Contribuição ao estudo dos efeitos da dupla implantação de nitrogênio em grafite : análise da variação da resistividade e efeito Hall baseada na interação com as ligações - 'sigma' (plano grafeno) e ligações - 'pi'

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Magalhães, Eloi Lopes, 1953-
Data de Publicação: 2018
Tipo de documento: Dissertação
Idioma: por
Título da fonte: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
Texto Completo: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1633963
Resumo: Orientador: Luiz Carlos Kretly
id UNICAMP-30_09f24e02d1e25ec064ae87537890e286
oai_identifier_str oai::1021925
network_acronym_str UNICAMP-30
network_name_str Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
repository_id_str
spelling Contribuição ao estudo dos efeitos da dupla implantação de nitrogênio em grafite : análise da variação da resistividade e efeito Hall baseada na interação com as ligações - 'sigma' (plano grafeno) e ligações - 'pi'Contribution to the study of the effects of the double implantation of nitrogen on graphite : analysis of the resistivity variation and Hall effect in the interaction with the 'sigma'-bonds (graphene plane) and pi-bondsGrafitaGrafenoImplantação iônicaEspectroscopia RamanEspectroscopia de raio XGraphiteGrapheneIonic implantationSpectroscopy ramanX-ray spectroscopyOrientador: Luiz Carlos KretlyDissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Elétrica e de ComputaçãoResumo: Este trabalho apresenta os resultados obtidos por uma implantação dupla de íons de íons de Nitrogênio em amostra de grafite. O processo de implantação dupla de íons foi realizado para observar as mudanças da resistividade em grafite devido ao bombardeamento de íons submetidos à amostra. O propósito deste processo é investigar o comportamento em diferentes direções das ligações dos átomos de carbono, a saber, direção 'sigma' das ligações dos átomos de carbono, também chamada de camada de grafeno e direção 'pi' das ligações atômicas do carbono, do ponto de vista da resistividade, bem como, mudanças na tensão Hall. Além disso, apresenta um modelo qualitativo de condução na amostra de grafite após dois bombardeamentos de íons de Nitrogênio. Os resultados aqui apresentados indicam que a medida da resistividade na direção das ligações 'sigma' dos átomos de carbono diminui e que na direção das ligações 'pi' aumenta, assim como, houve uma diminuição na tensão Hall após a dupla implantação. As amostras de grafite foram submetidas a dois procedimentos diferentes de medidas, em um deles a corrente elétrica segue a direção 'pi' dos átomos de carbono através de dois terminais de contato, que teoricamente possui alta resistividade, com a tensão sendo medida por outros dois terminais de contato perpendicular à superfície da amostra. No outro modo a corrente segue a direção 'sigma' dos átomos de carbono através de dois terminais de contato, sendo obtida a medida da tensão por outros dois terminais contatos, em ambos os procedimentos foram aplicados o método de medidas de quatro pontas. Neste trabalho também foram analisados os fenômenos físicos ocorridos na estrutura da grafite após o duplo bombardeamento de íons devido o comportamento balístico dos íons ao penetrar o corpo da grafite, onde há a ocupação substitucional de átomos de carbono por íons de nitrogênio criando portadores livres de carga e uma desordem na estrutura cristalina da amostra, ambos os fenômenos se combinam e/ou competem ao mesmo tempoAbstract: This work presents the results obtained by a double ion implantation of Nitrogen ions into samples of graphite. The double ion implantation process was performed to observe changes in resistivity in graphite due to the bombardment of ions submitted to the sample. The purpose of this process is to investigate the behavior in different directions of the bonds of the carbon atoms, viz., direction 'sigma' of the bonds of the atoms of carbon, also called the graphene layer and the 'pi' directions of the carbon atoms, from the point of view of resistivity, as well as changes in Hall voltage. In addition, it presents a qualitative model of conduction in the sample of graphite after two bombardments of Nitrogen ions. The results presented here indicate that the measure of the resistivity in the direction of the 'sigma' bonds of the carbon atoms decreases and that in the of 'pi' bonds increases, as well as, there was a decrease in Hall voltage after double implantation. The graphite samples were submitted to two different measurement procedures, in one of them the electric current follows the 'pi' direction of the carbon atoms through two contact terminals, which theoretically has high resistivity, with the voltage being measured by two other contact terminals perpendicular to the sample surface. In the other mode the current follows the direction 'sigma' of the carbon atoms through two contact terminals, being obtained the measurement of the voltage by another two contact terminals, in both procedures the four-probe method was applied. In this work we also analyzed the physical phenomena that occurred in the structure of the graphite after double ion bombardment due to the ballistic behavior of ions when penetrating the graphite body, where there is the substitutional occupation of carbon atoms by nitrogen ions creating free carriers and a disorder in the crystalline structure of the sample, both phenomena combine and or compete at the same timeMestradoEletrônica, Microeletrônica e OptoeletrônicaMestre em Engenharia Elétrica[s.n.]Kretly, Luiz Carlos, 1950-Barbin, Silvio ErnestoBarreto, GilmarUniversidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Faculdade de Engenharia Elétrica e de ComputaçãoPrograma de Pós-Graduação em Engenharia ElétricaUNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINASMagalhães, Eloi Lopes, 1953-20182018-04-04T00:00:00Zinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisapplication/pdf1 recurso online (100 p.) : il., digital, arquivo PDF.https://hdl.handle.net/20.500.12733/1633963MAGALHÃES, Eloi Lopes. Contribuição ao estudo dos efeitos da dupla implantação de nitrogênio em grafite: análise da variação da resistividade e efeito Hall baseada na interação com as ligações - 'sigma' (plano grafeno) e ligações - 'pi'. 2018. 1 recurso online (100 p.) Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação, Campinas, SP. Disponível em: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1633963. Acesso em: 3 set. 2024.https://repositorio.unicamp.br/acervo/detalhe/1021925Requisitos do sistema: Software para leitura de arquivo em PDFporreponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)instname:Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)instacron:UNICAMPinfo:eu-repo/semantics/openAccess2018-09-27T09:47:09Zoai::1021925Biblioteca Digital de Teses e DissertaçõesPUBhttp://repositorio.unicamp.br/oai/tese/oai.aspsbubd@unicamp.bropendoar:2018-09-27T09:47:09Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP) - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)false
dc.title.none.fl_str_mv Contribuição ao estudo dos efeitos da dupla implantação de nitrogênio em grafite : análise da variação da resistividade e efeito Hall baseada na interação com as ligações - 'sigma' (plano grafeno) e ligações - 'pi'
Contribution to the study of the effects of the double implantation of nitrogen on graphite : analysis of the resistivity variation and Hall effect in the interaction with the 'sigma'-bonds (graphene plane) and pi-bonds
title Contribuição ao estudo dos efeitos da dupla implantação de nitrogênio em grafite : análise da variação da resistividade e efeito Hall baseada na interação com as ligações - 'sigma' (plano grafeno) e ligações - 'pi'
spellingShingle Contribuição ao estudo dos efeitos da dupla implantação de nitrogênio em grafite : análise da variação da resistividade e efeito Hall baseada na interação com as ligações - 'sigma' (plano grafeno) e ligações - 'pi'
Magalhães, Eloi Lopes, 1953-
Grafita
Grafeno
Implantação iônica
Espectroscopia Raman
Espectroscopia de raio X
Graphite
Graphene
Ionic implantation
Spectroscopy raman
X-ray spectroscopy
title_short Contribuição ao estudo dos efeitos da dupla implantação de nitrogênio em grafite : análise da variação da resistividade e efeito Hall baseada na interação com as ligações - 'sigma' (plano grafeno) e ligações - 'pi'
title_full Contribuição ao estudo dos efeitos da dupla implantação de nitrogênio em grafite : análise da variação da resistividade e efeito Hall baseada na interação com as ligações - 'sigma' (plano grafeno) e ligações - 'pi'
title_fullStr Contribuição ao estudo dos efeitos da dupla implantação de nitrogênio em grafite : análise da variação da resistividade e efeito Hall baseada na interação com as ligações - 'sigma' (plano grafeno) e ligações - 'pi'
title_full_unstemmed Contribuição ao estudo dos efeitos da dupla implantação de nitrogênio em grafite : análise da variação da resistividade e efeito Hall baseada na interação com as ligações - 'sigma' (plano grafeno) e ligações - 'pi'
title_sort Contribuição ao estudo dos efeitos da dupla implantação de nitrogênio em grafite : análise da variação da resistividade e efeito Hall baseada na interação com as ligações - 'sigma' (plano grafeno) e ligações - 'pi'
author Magalhães, Eloi Lopes, 1953-
author_facet Magalhães, Eloi Lopes, 1953-
author_role author
dc.contributor.none.fl_str_mv Kretly, Luiz Carlos, 1950-
Barbin, Silvio Ernesto
Barreto, Gilmar
Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação
Programa de Pós-Graduação em Engenharia Elétrica
UNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS
dc.contributor.author.fl_str_mv Magalhães, Eloi Lopes, 1953-
dc.subject.por.fl_str_mv Grafita
Grafeno
Implantação iônica
Espectroscopia Raman
Espectroscopia de raio X
Graphite
Graphene
Ionic implantation
Spectroscopy raman
X-ray spectroscopy
topic Grafita
Grafeno
Implantação iônica
Espectroscopia Raman
Espectroscopia de raio X
Graphite
Graphene
Ionic implantation
Spectroscopy raman
X-ray spectroscopy
description Orientador: Luiz Carlos Kretly
publishDate 2018
dc.date.none.fl_str_mv 2018
2018-04-04T00:00:00Z
dc.type.status.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.type.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/masterThesis
format masterThesis
status_str publishedVersion
dc.identifier.uri.fl_str_mv https://hdl.handle.net/20.500.12733/1633963
MAGALHÃES, Eloi Lopes. Contribuição ao estudo dos efeitos da dupla implantação de nitrogênio em grafite: análise da variação da resistividade e efeito Hall baseada na interação com as ligações - 'sigma' (plano grafeno) e ligações - 'pi'. 2018. 1 recurso online (100 p.) Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação, Campinas, SP. Disponível em: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1633963. Acesso em: 3 set. 2024.
url https://hdl.handle.net/20.500.12733/1633963
identifier_str_mv MAGALHÃES, Eloi Lopes. Contribuição ao estudo dos efeitos da dupla implantação de nitrogênio em grafite: análise da variação da resistividade e efeito Hall baseada na interação com as ligações - 'sigma' (plano grafeno) e ligações - 'pi'. 2018. 1 recurso online (100 p.) Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação, Campinas, SP. Disponível em: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1633963. Acesso em: 3 set. 2024.
dc.language.iso.fl_str_mv por
language por
dc.relation.none.fl_str_mv https://repositorio.unicamp.br/acervo/detalhe/1021925
Requisitos do sistema: Software para leitura de arquivo em PDF
dc.rights.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
eu_rights_str_mv openAccess
dc.format.none.fl_str_mv application/pdf
1 recurso online (100 p.) : il., digital, arquivo PDF.
dc.publisher.none.fl_str_mv [s.n.]
publisher.none.fl_str_mv [s.n.]
dc.source.none.fl_str_mv reponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
instname:Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
instacron:UNICAMP
instname_str Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
instacron_str UNICAMP
institution UNICAMP
reponame_str Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
collection Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
repository.name.fl_str_mv Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP) - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
repository.mail.fl_str_mv sbubd@unicamp.br
_version_ 1809189127193624576

Registros relacionados