Medidas dos índices de refração de materiais fotossensíveis utilizando o método de Abelès

• Autor(a) principal: Martins, J.S.
• Data de Publicação: 2013
• Outros Autores: René, P.S., Pinho, R.R., Lima, C.R.A.
• Tipo de documento: Artigo
• Idioma: por
• Título da fonte: Repositório Institucional da UFJF
• Texto Completo: http://dx.doi.org/10.1590/S1806-11172013000300032; https://repositorio.ufjf.br/jspui/handle/ufjf/8099
• topic: -; Fotorresinas positivas; Método de Abelès; Filmes finos; Radiação ultravioleta; Positive photoresist; Abelès method; Thin films; Ultraviolet radiation

Fotorresina positiva AZ-1518 é um exemplo de material fotossensível amplamente usado em processos litográficos em microeletrônica e em óptica para fabricação de componente de relevo. Esta fotorresina é formada pelo composto fotoativo (PAC) e de uma matriz, que é uma resina espessa denominada novolak. Quando exposta à radiação ultravioleta, reações químicas induzidas modificam as suas propriedades físicas e químicas. Filmes finos homogêneos desses materiais fotossensíveis foram preparados sobre substratos de vidro. Este trabalho tem como objetivo medir o índice de refração dos filmes, não expostos e expostos à radiação ultravioleta, utilizando o método Abelès. A partir das medidas das variações do índice de refração dos filmes fotossensíveis é possível obter a medida da taxa de decaimento do composto fotoativo (PAC) por unidade de intensidade. Medidas desta taxa fornecem indicações importantes da cinética química microscópica desses materiais fotossensíveis. Os resultados mostram que a precisão do método é suficiente para medir as variações do índice de refração desses tipos de materiais fotossensíveis.