Oxidação do fosforeno: cálculos de primeiros princípios

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Albuquerque Filho, Marcelo Fábio Costa
Data de Publicação: 2016
Tipo de documento: Trabalho de conclusão de curso
Idioma: por
Título da fonte: Repositório Institucional da Universidade Federal Fluminense (RIUFF)
Texto Completo: https://app.uff.br/riuff/handle/1/7334
Resumo: Esta monografia tem por finalidade estudar a oxidaçãoo do fosforeno, que é um alótropo cristalino e bidimensional do fósforo. Ele pode ser obtido por esfoliação mecânica do fósforo negro bulk. Nos baseamos no trabalho de Ziletti [1, 2], onde vimos que átomos de oxigênio como defeito pendente aumenta a hidrofilicidade do fosforeno. Realizamos cálculos ab initio na Teoria do Funcional Densidade (Density Functional Theory-DFT) em três configurações de defeitos no fosforeno e encontramos que o mesmo ocorre com o radical hidroxila (OH) pendente do fosforeno. Essa configuração possui um gap de energia de 0,94 eV. Vimos que há um nível da banda de energia (o nível parcialmente ocupado) que pode ser do radical. Esse nível pode servir como doador e/ou receptor de elétrons
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