Estudo eletroquímico e termoanalítico dos sistemas Ir/Hg e Pt - (30%) Ir/Hg

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Milaré, Edilson [UNESP]
Data de Publicação: 2004
Tipo de documento: Tese
Idioma: por
Título da fonte: Repositório Institucional da UNESP
Texto Completo: http://hdl.handle.net/11449/105658
Resumo: Eletrodos laminares de Ir ou Pt-Ir(30%) foram empregados como substratos para deposição eletroquímica de Hg, a partir de soluções contendo íons Hg(I), e remoção deste Hg por meio de voltametria cíclica (VC) ou térmica (termogravimetria / termogravimetria derivada - TG/DTG e calorimetria exploratória diferencial - DSC). A superfície dos eletrodos foi caracterizada empregando-se as técnicas complementares de análise: microscopia eletrônica de varredura (imagens SEM, microanálise por EDX e mapas de distribuição de elementos), microscopia eletrônica de transmissão (imagens TEM, microanálise por EDX e difração de elétrons), difratometria de raios X (XRD) e espectroscopia fotoeletrônica de raios X (XPS). Os voltamogramas cíclicos obtidos para o sistema Ir/Hg mostram até 3 picos na região de varredura de potenciais decrescentes, que foram atribuídos a: deposição de Hg em regime de subpotencial (UPD); deposição de Hg volumétrico, e redução de óxidos. A curva de I-E para a varredura de potenciais crescentes mostra até 6 picos, dependendo do tratamento empregado, que foram atribuídos a: oxidação de Hg volumétrico a Hg(I); oxidação de Hg(I) a Hg(II); oxidação de Hg presente no filme sobre a superfície do substrato a Hg(II); oxidação de Hg presente na sub-superfície do eletrodo a Hg(II); formação de óxidos. Os voltamogramas cíclicos obtidos para o sistema Pt-Ir(30%)/Hg mostram até 4 picos na varredura de potenciais decrescentes, que foram atribuídos a: deposição de Hg em regime de subpotencial (UPD) e redução de óxidos, concomitantemente; deposição eletroquímica de Hg volumétrico, e formação de produtos de interação Hg-substrato. Na varredura de potenciais crescentes a curva I-E mostra até 6 picos, dependendo do tratamento empregado, atribuídos a: oxidação de Hg volumétrico a Hg(I); oxidação...
id UNSP_b2263ef84d5268edc28198d58d46aecf
oai_identifier_str oai:repositorio.unesp.br:11449/105658
network_acronym_str UNSP
network_name_str Repositório Institucional da UNESP
repository_id_str 2946
spelling Estudo eletroquímico e termoanalítico dos sistemas Ir/Hg e Pt - (30%) Ir/HgEletrodosVoltametriaQuimica analiticaElectrodesEletrodos laminares de Ir ou Pt-Ir(30%) foram empregados como substratos para deposição eletroquímica de Hg, a partir de soluções contendo íons Hg(I), e remoção deste Hg por meio de voltametria cíclica (VC) ou térmica (termogravimetria / termogravimetria derivada - TG/DTG e calorimetria exploratória diferencial - DSC). A superfície dos eletrodos foi caracterizada empregando-se as técnicas complementares de análise: microscopia eletrônica de varredura (imagens SEM, microanálise por EDX e mapas de distribuição de elementos), microscopia eletrônica de transmissão (imagens TEM, microanálise por EDX e difração de elétrons), difratometria de raios X (XRD) e espectroscopia fotoeletrônica de raios X (XPS). Os voltamogramas cíclicos obtidos para o sistema Ir/Hg mostram até 3 picos na região de varredura de potenciais decrescentes, que foram atribuídos a: deposição de Hg em regime de subpotencial (UPD); deposição de Hg volumétrico, e redução de óxidos. A curva de I-E para a varredura de potenciais crescentes mostra até 6 picos, dependendo do tratamento empregado, que foram atribuídos a: oxidação de Hg volumétrico a Hg(I); oxidação de Hg(I) a Hg(II); oxidação de Hg presente no filme sobre a superfície do substrato a Hg(II); oxidação de Hg presente na sub-superfície do eletrodo a Hg(II); formação de óxidos. Os voltamogramas cíclicos obtidos para o sistema Pt-Ir(30%)/Hg mostram até 4 picos na varredura de potenciais decrescentes, que foram atribuídos a: deposição de Hg em regime de subpotencial (UPD) e redução de óxidos, concomitantemente; deposição eletroquímica de Hg volumétrico, e formação de produtos de interação Hg-substrato. Na varredura de potenciais crescentes a curva I-E mostra até 6 picos, dependendo do tratamento empregado, atribuídos a: oxidação de Hg volumétrico a Hg(I); oxidação...Laminar electrodes of Ir or Pt-(30%)Ir were used as substrates for electrodeposition of Hg from Hg(I)-containing solutions, and Hg removal, using cyclic voltammetry (CV) or thermal analysis (thermogravimetry / derivated thermogravimetry - TG/DTG and differential scanning calorimetry- DSC). The electrode surface was characterized using complementary techniques for surface analysis: scanning electron microscopy (SEM images, EDX microanalysis and mapping of elements), transmission electron microscopy (TEM images, EDX microanalysis and electron diffraction), X ray diffratometry (XRD) and X ray photoelectron spectroscopy (XPS). The cyclic voltammograms of the Ir/Hg system shows at least 3 peaks in the cathodic potential scan, which were attributed to: underpotential deposition of Hg (UPD); bulk Hg deposition, and; reduction of oxides. In the anodic potential scan up to 6 peaks can be observed (depending on the treatment used), which were attributed to: bulk Hg oxidation to Hg(I); oxidation of Hg(I) to Hg(II); oxidation of Hg film formed on the substrate surface to Hg(II); oxidation of Hg from the sub-surface to Hg(II); the formation of oxides. The cyclic voltammograms obtained for the Pt-(30%)Ir/Hg system show up to 4 peaks in the cathodic potential scan, which were attributed to: underpotential deposition of Hg (UPD) and the reduction of oxides, concomitantly; bulk Hg deposition, and; the formation of products of Hg-substrate interaction. In the anodic potential scan up to 6 peaks could be recorded (depending on the electrode treatment), which were attributed to: bulk Hg oxidation to Hg(I); oxidation of Hg film from the substrate surface to Hg(II); the formation of oxides and decomposition of intermetallic compounds formed by Hg-substrate interactions, and Hg removal from substrate and decomposition of Pt/Hg intermetallic compounds. The Hg was also deposited at an open-circuit potential...(Complete abstract click electronic access below)Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior (CAPES)Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo (FAPESP)Universidade Estadual Paulista (Unesp)Benedetti, Assis Vicente [UNESP]Fertonani, Fernando Luis [UNESP]Universidade Estadual Paulista (Unesp)Milaré, Edilson [UNESP]2014-06-11T19:35:05Z2014-06-11T19:35:05Z2004info:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/doctoralThesisx, 144 f. : il.application/pdfMILARÉ, Edilson. Estudo eletroquímico e termoanalítico dos sistemas Ir/Hg e Pt - (30%) Ir/Hg. 2004. x, 144 f. Tese (doutorado) - Universidade Estadual Paulista, Instituto de Química, 2004.http://hdl.handle.net/11449/105658000221139milare_e_dr_araiq.pdf33004030072P8Alephreponame:Repositório Institucional da UNESPinstname:Universidade Estadual Paulista (UNESP)instacron:UNESPporinfo:eu-repo/semantics/openAccess2023-11-24T06:11:39Zoai:repositorio.unesp.br:11449/105658Repositório InstitucionalPUBhttp://repositorio.unesp.br/oai/requestopendoar:29462024-08-05T18:34:08.532284Repositório Institucional da UNESP - Universidade Estadual Paulista (UNESP)false
dc.title.none.fl_str_mv Estudo eletroquímico e termoanalítico dos sistemas Ir/Hg e Pt - (30%) Ir/Hg
title Estudo eletroquímico e termoanalítico dos sistemas Ir/Hg e Pt - (30%) Ir/Hg
spellingShingle Estudo eletroquímico e termoanalítico dos sistemas Ir/Hg e Pt - (30%) Ir/Hg
Milaré, Edilson [UNESP]
Eletrodos
Voltametria
Quimica analitica
Electrodes
title_short Estudo eletroquímico e termoanalítico dos sistemas Ir/Hg e Pt - (30%) Ir/Hg
title_full Estudo eletroquímico e termoanalítico dos sistemas Ir/Hg e Pt - (30%) Ir/Hg
title_fullStr Estudo eletroquímico e termoanalítico dos sistemas Ir/Hg e Pt - (30%) Ir/Hg
title_full_unstemmed Estudo eletroquímico e termoanalítico dos sistemas Ir/Hg e Pt - (30%) Ir/Hg
title_sort Estudo eletroquímico e termoanalítico dos sistemas Ir/Hg e Pt - (30%) Ir/Hg
author Milaré, Edilson [UNESP]
author_facet Milaré, Edilson [UNESP]
author_role author
dc.contributor.none.fl_str_mv Benedetti, Assis Vicente [UNESP]
Fertonani, Fernando Luis [UNESP]
Universidade Estadual Paulista (Unesp)
dc.contributor.author.fl_str_mv Milaré, Edilson [UNESP]
dc.subject.por.fl_str_mv Eletrodos
Voltametria
Quimica analitica
Electrodes
topic Eletrodos
Voltametria
Quimica analitica
Electrodes
description Eletrodos laminares de Ir ou Pt-Ir(30%) foram empregados como substratos para deposição eletroquímica de Hg, a partir de soluções contendo íons Hg(I), e remoção deste Hg por meio de voltametria cíclica (VC) ou térmica (termogravimetria / termogravimetria derivada - TG/DTG e calorimetria exploratória diferencial - DSC). A superfície dos eletrodos foi caracterizada empregando-se as técnicas complementares de análise: microscopia eletrônica de varredura (imagens SEM, microanálise por EDX e mapas de distribuição de elementos), microscopia eletrônica de transmissão (imagens TEM, microanálise por EDX e difração de elétrons), difratometria de raios X (XRD) e espectroscopia fotoeletrônica de raios X (XPS). Os voltamogramas cíclicos obtidos para o sistema Ir/Hg mostram até 3 picos na região de varredura de potenciais decrescentes, que foram atribuídos a: deposição de Hg em regime de subpotencial (UPD); deposição de Hg volumétrico, e redução de óxidos. A curva de I-E para a varredura de potenciais crescentes mostra até 6 picos, dependendo do tratamento empregado, que foram atribuídos a: oxidação de Hg volumétrico a Hg(I); oxidação de Hg(I) a Hg(II); oxidação de Hg presente no filme sobre a superfície do substrato a Hg(II); oxidação de Hg presente na sub-superfície do eletrodo a Hg(II); formação de óxidos. Os voltamogramas cíclicos obtidos para o sistema Pt-Ir(30%)/Hg mostram até 4 picos na varredura de potenciais decrescentes, que foram atribuídos a: deposição de Hg em regime de subpotencial (UPD) e redução de óxidos, concomitantemente; deposição eletroquímica de Hg volumétrico, e formação de produtos de interação Hg-substrato. Na varredura de potenciais crescentes a curva I-E mostra até 6 picos, dependendo do tratamento empregado, atribuídos a: oxidação de Hg volumétrico a Hg(I); oxidação...
publishDate 2004
dc.date.none.fl_str_mv 2004
2014-06-11T19:35:05Z
2014-06-11T19:35:05Z
dc.type.status.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.type.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/doctoralThesis
format doctoralThesis
status_str publishedVersion
dc.identifier.uri.fl_str_mv MILARÉ, Edilson. Estudo eletroquímico e termoanalítico dos sistemas Ir/Hg e Pt - (30%) Ir/Hg. 2004. x, 144 f. Tese (doutorado) - Universidade Estadual Paulista, Instituto de Química, 2004.
http://hdl.handle.net/11449/105658
000221139
milare_e_dr_araiq.pdf
33004030072P8
identifier_str_mv MILARÉ, Edilson. Estudo eletroquímico e termoanalítico dos sistemas Ir/Hg e Pt - (30%) Ir/Hg. 2004. x, 144 f. Tese (doutorado) - Universidade Estadual Paulista, Instituto de Química, 2004.
000221139
milare_e_dr_araiq.pdf
33004030072P8
url http://hdl.handle.net/11449/105658
dc.language.iso.fl_str_mv por
language por
dc.rights.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
eu_rights_str_mv openAccess
dc.format.none.fl_str_mv x, 144 f. : il.
application/pdf
dc.publisher.none.fl_str_mv Universidade Estadual Paulista (Unesp)
publisher.none.fl_str_mv Universidade Estadual Paulista (Unesp)
dc.source.none.fl_str_mv Aleph
reponame:Repositório Institucional da UNESP
instname:Universidade Estadual Paulista (UNESP)
instacron:UNESP
instname_str Universidade Estadual Paulista (UNESP)
instacron_str UNESP
institution UNESP
reponame_str Repositório Institucional da UNESP
collection Repositório Institucional da UNESP
repository.name.fl_str_mv Repositório Institucional da UNESP - Universidade Estadual Paulista (UNESP)
repository.mail.fl_str_mv
_version_ 1808128949407973376