Desenvolvimento e avaliação de uma fonte DC de alta tensão para utilização em sistema de deposição de filmes finos por pulverização catódica

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Machuno,Luís Gustavo Baptista
Data de Publicação: 2016
Outros Autores: Lima,Anderson Barbosa, Buso,Rafael Rocha, Abdanur,Rubens Miguel Favarato, Rangel,Elidiane Cipriano, Gelamo,Rogério Valentim
Tipo de documento: Artigo
Idioma: por
Título da fonte: Matéria (Rio de Janeiro. Online)
Texto Completo: http://old.scielo.br/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S1517-70762016000200492
Resumo: RESUMO O trabalho em questão está relacionado ao projeto e construção de uma fonte de alta tensão em corrente contínua utilizando materiais e dispositivos adquiridos no comércio local visando sua aplicação no processo de pulverização catódica. Essa técnica permite a deposição de filmes finos de metais, óxidos e nitretos sobre substratos sólidos. Como teste de funcionamento e aplicação da fonte DC, com a mesma instalada em canhão de pulverização em alto vácuo, filmes finos de diferentes espessuras de cobre, aço inoxidável 304 e tungstênio foram depositados e estudados. Análise de espessura, morfologia, e resistência elétrica e resistividade foram conduzidas. Filmes com resistividade elétrica dependente das espessuras foram obtidos. A fonte DC se mostrou confiável em operação e permite a deposição de uma infinidade de materiais nas mais diferentes espessuras sobre vários tipos de substratos.
id RLAM-1_8dad6f3c62315d9585899c18d06d689f
oai_identifier_str oai:scielo:S1517-70762016000200492
network_acronym_str RLAM-1
network_name_str Matéria (Rio de Janeiro. Online)
repository_id_str
spelling Desenvolvimento e avaliação de uma fonte DC de alta tensão para utilização em sistema de deposição de filmes finos por pulverização catódicafonte DC de alta tensãofilmes finossputteringnanotecnologiapulverização catódicaplasmas friosRESUMO O trabalho em questão está relacionado ao projeto e construção de uma fonte de alta tensão em corrente contínua utilizando materiais e dispositivos adquiridos no comércio local visando sua aplicação no processo de pulverização catódica. Essa técnica permite a deposição de filmes finos de metais, óxidos e nitretos sobre substratos sólidos. Como teste de funcionamento e aplicação da fonte DC, com a mesma instalada em canhão de pulverização em alto vácuo, filmes finos de diferentes espessuras de cobre, aço inoxidável 304 e tungstênio foram depositados e estudados. Análise de espessura, morfologia, e resistência elétrica e resistividade foram conduzidas. Filmes com resistividade elétrica dependente das espessuras foram obtidos. A fonte DC se mostrou confiável em operação e permite a deposição de uma infinidade de materiais nas mais diferentes espessuras sobre vários tipos de substratos.Laboratório de Hidrogênio, Coppe - Universidade Federal do Rio de Janeiroem cooperação com a Associação Brasileira do Hidrogênio, ABH22016-06-01info:eu-repo/semantics/articleinfo:eu-repo/semantics/publishedVersiontext/htmlhttp://old.scielo.br/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S1517-70762016000200492Matéria (Rio de Janeiro) v.21 n.2 2016reponame:Matéria (Rio de Janeiro. Online)instname:Matéria (Rio de Janeiro. Online)instacron:RLAM10.1590/S1517-707620160002.0046info:eu-repo/semantics/openAccessMachuno,Luís Gustavo BaptistaLima,Anderson BarbosaBuso,Rafael RochaAbdanur,Rubens Miguel FavaratoRangel,Elidiane CiprianoGelamo,Rogério Valentimpor2016-05-31T00:00:00Zoai:scielo:S1517-70762016000200492Revistahttp://www.materia.coppe.ufrj.br/https://old.scielo.br/oai/scielo-oai.php||materia@labh2.coppe.ufrj.br1517-70761517-7076opendoar:2016-05-31T00:00Matéria (Rio de Janeiro. Online) - Matéria (Rio de Janeiro. Online)false
dc.title.none.fl_str_mv Desenvolvimento e avaliação de uma fonte DC de alta tensão para utilização em sistema de deposição de filmes finos por pulverização catódica
title Desenvolvimento e avaliação de uma fonte DC de alta tensão para utilização em sistema de deposição de filmes finos por pulverização catódica
spellingShingle Desenvolvimento e avaliação de uma fonte DC de alta tensão para utilização em sistema de deposição de filmes finos por pulverização catódica
Machuno,Luís Gustavo Baptista
fonte DC de alta tensão
filmes finos
sputtering
nanotecnologia
pulverização catódica
plasmas frios
title_short Desenvolvimento e avaliação de uma fonte DC de alta tensão para utilização em sistema de deposição de filmes finos por pulverização catódica
title_full Desenvolvimento e avaliação de uma fonte DC de alta tensão para utilização em sistema de deposição de filmes finos por pulverização catódica
title_fullStr Desenvolvimento e avaliação de uma fonte DC de alta tensão para utilização em sistema de deposição de filmes finos por pulverização catódica
title_full_unstemmed Desenvolvimento e avaliação de uma fonte DC de alta tensão para utilização em sistema de deposição de filmes finos por pulverização catódica
title_sort Desenvolvimento e avaliação de uma fonte DC de alta tensão para utilização em sistema de deposição de filmes finos por pulverização catódica
author Machuno,Luís Gustavo Baptista
author_facet Machuno,Luís Gustavo Baptista
Lima,Anderson Barbosa
Buso,Rafael Rocha
Abdanur,Rubens Miguel Favarato
Rangel,Elidiane Cipriano
Gelamo,Rogério Valentim
author_role author
author2 Lima,Anderson Barbosa
Buso,Rafael Rocha
Abdanur,Rubens Miguel Favarato
Rangel,Elidiane Cipriano
Gelamo,Rogério Valentim
author2_role author
author
author
author
author
dc.contributor.author.fl_str_mv Machuno,Luís Gustavo Baptista
Lima,Anderson Barbosa
Buso,Rafael Rocha
Abdanur,Rubens Miguel Favarato
Rangel,Elidiane Cipriano
Gelamo,Rogério Valentim
dc.subject.por.fl_str_mv fonte DC de alta tensão
filmes finos
sputtering
nanotecnologia
pulverização catódica
plasmas frios
topic fonte DC de alta tensão
filmes finos
sputtering
nanotecnologia
pulverização catódica
plasmas frios
description RESUMO O trabalho em questão está relacionado ao projeto e construção de uma fonte de alta tensão em corrente contínua utilizando materiais e dispositivos adquiridos no comércio local visando sua aplicação no processo de pulverização catódica. Essa técnica permite a deposição de filmes finos de metais, óxidos e nitretos sobre substratos sólidos. Como teste de funcionamento e aplicação da fonte DC, com a mesma instalada em canhão de pulverização em alto vácuo, filmes finos de diferentes espessuras de cobre, aço inoxidável 304 e tungstênio foram depositados e estudados. Análise de espessura, morfologia, e resistência elétrica e resistividade foram conduzidas. Filmes com resistividade elétrica dependente das espessuras foram obtidos. A fonte DC se mostrou confiável em operação e permite a deposição de uma infinidade de materiais nas mais diferentes espessuras sobre vários tipos de substratos.
publishDate 2016
dc.date.none.fl_str_mv 2016-06-01
dc.type.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/article
dc.type.status.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/publishedVersion
format article
status_str publishedVersion
dc.identifier.uri.fl_str_mv http://old.scielo.br/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S1517-70762016000200492
url http://old.scielo.br/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S1517-70762016000200492
dc.language.iso.fl_str_mv por
language por
dc.relation.none.fl_str_mv 10.1590/S1517-707620160002.0046
dc.rights.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
eu_rights_str_mv openAccess
dc.format.none.fl_str_mv text/html
dc.publisher.none.fl_str_mv Laboratório de Hidrogênio, Coppe - Universidade Federal do Rio de Janeiro
em cooperação com a Associação Brasileira do Hidrogênio, ABH2
publisher.none.fl_str_mv Laboratório de Hidrogênio, Coppe - Universidade Federal do Rio de Janeiro
em cooperação com a Associação Brasileira do Hidrogênio, ABH2
dc.source.none.fl_str_mv Matéria (Rio de Janeiro) v.21 n.2 2016
reponame:Matéria (Rio de Janeiro. Online)
instname:Matéria (Rio de Janeiro. Online)
instacron:RLAM
instname_str Matéria (Rio de Janeiro. Online)
instacron_str RLAM
institution RLAM
reponame_str Matéria (Rio de Janeiro. Online)
collection Matéria (Rio de Janeiro. Online)
repository.name.fl_str_mv Matéria (Rio de Janeiro. Online) - Matéria (Rio de Janeiro. Online)
repository.mail.fl_str_mv ||materia@labh2.coppe.ufrj.br
_version_ 1752126689267154944

Registros relacionados