Aplicacao da fluorescencia de raios X (WDXRF): determinacao da espessura e composicao quimica de filmes finos

• Autor(a) principal: SCAPIN, VALDIRENE de O.
• Data de Publicação: 2004
• Tipo de documento: Dissertação
• Título da fonte: Repositório Institucional do IPEN
• Texto Completo: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/11157
• topic: thin films; thickness; chemical composition; x-ray fluorescence analysis

Neste trabalho ?? descrito um procedimento para a determina????o quantitativa da espessura e composi????o qu??mica de filmes finos, por fluoresc??ncia de raios X por dispers??o de comprimento de onda (WDXRFS), utilizando-se o m??todo de Par??metros Fundamentais (FP). Este m??todo foi validado dentro dos padr??es de garantia de qualidade e aplicado as amostras de Al, Cr, TiO2, Ni, ZrO2 (monocamada) e Ni/Cr (duplacamada) sobre vidro; Ni sobre a??o inoxid??vel e zinco met??lico e TiO2 sobre ferro met??lico (monocamada), as quais foram preparadas por deposi????o f??sica de vapor (PVD). Os resultados das espessuras foram comparados com os m??todos de Absor????o (FRX-A) e Retroespalhamento de Rutherford (RBS), demonstrando a efici??ncia do m??todo de par??metros fundamentais. As caracter??sticas estruturais das amostras foram analisadas por difra????o de raios X (DRX) e mostraram que os mesmos n??o influenciam nas determina????es das espessuras.