Plasmas fluorados com acoplamento indutivo.

• Autor(a) principal: Rodrigues, Bruno da Silva
• Data de Publicação: 2006
• Tipo de documento: Dissertação
• Idioma: por
• Título da fonte: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP
• Texto Completo: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-26052006-114707/
• topic: espectrometria de emissão; ICP; ICP; OES; plasma; plasma

Este trabalho de mestrado tem o intuito de caracterizar plasmas do tipo indutivo (ICP). Para a caracterização do plasma, foram usadas técnicas de espectroscopia e medidas elétricas. Foram analisados plasmas de Argônio, por ser um gás inerte, oxigênio, por ser um pouco eletronegativo, SF6, por ser um gás muito eletronegativo e útil para a corrosão de silício, misturas de oxigênio e SF6 com Ar, CF4 e misturas de CF4 com Ar. Observou-se que obtêm-se plasmas indutivamente acoplados quando se cria uma condição de concentração mínima de elétrons livres no plasma. Isso acontece quando há uma certa potência aplicada no eletrodo e outra potência aplicada na bobina. Quanto menos eletronegativo o gás, menores são estas potências. Nos casos estudados significa que é mais fácil obter acoplamento indutivo com Ar puro, depois com as misturas dos gases. Em nosso reator foi mais difícil conseguir obter plasmas indutivamente acoplados com O2 e SF6 puros, pois não tivemos condições de “hardware" para aplicar as potências altas as suficientes para criar o plasma indutivo. Também estudamos dois materiais como material de eletrodo, estanho e alumínio e observamos que para o SF6 há uma maior concentração de F com eletrodo de Sn enquanto para CF4 a concentração de F e maior com eletrodo de Al.