Corrosão de alumínio por plasma.

• Autor(a) principal: Nakazawa, Angela Makie
• Data de Publicação: 1997
• Tipo de documento: Dissertação
• Idioma: por
• Título da fonte: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP
• Texto Completo: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-22082024-075052/
• topic: Alumínio; Aluminum; Corrosão; Corrosion; Microelectronics; Microeletrônica; Plasma; Plasma

Este trabalho apresenta um estudo da corrosão de alumínio por plasma utilizando c\'CL IND.4\' + \'N IND.2\' e b\'CL IND.3\' + \'CL IND.2\', com o objetivo de obter-se linhas de alumínio com perfil vertical. As amostras foram preparadas com alumínio depositado por evaporação e por sputtering. Foram propostos dois métodos para determinar a taxa de corrosão de alumínio e o tempo de quebra do óxido de alumínio. Os resultados indicam que a taxa de corrosão de alumínio varia de uma lâmina para outra, com o tamanho das lâminas e que a taxa de corrosão não é constante no tempo. Portanto, a análise dos resultados demanda mais cuidado. Utilizando como máscara os traçados obtidos pela litografia de três camadas, analisou-se o perfil das linhas de alumínio. Foi obtido perfil vertical em c\'CL IND.4\' + \'N IND.2\', mas com esta mistura o tempo de quebra do óxido de alumínio é grande e pouco reprodutível. O tempo de quebra é menor e reprodutível com b\'CL IND.3\' + \'CL IND.2\', mas ocorre corrosão lateral. Foi realizado um processo de corrosão em duas etapas: a primeira com b\'CL IND.3\' + \'CL IND.2\' para remover o óxido de alumínio e a segunda com c\'CL IND.4\' + \'N IND.2\' para obter as linhas com perfil vertical. As análises no microscópio eletrônico mostram que este processo de duas etapas funciona de acordo com o esperado.