Filmes finos de óxidos metálicos estudo e aplicações

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Parreira, Pedro Miguel Raimundo
Data de Publicação: 2011
Tipo de documento: Dissertação
Idioma: por
Título da fonte: Repositório Científico de Acesso Aberto de Portugal (Repositórios Cientìficos)
Texto Completo: http://hdl.handle.net/10362/7029
Resumo: Dissertação para obtenção do Grau de Mestre em Engenharia de Materiais
id RCAP_67617bea41c02be375ed89684c1e18db
oai_identifier_str oai:run.unl.pt:10362/7029
network_acronym_str RCAP
network_name_str Repositório Científico de Acesso Aberto de Portugal (Repositórios Cientìficos)
repository_id_str 7160
spelling Filmes finos de óxidos metálicos estudo e aplicaçõesDissertação para obtenção do Grau de Mestre em Engenharia de MateriaisNesta dissertação são apresentados alguns estudos sobre diferentes óxidos metálicos: Óxido de estanho (SnOx), óxido de índio (InOx), óxido de cobre (CuxO) e óxido de titânio (TiOx). Com o óxido de estanho e o óxido de índio pretendeu-se averiguar a influência de diferentes tipos de recozimentos (diferentes atmosferas e temperaturas) nas suas propriedades optoelectrónicas. Foram estudados também vários parâmetros experimentais na tentativa de obter filmes finos condutores (tipo-n) e transparentes com bons valores de condutividade eléctrica e transmitância óptica no visível. Para o óxido de cobre o objectivo foi a determinação de condições experimentais que dão origem a um semicondutor transparente (do tipo-p) para futura integração em circuitos CMOS transparentes depositados à temperatura ambiente. Finalmente, é apresentado um estudo acerca de óxido de titânio nanoestruturado para integração em células fotovoltaicas de terceira geração. Para os óxidos de estanho, índio e cobre foi utilizado o sistema de evaporação térmica reactiva assistida por plasma enquanto que para o óxido de titânio foi utilizado um sistema de pulverização catódica reactiva pulsada. Para todos os materiais aqui apresentados foram desenvolvidas condições experimentais que por estarem associadas a baixas temperaturas possibilitam a deposição de filmes finos de óxidos metálicos em substratos flexíveis poliméricos.Faculdade de Ciências e TecnologiaCarvalho, CarlosRUNParreira, Pedro Miguel Raimundo2012-02-14T09:31:20Z20112011-01-01T00:00:00Zinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisapplication/pdfhttp://hdl.handle.net/10362/7029porinfo:eu-repo/semantics/openAccessreponame:Repositório Científico de Acesso Aberto de Portugal (Repositórios Cientìficos)instname:Agência para a Sociedade do Conhecimento (UMIC) - FCT - Sociedade da Informaçãoinstacron:RCAAP2024-03-11T03:38:34Zoai:run.unl.pt:10362/7029Portal AgregadorONGhttps://www.rcaap.pt/oai/openaireopendoar:71602024-03-20T03:17:10.338032Repositório Científico de Acesso Aberto de Portugal (Repositórios Cientìficos) - Agência para a Sociedade do Conhecimento (UMIC) - FCT - Sociedade da Informaçãofalse
dc.title.none.fl_str_mv Filmes finos de óxidos metálicos estudo e aplicações
title Filmes finos de óxidos metálicos estudo e aplicações
spellingShingle Filmes finos de óxidos metálicos estudo e aplicações
Parreira, Pedro Miguel Raimundo
title_short Filmes finos de óxidos metálicos estudo e aplicações
title_full Filmes finos de óxidos metálicos estudo e aplicações
title_fullStr Filmes finos de óxidos metálicos estudo e aplicações
title_full_unstemmed Filmes finos de óxidos metálicos estudo e aplicações
title_sort Filmes finos de óxidos metálicos estudo e aplicações
author Parreira, Pedro Miguel Raimundo
author_facet Parreira, Pedro Miguel Raimundo
author_role author
dc.contributor.none.fl_str_mv Carvalho, Carlos
RUN
dc.contributor.author.fl_str_mv Parreira, Pedro Miguel Raimundo
description Dissertação para obtenção do Grau de Mestre em Engenharia de Materiais
publishDate 2011
dc.date.none.fl_str_mv 2011
2011-01-01T00:00:00Z
2012-02-14T09:31:20Z
dc.type.status.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.type.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/masterThesis
format masterThesis
status_str publishedVersion
dc.identifier.uri.fl_str_mv http://hdl.handle.net/10362/7029
url http://hdl.handle.net/10362/7029
dc.language.iso.fl_str_mv por
language por
dc.rights.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
eu_rights_str_mv openAccess
dc.format.none.fl_str_mv application/pdf
dc.publisher.none.fl_str_mv Faculdade de Ciências e Tecnologia
publisher.none.fl_str_mv Faculdade de Ciências e Tecnologia
dc.source.none.fl_str_mv reponame:Repositório Científico de Acesso Aberto de Portugal (Repositórios Cientìficos)
instname:Agência para a Sociedade do Conhecimento (UMIC) - FCT - Sociedade da Informação
instacron:RCAAP
instname_str Agência para a Sociedade do Conhecimento (UMIC) - FCT - Sociedade da Informação
instacron_str RCAAP
institution RCAAP
reponame_str Repositório Científico de Acesso Aberto de Portugal (Repositórios Cientìficos)
collection Repositório Científico de Acesso Aberto de Portugal (Repositórios Cientìficos)
repository.name.fl_str_mv Repositório Científico de Acesso Aberto de Portugal (Repositórios Cientìficos) - Agência para a Sociedade do Conhecimento (UMIC) - FCT - Sociedade da Informação
repository.mail.fl_str_mv
_version_ 1799137819860402176

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