Estudo da decomposição fotoquímica por exposição à luz UV de fotorresinas positivas

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Borges,Bruno Gabriel Alves Leite
Data de Publicação: 2012
Outros Autores: Rocco,Maria Luiza Miranda, Pinho,Roberto Rosas, Lima,Carlos Raimundo
Tipo de documento: Artigo
Idioma: por
Título da fonte: Química Nova (Online)
Texto Completo: http://old.scielo.br/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S0100-40422012000200016
Resumo: Positive photoresists are widely used in lithographic process in microelectronics and in optics for the fabrication of relief components. With the aim of identifying molecular modifications among positive photoresists unexposed and previously exposed to ultraviolet light the electron stimulated ion desorption technique coupled to time-of-flight mass spectrometry was employed in the study of the AZ-1518 photoresist. Mass spectra were obtained as a function of the electron beam energy, showing specific changes related to the photochemical decomposition of the photoresist. This reinforces the applicability of the technique to investigate and characterize structural changes in photosensitive materials.
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