Gerador automatico de mascaras de processo para confecção de circuitos integrados : sistema de posicionamento digital

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Souza, Manoel Francisco de
Data de Publicação: 1981
Tipo de documento: Dissertação
Idioma: por
Título da fonte: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
Texto Completo: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1578828
Resumo: Orientador : Carlos Ignacio Mammana
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spelling Gerador automatico de mascaras de processo para confecção de circuitos integrados : sistema de posicionamento digitalCircuitos integradosOrientador : Carlos Ignacio MammanaDissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia de CampinasResumo: A litografia faz parte do conjunto de técnicas que concorrem para a fabricação de circuitos integrados em microeletrônica. Dentro do campo da litografia, a chamada litografia óptica é a técnica melhor estabelecida e a mais difundida. Seu uso implica na utilização de máscaras durante o processo de fotogravação. Essas máscaras podem ser obtidas a partir de reduções fotográficas de artes finais confeccionadas em "Rubylith" ou fotolito contendo a representação ampliada (100 a 200 vezes) das configurações desejadas. Neste trabalho é descrita a implantação de um sistema automático de desenho (SAD) para ser utilizado na geração dessas artes finais, tanto em "Rubylith" como em fotolito. O SAD é apresentado contendo três elementos: o de "hardware", o de "software" e o de óptica. O Elemento de "Hardware" além do controle elétrico engloba as partes mecânicas dos equipamentos, que compõem o SAD: coordenatógrafo com motivos de passo, adaptador de ferramenta de corte ou desenho ao coordenatógrafo, console, bastidor e leitora de fita de papel. O Elemento de "Software" engloba as sequências de instruções reconhecíveis pelo Elemento de Hardware" para gerar os desenhos desejados (PROGRAMAS DE DESENHO) e os programas (PROGRAMAS DE INTERFACE) que servem como meio de tradução dos dados de artes finais gerados por computador para a forma de PROGRAMAS DE DESENHO. O Elemento de óptica engloba ,a parte óptica do sistema para sensibilização de fotolito: uma fonte luminosa conectada a um módulo projetor por meio de um cabo de fibras ópticasAbstract: Not informedMestradoMestre em Engenharia Elétrica[s.n.]Mammana, Carlos Ignacio Zamitti, 1941-Universidade Estadual de Campinas. Faculdade de Engenharia de CampinasPrograma de Pós-Graduação em Engenharia ElétricaUNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINASSouza, Manoel Francisco de1981info:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisapplication/pdf1v. (varias paginações) : il.https://hdl.handle.net/20.500.12733/1578828SOUZA, Manoel Francisco de. Gerador automatico de mascaras de processo para confecção de circuitos integrados: sistema de posicionamento digital. 1981. 1v. (varias paginações) Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia de Campinas, Campinas, SP. Disponível em: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1578828. Acesso em: 14 mai. 2024.https://repositorio.unicamp.br/acervo/detalhe/51832porreponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)instname:Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)instacron:UNICAMPinfo:eu-repo/semantics/openAccess2017-02-18T02:06:38Zoai::51832Biblioteca Digital de Teses e DissertaçõesPUBhttp://repositorio.unicamp.br/oai/tese/oai.aspsbubd@unicamp.bropendoar:2017-02-18T02:06:38Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP) - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)false
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