Fotoexpositora Ultravioleta. Relatório Final.pdf: 4291310 bytes, checksum: aa667ba09de6f8fe5e0d3f381b055105 (MD5) Previous issue date: 2018-04-03No âmbito da eletrônica e nos campos de estudos acadêmicos atrelados a ela, a produção de placas de circuitos impressos, conhecidas como PCIs, é inegavelmente uma grande necessidade. Com isso, se faz necessário a obtenção de aparatos que possibilitem a confecção das PCIs com um maior rigor e qualidade, tendo em vista que o investimento em mecanismos de pesquisa oportuniza o fomento das atividades. Tais constatações levaram ao desenvolvimento do projeto FUV, cujo objetivo foi desenvolver um equipamento semi-automático para a realização da etapa de transferência de layouts à placa através da técnica de fotolitografia - fotoexposição a radiação ultravioleta (UV), de modo a oferecer funcionalidade e otimização no desenvolvimento de projetos de ensino e pesquisa no âmbito do IFRN. Este trabalho divide-se em duas grandes partes: O algoritmo, parte fundamental do equipamento e que refere-se ao código responsável pelo controle do sistema, e o hardware que, por sua vez, é subdividido em três pequenas partes: Os recursos relacionados a iluminação e sua manutenção, o recurso de controle e os elementos de interface com o usuário. Após produzido, o sistema apresentou excelentes resultados, demonstrando êxito tanto no funcionamento eletroeletrônico como um todo quanto na confecção das PCIs. Nesse ponto em específico, diante dos testes executados, o equipamento mostrou-se apto a confecção de placas single side e double side, permitindo a fabricação de trilhas com espessura mínima de 0,203 mm, evidenciando consequentemente sua utilidade na execução de projetos de sistemas eletrônicos com dimensões físicas reduzidas, permitindo inclusive o desenvolvimento de placas com tecnologia de montagem em superfície (SMT), entre outras possibilidades de uso. Trazendo assim, um saldo indiscutivelmente positivo em relação àquilo que foi proposto. Palavras-chave: Placa de Circuito Impresso. Fotolitografia. Fotoexposição. Impressão UV.porInstituto Federal de Educação, Ciência e Tecnologia do Rio Grande do NorteIFRNBrasilNatal - Zona NorteCNPQ::ENGENHARIASPlaca de circuito impressoFotolitografiaFotoexposiçãoImpressão UVFUV: foto expositora ultravioleta para produção de placas de circuito impressoinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/bachelorThesisSouza, Jair Fernandes dehttp://lattes.cnpq.br/3907353314468789Souza, Jair Fernandes deLima, Roberto Rodrigues CunhaNascimento, Pedro Ivo de Araújo dohttp://lattes.cnpq.br/8210200432056762Silva, Gabriela Tabita dahttp://lattes.cnpq.br/7744217581273525Duarte, Luciana Mirelly Gomesinfo:eu-repo/semantics/openAccessreponame:Repositório Institucional Memoria (IFRN)instname:Instituto Federal do Rio Grande do Norte (IFRN)instacron:IFRNTHUMBNAILFUVfotoexpositora_ silva_duarte_2017.pdf.jpgFUVfotoexpositora_ silva_duarte_2017.pdf.jpgIM Thumbnailimage/jpeg5023http://localhost:8080/xmlui/bitstream/1044/1578/5/FUVfotoexpositora_+silva_duarte_2017.pdf.jpg8b162543b19c9d9b91b485330e752bf6MD55TEXTFUVfotoexpositora_ silva_duarte_2017.pdf.txtFUVfotoexpositora_ silva_duarte_2017.pdf.txtExtracted texttext/plain162337http://localhost:8080/xmlui/bitstream/1044/1578/4/FUVfotoexpositora_+silva_duarte_2017.pdf.txte0165bd60caed4d3f30eafc8104464c5MD54LICENSElicense.txtlicense.txttext/plain; charset=utf-81748http://localhost:8080/xmlui/bitstream/1044/1578/2/license.txt8a4605be74aa9ea9d79846c1fba20a33MD52ORIGINALFUVfotoexpositora_ silva_duarte_2017.pdfFUVfotoexpositora_ silva_duarte_2017.pdfapplication/pdf4291310http://localhost:8080/xmlui/bitstream/1044/1578/3/FUVfotoexpositora_+silva_duarte_2017.pdfaa667ba09de6f8fe5e0d3f381b055105MD531044/15782018-11-19 11:00:18.352oai:localhost: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Repositório InstitucionalPUBhttps://memoria.ifrn.edu.br/oai/memoria@ifrn.edu.bropendoar:2018-11-19T14:00:18Repositório Institucional Memoria (IFRN) - Instituto Federal do Rio Grande do Norte (IFRN)false
dc.title.pt_BR.fl_str_mv FUV: foto expositora ultravioleta para produção de placas de circuito impresso
title FUV: foto expositora ultravioleta para produção de placas de circuito impresso
spellingShingle FUV: foto expositora ultravioleta para produção de placas de circuito impresso
Silva, Gabriela Tabita da
CNPQ::ENGENHARIAS
Placa de circuito impresso
Fotolitografia
Fotoexposição
Impressão UV
title_short FUV: foto expositora ultravioleta para produção de placas de circuito impresso
title_full FUV: foto expositora ultravioleta para produção de placas de circuito impresso
title_fullStr FUV: foto expositora ultravioleta para produção de placas de circuito impresso
title_full_unstemmed FUV: foto expositora ultravioleta para produção de placas de circuito impresso
title_sort FUV: foto expositora ultravioleta para produção de placas de circuito impresso
author Silva, Gabriela Tabita da
author_facet Silva, Gabriela Tabita da
http://lattes.cnpq.br/7744217581273525
Duarte, Luciana Mirelly Gomes
author_role author
author2 http://lattes.cnpq.br/7744217581273525
Duarte, Luciana Mirelly Gomes
author2_role author
author
dc.contributor.advisor1.fl_str_mv Souza, Jair Fernandes de
dc.contributor.advisor1Lattes.fl_str_mv http://lattes.cnpq.br/3907353314468789
dc.contributor.referee1.fl_str_mv Souza, Jair Fernandes de
dc.contributor.referee2.fl_str_mv Lima, Roberto Rodrigues Cunha
dc.contributor.referee3.fl_str_mv Nascimento, Pedro Ivo de Araújo do
dc.contributor.authorLattes.fl_str_mv http://lattes.cnpq.br/8210200432056762
dc.contributor.author.fl_str_mv Silva, Gabriela Tabita da
http://lattes.cnpq.br/7744217581273525
Duarte, Luciana Mirelly Gomes
contributor_str_mv Souza, Jair Fernandes de
Souza, Jair Fernandes de
Lima, Roberto Rodrigues Cunha
Nascimento, Pedro Ivo de Araújo do
dc.subject.cnpq.fl_str_mv CNPQ::ENGENHARIAS
topic CNPQ::ENGENHARIAS
Placa de circuito impresso
Fotolitografia
Fotoexposição
Impressão UV
dc.subject.por.fl_str_mv Placa de circuito impresso
Fotolitografia
Fotoexposição
Impressão UV
description No âmbito da eletrônica e nos campos de estudos acadêmicos atrelados a ela, a produção de placas de circuitos impressos, conhecidas como PCIs, é inegavelmente uma grande necessidade. Com isso, se faz necessário a obtenção de aparatos que possibilitem a confecção das PCIs com um maior rigor e qualidade, tendo em vista que o investimento em mecanismos de pesquisa oportuniza o fomento das atividades. Tais constatações levaram ao desenvolvimento do projeto FUV, cujo objetivo foi desenvolver um equipamento semi-automático para a realização da etapa de transferência de layouts à placa através da técnica de fotolitografia - fotoexposição a radiação ultravioleta (UV), de modo a oferecer funcionalidade e otimização no desenvolvimento de projetos de ensino e pesquisa no âmbito do IFRN. Este trabalho divide-se em duas grandes partes: O algoritmo, parte fundamental do equipamento e que refere-se ao código responsável pelo controle do sistema, e o hardware que, por sua vez, é subdividido em três pequenas partes: Os recursos relacionados a iluminação e sua manutenção, o recurso de controle e os elementos de interface com o usuário. Após produzido, o sistema apresentou excelentes resultados, demonstrando êxito tanto no funcionamento eletroeletrônico como um todo quanto na confecção das PCIs. Nesse ponto em específico, diante dos testes executados, o equipamento mostrou-se apto a confecção de placas single side e double side, permitindo a fabricação de trilhas com espessura mínima de 0,203 mm, evidenciando consequentemente sua utilidade na execução de projetos de sistemas eletrônicos com dimensões físicas reduzidas, permitindo inclusive o desenvolvimento de placas com tecnologia de montagem em superfície (SMT), entre outras possibilidades de uso. Trazendo assim, um saldo indiscutivelmente positivo em relação àquilo que foi proposto. Palavras-chave: Placa de Circuito Impresso. Fotolitografia. Fotoexposição. Impressão UV.
publishDate 2018
dc.date.accessioned.fl_str_mv 2018-11-19T13:48:58Z
dc.date.available.fl_str_mv 2018-11-19T13:48:58Z
dc.date.issued.fl_str_mv 2018-04-03
dc.type.status.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.type.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/bachelorThesis
format bachelorThesis
status_str publishedVersion
dc.identifier.citation.fl_str_mv SILVA, Gabriela Tabita da; DUARTE, Luciana Mirelly Gomes. FUV: foto expositora ultravioleta para produção de placas de circuito impresso. 2017. 111f. Trabalho de Conclusão de Curso (Técnico em Eletrônica) – Instituto Federal de Educação, Ciência e Tecnologia do Rio Grande do Norte, Natal, 2017.
dc.identifier.uri.fl_str_mv http://memoria.ifrn.edu.br/handle/1044/1578
identifier_str_mv SILVA, Gabriela Tabita da; DUARTE, Luciana Mirelly Gomes. FUV: foto expositora ultravioleta para produção de placas de circuito impresso. 2017. 111f. Trabalho de Conclusão de Curso (Técnico em Eletrônica) – Instituto Federal de Educação, Ciência e Tecnologia do Rio Grande do Norte, Natal, 2017.
url http://memoria.ifrn.edu.br/handle/1044/1578
dc.language.iso.fl_str_mv por
language por
dc.rights.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
eu_rights_str_mv openAccess
dc.publisher.none.fl_str_mv Instituto Federal de Educação, Ciência e Tecnologia do Rio Grande do Norte
dc.publisher.initials.fl_str_mv IFRN
dc.publisher.country.fl_str_mv Brasil
dc.publisher.department.fl_str_mv Natal - Zona Norte
publisher.none.fl_str_mv Instituto Federal de Educação, Ciência e Tecnologia do Rio Grande do Norte
dc.source.none.fl_str_mv reponame:Repositório Institucional Memoria (IFRN)
instname:Instituto Federal do Rio Grande do Norte (IFRN)
instacron:IFRN
instname_str Instituto Federal do Rio Grande do Norte (IFRN)
instacron_str IFRN
institution IFRN
reponame_str Repositório Institucional Memoria (IFRN)
collection Repositório Institucional Memoria (IFRN)
bitstream.url.fl_str_mv http://localhost:8080/xmlui/bitstream/1044/1578/5/FUVfotoexpositora_+silva_duarte_2017.pdf.jpg
http://localhost:8080/xmlui/bitstream/1044/1578/4/FUVfotoexpositora_+silva_duarte_2017.pdf.txt
http://localhost:8080/xmlui/bitstream/1044/1578/2/license.txt
http://localhost:8080/xmlui/bitstream/1044/1578/3/FUVfotoexpositora_+silva_duarte_2017.pdf
bitstream.checksum.fl_str_mv 8b162543b19c9d9b91b485330e752bf6
e0165bd60caed4d3f30eafc8104464c5
8a4605be74aa9ea9d79846c1fba20a33
aa667ba09de6f8fe5e0d3f381b055105
bitstream.checksumAlgorithm.fl_str_mv MD5
MD5
MD5
MD5
repository.name.fl_str_mv Repositório Institucional Memoria (IFRN) - Instituto Federal do Rio Grande do Norte (IFRN)
repository.mail.fl_str_mv memoria@ifrn.edu.br
_version_ 1797135042606006272