Deposição e caracterização de filmes ultrafinos de óxido de titânio depositados por Sputtering RF
Autor(a) principal: | |
---|---|
Data de Publicação: | 2012 |
Tipo de documento: | Dissertação |
Idioma: | por |
Título da fonte: | Repositório Institucional da UFSCAR |
Texto Completo: | https://repositorio.ufscar.br/handle/ufscar/1167 |
Resumo: | This work studied ultrathin films of titanium oxide deposited by the technique r. f. reactive sputtering with different oxygen flows and different deposition times. Optical properties were studied (ultra-violeta/Visível) and the surface morphology (Atomic Force Microscopy). The composition and structural properties of the films were analyzed by X-ray diffraction and Rutherford Backscattering Spectroscopy. The films are amorphous and rough (fractal dimension around 2.6 to 2.7 and roughness around 1.6 to 2.5 nm). The stoichiometry was fairly close to the titanium dioxide (TiO2). The optical energy Gap obtained by three different models presented values between 3.0 to 3.5 eV. |
id |
SCAR_57214ca18d51d49199ba692e56b8fd5c |
---|---|
oai_identifier_str |
oai:repositorio.ufscar.br:ufscar/1167 |
network_acronym_str |
SCAR |
network_name_str |
Repositório Institucional da UFSCAR |
repository_id_str |
4322 |
spelling |
Albuquerque, Diego Aparecido CarvalhoCruz, Térsio Guilherme de Souzahttp://lattes.cnpq.br/0705292304279277Arnold, Francisco Joséhttp://buscatextual.cnpq.br/buscatextual/visualizacv.do?id=K4723030H7http://buscatextual.cnpq.br/buscatextual/visualizacv.do?id=K4406531J44cdc86a0-4b81-4433-a2e8-c315839c61572016-06-02T19:19:55Z2012-11-232016-06-02T19:19:55Z2012-03-30ALBUQUERQUE, Diego Aparecido Carvalho. Deposição e caracterização de filmes ultrafinos de óxido de titânio depositados por Sputtering RF. 2012. 108 f. Dissertação (Mestrado em Materiais Funcionais e Polímeros de Fontes Renováveis) - Universidade Federal de São Carlos, Sorocaba, 2012.https://repositorio.ufscar.br/handle/ufscar/1167This work studied ultrathin films of titanium oxide deposited by the technique r. f. reactive sputtering with different oxygen flows and different deposition times. Optical properties were studied (ultra-violeta/Visível) and the surface morphology (Atomic Force Microscopy). The composition and structural properties of the films were analyzed by X-ray diffraction and Rutherford Backscattering Spectroscopy. The films are amorphous and rough (fractal dimension around 2.6 to 2.7 and roughness around 1.6 to 2.5 nm). The stoichiometry was fairly close to the titanium dioxide (TiO2). The optical energy Gap obtained by three different models presented values between 3.0 to 3.5 eV.Neste trabalho foram estudados filmes ultrafinos de óxido de titânio depositados pela técnica sputtering reativo r.f., com diferentes fluxos de oxigênio e diferentes tempos de deposição. Foram estudadas as propriedades ópticas (Ultra-Violeta/Visível), bem como a morfologia da superfície (Microscopia de Força Atômica). As propriedades estruturais e a composição dos filmes foram estudadas por Difração de raios-X e por Rutherford Backscattering Spectroscopy. Os filmes são amorfos e com superfície rugosa (dimensão fractal em torno de 2,6 - 2,7 e rugosidade em torno de 1,6 - 2,5 nm). A estequiometria ficou bastante próxima do dióxido de titânio (TiO2). A energia do Gap óptico obtido por três modelos distintos apresentou valores entre 3,0 3,5 eV.Financiadora de Estudos e Projetosapplication/pdfporUniversidade Federal de São CarlosPrograma de Pós-Graduação em Ciência dos Materiais - PPGCM-SoUFSCarBRfilmes ultrafinosóxido de titâniosputteringthin filmstitanium oxidesputteringóptical propertiesafmroughnessfractal dimensionCIENCIAS EXATAS E DA TERRA::FISICA::FISICA DA MATERIA CONDENSADADeposição e caracterização de filmes ultrafinos de óxido de titânio depositados por Sputtering RFinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesis-1-19e131e54-fe41-4710-9912-6cdb9f6e7db0info:eu-repo/semantics/openAccessreponame:Repositório Institucional da UFSCARinstname:Universidade Federal de São Carlos (UFSCAR)instacron:UFSCARORIGINALALBUQUERQUE_Diego_2012.pdfapplication/pdf2909594https://repositorio.ufscar.br/bitstream/ufscar/1167/1/ALBUQUERQUE_Diego_2012.pdf91148b3e77351d9e01e62932373d67a6MD51TEXTALBUQUERQUE_Diego_2012.pdf.txtALBUQUERQUE_Diego_2012.pdf.txtExtracted texttext/plain0https://repositorio.ufscar.br/bitstream/ufscar/1167/2/ALBUQUERQUE_Diego_2012.pdf.txtd41d8cd98f00b204e9800998ecf8427eMD52THUMBNAILALBUQUERQUE_Diego_2012.pdf.jpgALBUQUERQUE_Diego_2012.pdf.jpgIM Thumbnailimage/jpeg6272https://repositorio.ufscar.br/bitstream/ufscar/1167/3/ALBUQUERQUE_Diego_2012.pdf.jpg4f6bfe9e6a410efabd170c776b8f8908MD53ufscar/11672023-09-18 18:31:28.727oai:repositorio.ufscar.br:ufscar/1167Repositório InstitucionalPUBhttps://repositorio.ufscar.br/oai/requestopendoar:43222023-09-18T18:31:28Repositório Institucional da UFSCAR - Universidade Federal de São Carlos (UFSCAR)false |
dc.title.por.fl_str_mv |
Deposição e caracterização de filmes ultrafinos de óxido de titânio depositados por Sputtering RF |
title |
Deposição e caracterização de filmes ultrafinos de óxido de titânio depositados por Sputtering RF |
spellingShingle |
Deposição e caracterização de filmes ultrafinos de óxido de titânio depositados por Sputtering RF Albuquerque, Diego Aparecido Carvalho filmes ultrafinos óxido de titânio sputtering thin films titanium oxide sputtering óptical properties afm roughness fractal dimension CIENCIAS EXATAS E DA TERRA::FISICA::FISICA DA MATERIA CONDENSADA |
title_short |
Deposição e caracterização de filmes ultrafinos de óxido de titânio depositados por Sputtering RF |
title_full |
Deposição e caracterização de filmes ultrafinos de óxido de titânio depositados por Sputtering RF |
title_fullStr |
Deposição e caracterização de filmes ultrafinos de óxido de titânio depositados por Sputtering RF |
title_full_unstemmed |
Deposição e caracterização de filmes ultrafinos de óxido de titânio depositados por Sputtering RF |
title_sort |
Deposição e caracterização de filmes ultrafinos de óxido de titânio depositados por Sputtering RF |
author |
Albuquerque, Diego Aparecido Carvalho |
author_facet |
Albuquerque, Diego Aparecido Carvalho |
author_role |
author |
dc.contributor.authorlattes.por.fl_str_mv |
http://buscatextual.cnpq.br/buscatextual/visualizacv.do?id=K4406531J4 |
dc.contributor.author.fl_str_mv |
Albuquerque, Diego Aparecido Carvalho |
dc.contributor.advisor1.fl_str_mv |
Cruz, Térsio Guilherme de Souza |
dc.contributor.advisor1Lattes.fl_str_mv |
http://lattes.cnpq.br/0705292304279277 |
dc.contributor.referee1.fl_str_mv |
Arnold, Francisco José |
dc.contributor.referee1Lattes.fl_str_mv |
http://buscatextual.cnpq.br/buscatextual/visualizacv.do?id=K4723030H7 |
dc.contributor.authorID.fl_str_mv |
4cdc86a0-4b81-4433-a2e8-c315839c6157 |
contributor_str_mv |
Cruz, Térsio Guilherme de Souza Arnold, Francisco José |
dc.subject.por.fl_str_mv |
filmes ultrafinos óxido de titânio sputtering |
topic |
filmes ultrafinos óxido de titânio sputtering thin films titanium oxide sputtering óptical properties afm roughness fractal dimension CIENCIAS EXATAS E DA TERRA::FISICA::FISICA DA MATERIA CONDENSADA |
dc.subject.eng.fl_str_mv |
thin films titanium oxide sputtering óptical properties afm roughness fractal dimension |
dc.subject.cnpq.fl_str_mv |
CIENCIAS EXATAS E DA TERRA::FISICA::FISICA DA MATERIA CONDENSADA |
description |
This work studied ultrathin films of titanium oxide deposited by the technique r. f. reactive sputtering with different oxygen flows and different deposition times. Optical properties were studied (ultra-violeta/Visível) and the surface morphology (Atomic Force Microscopy). The composition and structural properties of the films were analyzed by X-ray diffraction and Rutherford Backscattering Spectroscopy. The films are amorphous and rough (fractal dimension around 2.6 to 2.7 and roughness around 1.6 to 2.5 nm). The stoichiometry was fairly close to the titanium dioxide (TiO2). The optical energy Gap obtained by three different models presented values between 3.0 to 3.5 eV. |
publishDate |
2012 |
dc.date.available.fl_str_mv |
2012-11-23 2016-06-02T19:19:55Z |
dc.date.issued.fl_str_mv |
2012-03-30 |
dc.date.accessioned.fl_str_mv |
2016-06-02T19:19:55Z |
dc.type.status.fl_str_mv |
info:eu-repo/semantics/publishedVersion |
dc.type.driver.fl_str_mv |
info:eu-repo/semantics/masterThesis |
format |
masterThesis |
status_str |
publishedVersion |
dc.identifier.citation.fl_str_mv |
ALBUQUERQUE, Diego Aparecido Carvalho. Deposição e caracterização de filmes ultrafinos de óxido de titânio depositados por Sputtering RF. 2012. 108 f. Dissertação (Mestrado em Materiais Funcionais e Polímeros de Fontes Renováveis) - Universidade Federal de São Carlos, Sorocaba, 2012. |
dc.identifier.uri.fl_str_mv |
https://repositorio.ufscar.br/handle/ufscar/1167 |
identifier_str_mv |
ALBUQUERQUE, Diego Aparecido Carvalho. Deposição e caracterização de filmes ultrafinos de óxido de titânio depositados por Sputtering RF. 2012. 108 f. Dissertação (Mestrado em Materiais Funcionais e Polímeros de Fontes Renováveis) - Universidade Federal de São Carlos, Sorocaba, 2012. |
url |
https://repositorio.ufscar.br/handle/ufscar/1167 |
dc.language.iso.fl_str_mv |
por |
language |
por |
dc.relation.confidence.fl_str_mv |
-1 -1 |
dc.relation.authority.fl_str_mv |
9e131e54-fe41-4710-9912-6cdb9f6e7db0 |
dc.rights.driver.fl_str_mv |
info:eu-repo/semantics/openAccess |
eu_rights_str_mv |
openAccess |
dc.format.none.fl_str_mv |
application/pdf |
dc.publisher.none.fl_str_mv |
Universidade Federal de São Carlos |
dc.publisher.program.fl_str_mv |
Programa de Pós-Graduação em Ciência dos Materiais - PPGCM-So |
dc.publisher.initials.fl_str_mv |
UFSCar |
dc.publisher.country.fl_str_mv |
BR |
publisher.none.fl_str_mv |
Universidade Federal de São Carlos |
dc.source.none.fl_str_mv |
reponame:Repositório Institucional da UFSCAR instname:Universidade Federal de São Carlos (UFSCAR) instacron:UFSCAR |
instname_str |
Universidade Federal de São Carlos (UFSCAR) |
instacron_str |
UFSCAR |
institution |
UFSCAR |
reponame_str |
Repositório Institucional da UFSCAR |
collection |
Repositório Institucional da UFSCAR |
bitstream.url.fl_str_mv |
https://repositorio.ufscar.br/bitstream/ufscar/1167/1/ALBUQUERQUE_Diego_2012.pdf https://repositorio.ufscar.br/bitstream/ufscar/1167/2/ALBUQUERQUE_Diego_2012.pdf.txt https://repositorio.ufscar.br/bitstream/ufscar/1167/3/ALBUQUERQUE_Diego_2012.pdf.jpg |
bitstream.checksum.fl_str_mv |
91148b3e77351d9e01e62932373d67a6 d41d8cd98f00b204e9800998ecf8427e 4f6bfe9e6a410efabd170c776b8f8908 |
bitstream.checksumAlgorithm.fl_str_mv |
MD5 MD5 MD5 |
repository.name.fl_str_mv |
Repositório Institucional da UFSCAR - Universidade Federal de São Carlos (UFSCAR) |
repository.mail.fl_str_mv |
|
_version_ |
1802136249938477056 |