Avaliação do desempenho de toliltriazol como inibidor de corrosão para o cobre em meio aquoso ácido

• Autor(a) principal: Broch, Luciane
• Data de Publicação: 2023
• Tipo de documento: Dissertação
• Idioma: eng; por
• Título da fonte: Repositório Institucional da UCS
• Texto Completo: https://repositorio.ucs.br/11338/12727
• topic: Corrosão e anticorrosivos; Triazóis - Inibidores; Eletroquímica; Cobre - Corrosão; Corrosion and anti-corrosives; Triazoles - Inhibitors; Electrochemistry; Copper - Corrosion

A corrosão é um processo natural que causa a degradação de materiais metálicos, resultando em perdas econômicas significativas em diversas indústrias. Para mitigar esse problema, os inibidores têm sido amplamente estudados e empregados como uma estratégia para aumentar a proteção desses materiais. Dentre os inibidores utilizados para esta finalidade, destaca-se o toliltriazol (TTAH) que é um composto orgânico pertencente à classe dos triazois, e que tem despertado interesse devido às suas propriedades versáteis, seu potencial para diversas aplicações industriais e sua baixa toxicidade. Nesse contexto, este trabalho teve por objetivo avaliar a eficiência de um inibidor de corrosão comercial à base de TTAH, frente a um substrato de cobre em meio de HCl 0,1 M. Inicialmente, o substrato de cobre foi caracterizado por meio de várias técnicas, incluindo metalografia, determinação de microdureza, espectroscopia de emissão óptica por descarga luminescente (GD-OES), microscopia eletrônica de varredura com emissão de campo (MEV-FEG) e espectroscopia por dispersão em energia (EDS). Em seguida, o substrato foi exposto ao meio corrosivo na ausência (0 ppm) e na presença do inibidor de corrosão comercial, empregando várias concentrações de TTAH (5, 10 e 20 ppm), com o objetivo de avaliar as taxas de corrosão. O monitoramento do processo corrosivo foi realizado por meio de ensaios de perda de massa e também por medidas de potencial de circuito aberto em função do tempo, curvas de polarização e espectroscopia de impedância eletroquímica. De modo geral, os resultados de caracterização evidenciaram um substrato de cobre comercial puro, com denominações situadas entre o UNS C10100 e o C13000. No que se refere aos ensaios de perda de massa, observou-se corrosão generalizada, além de redução das taxas de corrosão na presença do TTAH, sendo que os índices inibitivos para as concentrações de 5 e 10 ppm foram de 62,82 e 76,02%, respectivamente. Não houve detecção aparente da perda de massa no eletrólito contendo 20 ppm de TTAH, apesar de os substratos imersos nessa condição apresentarem corrosão localizada. Os ensaios eletroquímicos, por sua vez, revelaram que o TTAH se comporta como um inibidor predominantemente de caráter anódico em todos os meios estudados. As curvas de polarização mostraram que na região de Tafel, o filme inibidor em meio de TTAH obedece à isoterma de adsorção de Langmuir. Os resultados obtidos por meio dessa técnica, apontam uma eficácia de inibição de 81,3 % a 96,1%. Além disso, ensaios por MEV-FEG, seguidos de EDS, indicaram a presença de nitrogênio sobre a superfície do substrato de cobre, assegurando a formação de uma monocamada de proteção. Por fim, os resultados obtidos nesse trabalho demonstraram que o produto comercial, formulado com TTAH, é promissor e tem elevado potencial na proteção do cobre em condições que se assemelham às aplicadas nos ensaios realizados. Espera-se que esse estudo contribua para o avanço do conhecimento científico e estimule o desenvolvimento de novas tecnologias e produtos baseados no TTAH. [resumo fornecido pelo autor]