Caracterização quanto à espessura de filmes de TiC-Cr3C2 depositados pelo processo de RF magnetron planar sputtering em substratos de grande área

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Pimenta, Marcelo Dornelles
Data de Publicação: 1997
Outros Autores: Strohaecker, Telmo Roberto
Tipo de documento: Artigo de conferência
Idioma: por
Título da fonte: Repositório Institucional da UFRGS
Texto Completo: http://hdl.handle.net/10183/98223
Resumo: 024
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