Tratamento de efluentes da indústria farmacêutica por processos avançados de oxidação

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Dias, Jorge Agostinho Ferreira
Data de Publicação: 2010
Tipo de documento: Dissertação
Idioma: por
Título da fonte: Repositório Científico de Acesso Aberto de Portugal (Repositórios Cientìficos)
Texto Completo: http://hdl.handle.net/10198/2851
Resumo: Neste trabalho, estudou-se a hipótese de tratamento de um efluente real proveniente de uma unidade industrial farmacêutica (CQO ≈ 12000 ppm; TOC ≈ 4500 ppm), por processos avançados de oxidação, mais especificamente, por oxidação por via húmida (WAO) e catalítica (CWAO), oxidação fotoquímica no ultravioleta (UV), no ultravioletavisível na ausência (UV-Vis) e na presença de um co oxidante (UV-Vis/H2O2), foto-Fenton (UV-Vis/H2O2/Fe2+), oxidação fotocatalítica no ultravioleta-visível UV-Vis/TiO2, e no ultravioleta (UV/TiO2). No ensaio de WAO, obteve-se uma remoção de TOC de 21% após 180 min de reacção. Nos ensaios de CWAO, utilizaram-se como catalisadores, xerogeis de carbono, preparados por policondensação do resorcinol com formaldeído e catalisadores de platina suportada em xerogel de carbono. Com estes catalisadores, obteve-se uma remoção de TOC de 18% e 27%, respectivamente. Nos ensaios de UV-Vis e UV-Vis/H2O2, foram obtidos bons resultados, principalmente para o ensaio de UV-Vis, onde foi possível uma remoção de TOC de 53%. A adição de H2O2 ao processo conduziu a uma ligeira diminuição na remoção de TOC. Considerando a utilização do catalisador de TiO2, um material semicondutor, em alternativa à adição de H2O2 no processo UV-Vis (UV-Vis/TiO2), a remoção de TOC obtida após 180 min foi de 50%. Os melhores resultados, em termos de remoção de TOC foram obtidos com a utilização do processo foto-Fenton (UV-Vis/H2O2/Fe2+), com uma remoção de TOC de 58% (4500 mg L-1 H2O2; 75 mg L-1 Fe2+). Para os ensaios com a utilização de radiação UV (UV e UV/TiO2), o melhor resultado foi obtido com a utilização do processo UV/TiO2, com 33% de remoção de TOC. Estudos realizados com efluente diluído 10X, por UV-Vis, UV-Vis/TiO2 e na ausência de radiação, permitiu concluir que não existem melhorias relativamente aos melhores resultados obtidos com o efluente não diluído, sendo que o processo UV-Vis se destacou com 56% na remoção de TOC. In this work, the main objective was to study the possibility of treating a real effluent from a pharmaceutical plant (COD ≈ 12,000 ppm and TOC ≈ 4500 ppm) by different advanced oxidation processes, more specifically, by wet air oxidation (WAO) and catalytic wet air oxidation (CWAO), photochemical oxidation with ultraviolet irradiation (UV), ultraviolet-visible (UV-Vis) and ultraviolet-visible in the presence of a co oxidant (UV-Vis/H2O2), photo-Fenton (UV-Vis/H2O2/Fe2+), ultraviolet-visible photocatalytic oxidation (UV-Vis/TiO2), and ultraviolet photocatalytic oxidation (UV/TiO2). In the WAO test, a TOC removal of 21% after 180 min of reaction was obtained. In the CWAO tests, carbon xerogels prepared by polycondensation of resorcinol with formaldehyde and platinum supported on carbon xerogel were used as catalysts. TOC removals of 18% and 27% after 180 min was obtained when using the carbon xerogel and the platinum supported carbon xerogel catalysts, respectively. In the tests carried out with UV-Vis and UV-Vis/H2O2, promising results were obtained, mainly with UV-Vis, where a TOC removal of 53% after 180 min of reaction was achieved. The addition of H2O2 to the process led to a slight decrease in TOC removal. Considering the use of a TiO2 catalyst, a semiconductor material, as an alternative to the addition of H2O2, in the UV-Vis (UV-Vis/TiO2) process, the TOC removal after 180 min was 50%. The best results in terms of TOC removal were obtained using the photo-Fenton process (UV-Vis/H2O2/Fe2+), with a TOC removal of 58% (4500 mg L-1 H2O2, 75 mg L-1 Fe2+ ) after 180 min of reaction. For the tests considering the use of UV radiation (UV and UV/TiO2), the best result were obtained using the UV/TiO2 process, with 33% removal of TOC after 180 min of reaction. Degradation studies by UV-Vis, and UV-Vis/TiO2 in the absence of light, considering the effluent diluted 10-fold, concluded that there are no improvements to the best results obtained with the undiluted effluent: the UV-Vis process was able to remove 56% of TOC after 180 min of reaction.
id RCAP_78c00732c328bb08d5202142fd668acf
oai_identifier_str oai:bibliotecadigital.ipb.pt:10198/2851
network_acronym_str RCAP
network_name_str Repositório Científico de Acesso Aberto de Portugal (Repositórios Cientìficos)
repository_id_str 7160
spelling Tratamento de efluentes da indústria farmacêutica por processos avançados de oxidaçãoEfluentes da indústria farmacêuticaProcessos avançados de oxidaçãoFoto-FentonCWAONeste trabalho, estudou-se a hipótese de tratamento de um efluente real proveniente de uma unidade industrial farmacêutica (CQO ≈ 12000 ppm; TOC ≈ 4500 ppm), por processos avançados de oxidação, mais especificamente, por oxidação por via húmida (WAO) e catalítica (CWAO), oxidação fotoquímica no ultravioleta (UV), no ultravioletavisível na ausência (UV-Vis) e na presença de um co oxidante (UV-Vis/H2O2), foto-Fenton (UV-Vis/H2O2/Fe2+), oxidação fotocatalítica no ultravioleta-visível UV-Vis/TiO2, e no ultravioleta (UV/TiO2). No ensaio de WAO, obteve-se uma remoção de TOC de 21% após 180 min de reacção. Nos ensaios de CWAO, utilizaram-se como catalisadores, xerogeis de carbono, preparados por policondensação do resorcinol com formaldeído e catalisadores de platina suportada em xerogel de carbono. Com estes catalisadores, obteve-se uma remoção de TOC de 18% e 27%, respectivamente. Nos ensaios de UV-Vis e UV-Vis/H2O2, foram obtidos bons resultados, principalmente para o ensaio de UV-Vis, onde foi possível uma remoção de TOC de 53%. A adição de H2O2 ao processo conduziu a uma ligeira diminuição na remoção de TOC. Considerando a utilização do catalisador de TiO2, um material semicondutor, em alternativa à adição de H2O2 no processo UV-Vis (UV-Vis/TiO2), a remoção de TOC obtida após 180 min foi de 50%. Os melhores resultados, em termos de remoção de TOC foram obtidos com a utilização do processo foto-Fenton (UV-Vis/H2O2/Fe2+), com uma remoção de TOC de 58% (4500 mg L-1 H2O2; 75 mg L-1 Fe2+). Para os ensaios com a utilização de radiação UV (UV e UV/TiO2), o melhor resultado foi obtido com a utilização do processo UV/TiO2, com 33% de remoção de TOC. Estudos realizados com efluente diluído 10X, por UV-Vis, UV-Vis/TiO2 e na ausência de radiação, permitiu concluir que não existem melhorias relativamente aos melhores resultados obtidos com o efluente não diluído, sendo que o processo UV-Vis se destacou com 56% na remoção de TOC. In this work, the main objective was to study the possibility of treating a real effluent from a pharmaceutical plant (COD ≈ 12,000 ppm and TOC ≈ 4500 ppm) by different advanced oxidation processes, more specifically, by wet air oxidation (WAO) and catalytic wet air oxidation (CWAO), photochemical oxidation with ultraviolet irradiation (UV), ultraviolet-visible (UV-Vis) and ultraviolet-visible in the presence of a co oxidant (UV-Vis/H2O2), photo-Fenton (UV-Vis/H2O2/Fe2+), ultraviolet-visible photocatalytic oxidation (UV-Vis/TiO2), and ultraviolet photocatalytic oxidation (UV/TiO2). In the WAO test, a TOC removal of 21% after 180 min of reaction was obtained. In the CWAO tests, carbon xerogels prepared by polycondensation of resorcinol with formaldehyde and platinum supported on carbon xerogel were used as catalysts. TOC removals of 18% and 27% after 180 min was obtained when using the carbon xerogel and the platinum supported carbon xerogel catalysts, respectively. In the tests carried out with UV-Vis and UV-Vis/H2O2, promising results were obtained, mainly with UV-Vis, where a TOC removal of 53% after 180 min of reaction was achieved. The addition of H2O2 to the process led to a slight decrease in TOC removal. Considering the use of a TiO2 catalyst, a semiconductor material, as an alternative to the addition of H2O2, in the UV-Vis (UV-Vis/TiO2) process, the TOC removal after 180 min was 50%. The best results in terms of TOC removal were obtained using the photo-Fenton process (UV-Vis/H2O2/Fe2+), with a TOC removal of 58% (4500 mg L-1 H2O2, 75 mg L-1 Fe2+ ) after 180 min of reaction. For the tests considering the use of UV radiation (UV and UV/TiO2), the best result were obtained using the UV/TiO2 process, with 33% removal of TOC after 180 min of reaction. Degradation studies by UV-Vis, and UV-Vis/TiO2 in the absence of light, considering the effluent diluted 10-fold, concluded that there are no improvements to the best results obtained with the undiluted effluent: the UV-Vis process was able to remove 56% of TOC after 180 min of reaction.Instituto Politécnico de Bragança, Escola Superior de Tecnologia e GestãoGomes, HelderFaria, Joaquim Luís Bernardes Martins deBiblioteca Digital do IPBDias, Jorge Agostinho Ferreira2010-11-19T11:29:02Z20112011-01-01T00:00:00Zinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisapplication/pdfhttp://hdl.handle.net/10198/2851TID:201456729porDias, Jorge Agostinho Ferreira (2011). Tratamento de efluentes da indústria farmacêutica por processos avançados de oxidação. Bragança: Escola Superior de Tecnologia e Gestão. Dissertação de Mestrado em Engenharia Químicainfo:eu-repo/semantics/openAccessreponame:Repositório Científico de Acesso Aberto de Portugal (Repositórios Cientìficos)instname:Agência para a Sociedade do Conhecimento (UMIC) - FCT - Sociedade da Informaçãoinstacron:RCAAP2023-11-21T10:06:59Zoai:bibliotecadigital.ipb.pt:10198/2851Portal AgregadorONGhttps://www.rcaap.pt/oai/openaireopendoar:71602024-03-19T22:55:38.224952Repositório Científico de Acesso Aberto de Portugal (Repositórios Cientìficos) - Agência para a Sociedade do Conhecimento (UMIC) - FCT - Sociedade da Informaçãofalse
dc.title.none.fl_str_mv Tratamento de efluentes da indústria farmacêutica por processos avançados de oxidação
title Tratamento de efluentes da indústria farmacêutica por processos avançados de oxidação
spellingShingle Tratamento de efluentes da indústria farmacêutica por processos avançados de oxidação
Dias, Jorge Agostinho Ferreira
Efluentes da indústria farmacêutica
Processos avançados de oxidação
Foto-Fenton
CWAO
title_short Tratamento de efluentes da indústria farmacêutica por processos avançados de oxidação
title_full Tratamento de efluentes da indústria farmacêutica por processos avançados de oxidação
title_fullStr Tratamento de efluentes da indústria farmacêutica por processos avançados de oxidação
title_full_unstemmed Tratamento de efluentes da indústria farmacêutica por processos avançados de oxidação
title_sort Tratamento de efluentes da indústria farmacêutica por processos avançados de oxidação
author Dias, Jorge Agostinho Ferreira
author_facet Dias, Jorge Agostinho Ferreira
author_role author
dc.contributor.none.fl_str_mv Gomes, Helder
Faria, Joaquim Luís Bernardes Martins de
Biblioteca Digital do IPB
dc.contributor.author.fl_str_mv Dias, Jorge Agostinho Ferreira
dc.subject.por.fl_str_mv Efluentes da indústria farmacêutica
Processos avançados de oxidação
Foto-Fenton
CWAO
topic Efluentes da indústria farmacêutica
Processos avançados de oxidação
Foto-Fenton
CWAO
description Neste trabalho, estudou-se a hipótese de tratamento de um efluente real proveniente de uma unidade industrial farmacêutica (CQO ≈ 12000 ppm; TOC ≈ 4500 ppm), por processos avançados de oxidação, mais especificamente, por oxidação por via húmida (WAO) e catalítica (CWAO), oxidação fotoquímica no ultravioleta (UV), no ultravioletavisível na ausência (UV-Vis) e na presença de um co oxidante (UV-Vis/H2O2), foto-Fenton (UV-Vis/H2O2/Fe2+), oxidação fotocatalítica no ultravioleta-visível UV-Vis/TiO2, e no ultravioleta (UV/TiO2). No ensaio de WAO, obteve-se uma remoção de TOC de 21% após 180 min de reacção. Nos ensaios de CWAO, utilizaram-se como catalisadores, xerogeis de carbono, preparados por policondensação do resorcinol com formaldeído e catalisadores de platina suportada em xerogel de carbono. Com estes catalisadores, obteve-se uma remoção de TOC de 18% e 27%, respectivamente. Nos ensaios de UV-Vis e UV-Vis/H2O2, foram obtidos bons resultados, principalmente para o ensaio de UV-Vis, onde foi possível uma remoção de TOC de 53%. A adição de H2O2 ao processo conduziu a uma ligeira diminuição na remoção de TOC. Considerando a utilização do catalisador de TiO2, um material semicondutor, em alternativa à adição de H2O2 no processo UV-Vis (UV-Vis/TiO2), a remoção de TOC obtida após 180 min foi de 50%. Os melhores resultados, em termos de remoção de TOC foram obtidos com a utilização do processo foto-Fenton (UV-Vis/H2O2/Fe2+), com uma remoção de TOC de 58% (4500 mg L-1 H2O2; 75 mg L-1 Fe2+). Para os ensaios com a utilização de radiação UV (UV e UV/TiO2), o melhor resultado foi obtido com a utilização do processo UV/TiO2, com 33% de remoção de TOC. Estudos realizados com efluente diluído 10X, por UV-Vis, UV-Vis/TiO2 e na ausência de radiação, permitiu concluir que não existem melhorias relativamente aos melhores resultados obtidos com o efluente não diluído, sendo que o processo UV-Vis se destacou com 56% na remoção de TOC. In this work, the main objective was to study the possibility of treating a real effluent from a pharmaceutical plant (COD ≈ 12,000 ppm and TOC ≈ 4500 ppm) by different advanced oxidation processes, more specifically, by wet air oxidation (WAO) and catalytic wet air oxidation (CWAO), photochemical oxidation with ultraviolet irradiation (UV), ultraviolet-visible (UV-Vis) and ultraviolet-visible in the presence of a co oxidant (UV-Vis/H2O2), photo-Fenton (UV-Vis/H2O2/Fe2+), ultraviolet-visible photocatalytic oxidation (UV-Vis/TiO2), and ultraviolet photocatalytic oxidation (UV/TiO2). In the WAO test, a TOC removal of 21% after 180 min of reaction was obtained. In the CWAO tests, carbon xerogels prepared by polycondensation of resorcinol with formaldehyde and platinum supported on carbon xerogel were used as catalysts. TOC removals of 18% and 27% after 180 min was obtained when using the carbon xerogel and the platinum supported carbon xerogel catalysts, respectively. In the tests carried out with UV-Vis and UV-Vis/H2O2, promising results were obtained, mainly with UV-Vis, where a TOC removal of 53% after 180 min of reaction was achieved. The addition of H2O2 to the process led to a slight decrease in TOC removal. Considering the use of a TiO2 catalyst, a semiconductor material, as an alternative to the addition of H2O2, in the UV-Vis (UV-Vis/TiO2) process, the TOC removal after 180 min was 50%. The best results in terms of TOC removal were obtained using the photo-Fenton process (UV-Vis/H2O2/Fe2+), with a TOC removal of 58% (4500 mg L-1 H2O2, 75 mg L-1 Fe2+ ) after 180 min of reaction. For the tests considering the use of UV radiation (UV and UV/TiO2), the best result were obtained using the UV/TiO2 process, with 33% removal of TOC after 180 min of reaction. Degradation studies by UV-Vis, and UV-Vis/TiO2 in the absence of light, considering the effluent diluted 10-fold, concluded that there are no improvements to the best results obtained with the undiluted effluent: the UV-Vis process was able to remove 56% of TOC after 180 min of reaction.
publishDate 2010
dc.date.none.fl_str_mv 2010-11-19T11:29:02Z
2011
2011-01-01T00:00:00Z
dc.type.status.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.type.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/masterThesis
format masterThesis
status_str publishedVersion
dc.identifier.uri.fl_str_mv http://hdl.handle.net/10198/2851
TID:201456729
url http://hdl.handle.net/10198/2851
identifier_str_mv TID:201456729
dc.language.iso.fl_str_mv por
language por
dc.relation.none.fl_str_mv Dias, Jorge Agostinho Ferreira (2011). Tratamento de efluentes da indústria farmacêutica por processos avançados de oxidação. Bragança: Escola Superior de Tecnologia e Gestão. Dissertação de Mestrado em Engenharia Química
dc.rights.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
eu_rights_str_mv openAccess
dc.format.none.fl_str_mv application/pdf
dc.publisher.none.fl_str_mv Instituto Politécnico de Bragança, Escola Superior de Tecnologia e Gestão
publisher.none.fl_str_mv Instituto Politécnico de Bragança, Escola Superior de Tecnologia e Gestão
dc.source.none.fl_str_mv reponame:Repositório Científico de Acesso Aberto de Portugal (Repositórios Cientìficos)
instname:Agência para a Sociedade do Conhecimento (UMIC) - FCT - Sociedade da Informação
instacron:RCAAP
instname_str Agência para a Sociedade do Conhecimento (UMIC) - FCT - Sociedade da Informação
instacron_str RCAAP
institution RCAAP
reponame_str Repositório Científico de Acesso Aberto de Portugal (Repositórios Cientìficos)
collection Repositório Científico de Acesso Aberto de Portugal (Repositórios Cientìficos)
repository.name.fl_str_mv Repositório Científico de Acesso Aberto de Portugal (Repositórios Cientìficos) - Agência para a Sociedade do Conhecimento (UMIC) - FCT - Sociedade da Informação
repository.mail.fl_str_mv
_version_ 1799135161375260672