Desenvolvimento e aplicações de um sistema de reações por plasma
Autor(a) principal: | |
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Data de Publicação: | 1979 |
Tipo de documento: | Dissertação |
Idioma: | por |
Título da fonte: | Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP) |
Texto Completo: | https://hdl.handle.net/20.500.12733/1580180 |
Resumo: | Orientador: Len Mei |
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Desenvolvimento e aplicações de um sistema de reações por plasmaEngenharia do plasmaResistores de filmeOrientador: Len MeiDissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia de CampinasResumo: Neste trabalho iniciamos o contato com a tecnologia de plasma aplicada na fabricação de dispositivos microeletrônicos, bem como a utilização de algumas ferramentas para controle e/ou estudo mecanismos envolvidos na geração da região de dos mecanismos envolvidos tais como a sonda elétrica simples e o espectrômetro óptico, procurando-se entender os descarga luminosa. Buscamos encontrar uma maneira alternativa para a execução de alguns processos, notadamente o processo de remoção de fotoresiste e abertura de janelas em camadas de óxido de silício. O modelamento (capitulo 3), apesar de não ser rigoroso, nos dá uma visão geral dos fenômenos que controlam tais processos. O sistema de reações (capitulo 2) foi construído a parti r de materiais disponíveis em nosso mercado, com exceção feita ã câmara do reator, onde experimentalmente verificou-se a necessidade da utilização de quartzo. Realizou-se com êxito a remoção do fotoresiste µR 747 (capitulo 4) obtendo-se taxas de ataque razoavelmente altas e com grandes vantagens em relação ã remoção convencional por via úmida. A abertura de janelas em óxidos de silício (capítulo 5) não se mostrou satisfatória, possivelmente pelo fato de não dispormos de uma fonte de R.F. capaz de entregar maiores potências e também pelo tipo de gás empregado. Demonstramos também a viabilidade de aplicação do reator para a fabricação de resistores de filmes finos de nitreto de tântalo.Abstract: Not informed.MestradoMestre em Engenharia Elétrica[s.n.]Mei, LenUniversidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Faculdade de Engenharia de CampinasPrograma de Pós-Graduação em Engenharia ElétricaUNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINASPaladini, Jaime1979info:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisapplication/pdf127 f. : il.https://hdl.handle.net/20.500.12733/1580180PALADINI, Jaime. Desenvolvimento e aplicações de um sistema de reações por plasma. 1979. 127 f. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia de Campinas, Campinas, SP. Disponível em: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1580180. Acesso em: 2 set. 2024.https://repositorio.unicamp.br/acervo/detalhe/59452porreponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)instname:Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)instacron:UNICAMPinfo:eu-repo/semantics/openAccess2014-04-18T01:06:54Zoai::59452Biblioteca Digital de Teses e DissertaçõesPUBhttp://repositorio.unicamp.br/oai/tese/oai.aspsbubd@unicamp.bropendoar:2014-04-18T01:06:54Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP) - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)false |
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