Sistema de fotorrepetição para fabricação de circuitos integrados

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Brito, Ailton de Sousa
Data de Publicação: 1982
Tipo de documento: Dissertação
Idioma: por
Título da fonte: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
Texto Completo: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1577216
Resumo: Orientador : Carlos Ignacio Zamitti Mammana
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spelling Sistema de fotorrepetição para fabricação de circuitos integradosCircuitos integradosFilmes espessos - Circuitos ótica integradaOrientador : Carlos Ignacio Zamitti MammanaDissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia de CampinasResumo: A litografia faz parte de um conjunto de técnicas usadas na fabricação de circuitos integrados. As técnicas litográficas são genericamente englobadas nas denominadas litografia óptica e litografia por feixe de elétrons, das quais a primeira é ainda a mais difundida e, melhor estabelecida. A litografia óptica prevê o uso de máscaras (matrizes finais) obtidas a partir de originais (artes finais) desenhadas em materiais gráficos, Rubylith ou Fotolito. A escala do desenho é ampliada de 100 a 200 vezes em relação ao dispositivo a ser fabricado. A redução ocorre em duas ou três etapas conhecidas por fotorredução e fotorrepetição, sendo que na última, a configuração é repetida diversas vezes. Através das matrizes finais, o material fotossensível (fotorresiste) aplicado sobre um substrato pode ser sensibilizado e removido, deixando expostas regiões pré-selecionadas do substrato. Esta etapa é conhecida por fotogravação. Neste trabalho é descrito o desenvolvimento de uma fotorrepetidora que emprega irradiação de 5460 A de comprimento de onda, sensibilizando Placas de Alta Resolução (PAR), em campos de 5 x 5 mm2 e registrando linhas (em PAR) de larguras menores que 2um. São ainda estabelecidos os parâmetros gerais do sistema litográfico, visando o melhor aproveitamento em termos de nível de integração e densidade de "componentes" na integração de circuitos. A fotorrepetidora e o sistema litográfico têm sido utilizados no laboratório por cerca de dois anos. Foram determinadas regras de projeto para geração de máscaras e uso do sistema litográfico. No decorrer do trabalho são descritos a analisados propostas, procedimentos experimentais, resultados obtidos e discussões posterioresAbstract: Not informedMestradoMestre em Engenharia Elétrica[s.n.]Mammana, Carlos Ignacio Zamitti, 1941-Universidade Estadual de Campinas. Faculdade de Engenharia de CampinasPrograma de Pós-Graduação em Engenharia ElétricaUNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINASBrito, Ailton de Sousa1982info:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisapplication/pdf1v. (varias paginações) : il.https://hdl.handle.net/20.500.12733/1577216BRITO, Ailton de Sousa. Sistema de fotorrepetição para fabricação de circuitos integrados. 1982. 1v. (varias paginações) Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia de Campinas, Campinas, SP. Disponível em: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1577216. Acesso em: 14 mai. 2024.https://repositorio.unicamp.br/acervo/detalhe/47404porreponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)instname:Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)instacron:UNICAMPinfo:eu-repo/semantics/openAccess2014-04-17T23:26:18Zoai::47404Biblioteca Digital de Teses e DissertaçõesPUBhttp://repositorio.unicamp.br/oai/tese/oai.aspsbubd@unicamp.bropendoar:2014-04-17T23:26:18Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP) - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)false
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