Desenvolvimento de técnica de confecção de fotomáscara/retículos usando gerador de padrões.

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Seki, Jorge
Data de Publicação: 1996
Tipo de documento: Dissertação
Idioma: por
Título da fonte: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP
Texto Completo: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-27082024-111155/
Resumo: Este trabalho fundamenta-se no estudo do gerador de padrões óptico micropattern printer Research Devices Instruments (RDI) modelo imagem 100, instalado no Laboratório de Microeletrônica da EPUSP (LME-EPUSP), para o desenvolvimento de técnica de confecção de fotomáscaras/retículos de baixa complexidade com resoluções próximas a duas micra, melhorando muito o sistema fotolitográfico tradicionalmente utilizado no laboratório. Após a instalação do gerador de padrões e a inicialização dos trabalhos com o equipamento (projeto gepa - gerador de padrões), duas foram as dificuldades imediatas encontradas: os critérios de definição dos parâmetros de processo para o fotorresiste exposto no gerador de padrões e a definição dos parâmetros de exposição corretos com o equipamento, dentre as inúmeras possibilidades que o equipamento permitia. As dimensões de trabalho que se pretendiam com o equipamento tornavam o processo fotolitográfico crítico e fora dos padrões usuais do laboratório. Deparamos com uma falta, tanto do esclarecimento sobre algumas etapas do processo fotolitográfico, como também do conhecimento sobre o sistema óptico de exposição do equipamento. Devido a estas dificuldades básicas este trabalho foi proposto.
id USP_c080a51295c87b200a17273fd68fe7af
oai_identifier_str oai:teses.usp.br:tde-27082024-111155
network_acronym_str USP
network_name_str Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP
repository_id_str 2721
spelling Desenvolvimento de técnica de confecção de fotomáscara/retículos usando gerador de padrões.Untitled in englishMicroelectronicsMicroeletrônicaEste trabalho fundamenta-se no estudo do gerador de padrões óptico micropattern printer Research Devices Instruments (RDI) modelo imagem 100, instalado no Laboratório de Microeletrônica da EPUSP (LME-EPUSP), para o desenvolvimento de técnica de confecção de fotomáscaras/retículos de baixa complexidade com resoluções próximas a duas micra, melhorando muito o sistema fotolitográfico tradicionalmente utilizado no laboratório. Após a instalação do gerador de padrões e a inicialização dos trabalhos com o equipamento (projeto gepa - gerador de padrões), duas foram as dificuldades imediatas encontradas: os critérios de definição dos parâmetros de processo para o fotorresiste exposto no gerador de padrões e a definição dos parâmetros de exposição corretos com o equipamento, dentre as inúmeras possibilidades que o equipamento permitia. As dimensões de trabalho que se pretendiam com o equipamento tornavam o processo fotolitográfico crítico e fora dos padrões usuais do laboratório. Deparamos com uma falta, tanto do esclarecimento sobre algumas etapas do processo fotolitográfico, como também do conhecimento sobre o sistema óptico de exposição do equipamento. Devido a estas dificuldades básicas este trabalho foi proposto.This work is based on the study of the optical Pattern Generator Research Devices Instruments (RDI) MICROPATTERN PRINTER model IMAGEEM 100 installed at the EPUSP Microeletronic Laboratory (LME) for the development of a confection technique of low complexity photomasks/reticles with resolutions of about two microns, improving a lot the photolitographic system traditionally used in the laboratory. After we had the Pattern Generator installed and worked with it for a while. (Project GEPA Pattern Generator), we had faced two difficulties: the criterion for the definition of the process parameters related to the photoresist exposed at the Pattern Generator, and, because of several possibilities offered by the equipment, the definition of the correct exposure parameters. The dimensions we have proposed in our activities with the equipment have made the photolitographic process critical and non-standard regarding the usual patterns of the laboratory. We faced problems due to a lack, not only of the explanation about some stages of the photolitographic process, but also of the understanding about the exposure optical system of the equipment. This work came out as a resulto f these difficulties. Firstly, it as conducted the detailed revision on the photolitographic subject, in relation to the previous study (theoretical and practical) of the characteristics of the photoresist, as well as in relation to the exposure optical system.Thus, it was possible to define a criterion for the acquisition of the parameters of the optimized process from the photoresist. The maximum resolutions of any objective lenses of the equipment were characterized with the process parameter obtained using this criterion. In order to implemente this work also as an equipment hadbook (in addition to the one offered by the manufacturer which is insuficiente), some useful information were put together for the preparation of layouts with the system and information about the Pattern Generators operation to the creation of photomasks/reticles of the same edited layout. We verified that the maximum resolution of two microns promised by the manufacturer is obtained with degraded contrast. We also tested the functionality of the encoder at the correct positioning of the XY stage and, from this, we have concluded that the main use of the equipment is for manufacturing reticles, and the execution of the final photomask is limited to its low complexity. In order to have a guindance about the capability of the equipment, some examples of phots/reticles previously done with the system are presented in the work.Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USPSaito, MegumiSeki, Jorge1996-02-27info:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisapplication/pdfhttps://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-27082024-111155/reponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USPinstname:Universidade de São Paulo (USP)instacron:USPLiberar o conteúdo para acesso público.info:eu-repo/semantics/openAccesspor2024-08-27T14:18:03Zoai:teses.usp.br:tde-27082024-111155Biblioteca Digital de Teses e Dissertaçõeshttp://www.teses.usp.br/PUBhttp://www.teses.usp.br/cgi-bin/mtd2br.plvirginia@if.usp.br|| atendimento@aguia.usp.br||virginia@if.usp.bropendoar:27212024-08-27T14:18:03Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP - Universidade de São Paulo (USP)false
dc.title.none.fl_str_mv Desenvolvimento de técnica de confecção de fotomáscara/retículos usando gerador de padrões.
Untitled in english
title Desenvolvimento de técnica de confecção de fotomáscara/retículos usando gerador de padrões.
spellingShingle Desenvolvimento de técnica de confecção de fotomáscara/retículos usando gerador de padrões.
Seki, Jorge
Microelectronics
Microeletrônica
title_short Desenvolvimento de técnica de confecção de fotomáscara/retículos usando gerador de padrões.
title_full Desenvolvimento de técnica de confecção de fotomáscara/retículos usando gerador de padrões.
title_fullStr Desenvolvimento de técnica de confecção de fotomáscara/retículos usando gerador de padrões.
title_full_unstemmed Desenvolvimento de técnica de confecção de fotomáscara/retículos usando gerador de padrões.
title_sort Desenvolvimento de técnica de confecção de fotomáscara/retículos usando gerador de padrões.
author Seki, Jorge
author_facet Seki, Jorge
author_role author
dc.contributor.none.fl_str_mv Saito, Megumi
dc.contributor.author.fl_str_mv Seki, Jorge
dc.subject.por.fl_str_mv Microelectronics
Microeletrônica
topic Microelectronics
Microeletrônica
description Este trabalho fundamenta-se no estudo do gerador de padrões óptico micropattern printer Research Devices Instruments (RDI) modelo imagem 100, instalado no Laboratório de Microeletrônica da EPUSP (LME-EPUSP), para o desenvolvimento de técnica de confecção de fotomáscaras/retículos de baixa complexidade com resoluções próximas a duas micra, melhorando muito o sistema fotolitográfico tradicionalmente utilizado no laboratório. Após a instalação do gerador de padrões e a inicialização dos trabalhos com o equipamento (projeto gepa - gerador de padrões), duas foram as dificuldades imediatas encontradas: os critérios de definição dos parâmetros de processo para o fotorresiste exposto no gerador de padrões e a definição dos parâmetros de exposição corretos com o equipamento, dentre as inúmeras possibilidades que o equipamento permitia. As dimensões de trabalho que se pretendiam com o equipamento tornavam o processo fotolitográfico crítico e fora dos padrões usuais do laboratório. Deparamos com uma falta, tanto do esclarecimento sobre algumas etapas do processo fotolitográfico, como também do conhecimento sobre o sistema óptico de exposição do equipamento. Devido a estas dificuldades básicas este trabalho foi proposto.
publishDate 1996
dc.date.none.fl_str_mv 1996-02-27
dc.type.status.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.type.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/masterThesis
format masterThesis
status_str publishedVersion
dc.identifier.uri.fl_str_mv https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-27082024-111155/
url https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-27082024-111155/
dc.language.iso.fl_str_mv por
language por
dc.relation.none.fl_str_mv
dc.rights.driver.fl_str_mv Liberar o conteúdo para acesso público.
info:eu-repo/semantics/openAccess
rights_invalid_str_mv Liberar o conteúdo para acesso público.
eu_rights_str_mv openAccess
dc.format.none.fl_str_mv application/pdf
dc.coverage.none.fl_str_mv
dc.publisher.none.fl_str_mv Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
publisher.none.fl_str_mv Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
dc.source.none.fl_str_mv
reponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP
instname:Universidade de São Paulo (USP)
instacron:USP
instname_str Universidade de São Paulo (USP)
instacron_str USP
institution USP
reponame_str Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP
collection Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP
repository.name.fl_str_mv Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP - Universidade de São Paulo (USP)
repository.mail.fl_str_mv virginia@if.usp.br|| atendimento@aguia.usp.br||virginia@if.usp.br
_version_ 1809091130516570112

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