Caracteriza????o de filmes de TiO2, N:TiO2 e TiO2/N:TiO2 obtidos por deposi????o qu??mica de organomet??licos em fase vapor
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Data de Publicação: | 2017 |
Tipo de documento: | Dissertação |
Título da fonte: | Repositório Institucional do IPEN |
Texto Completo: | http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/29420 |
Resumo: | Filmes finos de TiO2 e N:TiO2, e multicamadas TiO2/N:TiO2 foram crescidos sobre substratos de a??o AISI 316 e Si(100), por meio da t??cnica de deposi????o qu??mica de organomet??licos em fase vapor (MOCVD). Foram produzidos filmes com diferentes espessuras, nas temperaturas de 400 e 500??C. Os filmes foram caracterizados utilizando-se t??cnicas de difra????o de raios X (DRX), espectroscopia de fotoel??trons excitados por raios x (XPS) e microscopia eletr??nica de varredura (MEV). A resist??ncia ?? corros??o foi avaliada por meio de testes de polariza????o potenciodin??mica em eletr??lito 3,5%p NaCl. Filmes n??o dopados, crescidos a 400??C, apresentaram TiO2 anatase, enquanto que os crescidos a 500??C apresentaram a fase rutilo, al??m de anatase. Nos filmes dopados com nitrog??nio (7,29 e 8,29 at% a 400 e 500??C, respectivamente), em ambas as temperaturas, houve a forma????o de TiO2 anatase, bem como de fases contendo nitrog??nio. Os filmes de TiO2 crescidos a 400??C ofereceram melhor prote????o contra a corros??o que os crescidos a 500??C. Filmes crescidos a 500??C apresentaram estrutura colunar, que representa alto n??vel de porosidade, enquanto que os filmes crescidos a 400??C apresentaram estrutura mais densa. A dopagem n??o foi eficiente para proteger o substrato contra corros??o, provavelmente devido ?? forma????o das fases contendo nitrog??nio. Os resultados para os testes com filmes compostos por multicamadas sugerem que aqueles com mais interfaces apresentam melhor resist??ncia ?? corros??o. O processo de corros??o das amostras se inicia na superf??cie do filme, que est?? em contato com o meio agressivo, originando pites, que permitem ao meio corrosivo acessar o substrato met??lico. O metal ?? atacado e dissolvido sob o filme, e resulta na delamina????o do filme. |
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Marina Fuser PillisSOUZA FILHO, EDVAN A. de20172019-01-31T14:27:33Z2019-01-31T14:27:33Zhttp://repositorio.ipen.br/handle/123456789/2942010.11606/D.85.2018.tde-15062018-105555Filmes finos de TiO2 e N:TiO2, e multicamadas TiO2/N:TiO2 foram crescidos sobre substratos de a??o AISI 316 e Si(100), por meio da t??cnica de deposi????o qu??mica de organomet??licos em fase vapor (MOCVD). Foram produzidos filmes com diferentes espessuras, nas temperaturas de 400 e 500??C. Os filmes foram caracterizados utilizando-se t??cnicas de difra????o de raios X (DRX), espectroscopia de fotoel??trons excitados por raios x (XPS) e microscopia eletr??nica de varredura (MEV). A resist??ncia ?? corros??o foi avaliada por meio de testes de polariza????o potenciodin??mica em eletr??lito 3,5%p NaCl. Filmes n??o dopados, crescidos a 400??C, apresentaram TiO2 anatase, enquanto que os crescidos a 500??C apresentaram a fase rutilo, al??m de anatase. Nos filmes dopados com nitrog??nio (7,29 e 8,29 at% a 400 e 500??C, respectivamente), em ambas as temperaturas, houve a forma????o de TiO2 anatase, bem como de fases contendo nitrog??nio. Os filmes de TiO2 crescidos a 400??C ofereceram melhor prote????o contra a corros??o que os crescidos a 500??C. Filmes crescidos a 500??C apresentaram estrutura colunar, que representa alto n??vel de porosidade, enquanto que os filmes crescidos a 400??C apresentaram estrutura mais densa. A dopagem n??o foi eficiente para proteger o substrato contra corros??o, provavelmente devido ?? forma????o das fases contendo nitrog??nio. Os resultados para os testes com filmes compostos por multicamadas sugerem que aqueles com mais interfaces apresentam melhor resist??ncia ?? corros??o. O processo de corros??o das amostras se inicia na superf??cie do filme, que est?? em contato com o meio agressivo, originando pites, que permitem ao meio corrosivo acessar o substrato met??lico. O metal ?? atacado e dissolvido sob o filme, e resulta na delamina????o do filme.Submitted by Pedro Silva Filho (pfsilva@ipen.br) on 2019-01-31T14:27:33Z No. of bitstreams: 0Made available in DSpace on 2019-01-31T14:27:33Z (GMT). No. of bitstreams: 0Disserta????o (Mestrado em Tecnologia Nuclear)IPEN/DInstituto de Pesquisas Energ??ticas e Nucleares - IPEN-CNEN/SP87titanium oxidesfilmsthin filmsdoped materialschemical vapor depositionsite characterizationCaracteriza????o de filmes de TiO2, N:TiO2 e TiO2/N:TiO2 obtidos por deposi????o qu??mica de organomet??licos em fase vaporCharacterization of TiO2, N:TiO2 and TiO2/N:TiO2 films obtained by metallorganic chemical vapor depositioninfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisNS??o Pauloinfo:eu-repo/semantics/openAccessreponame:Repositório Institucional do IPENinstname:Instituto de Pesquisas Energéticas e Nucleares (IPEN)instacron:IPEN25219SOUZA FILHO, EDVAN A. de19-01http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/85/85134/tde-15062018-105555/pt-br.php11586SOUZA FILHO, EDVAN A. 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