Filmes finos de carbono depositados por meio da t??cnica de magnetron sputtering usando cobalto, cobre e n??quel como buffer-layers

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: COSTA e SILVA, DANILO L.
Data de Publicação: 2015
Tipo de documento: Dissertação
Título da fonte: Repositório Institucional do IPEN
Texto Completo: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/23916
Resumo: Neste trabalho, foram produzidos filmes finos de carbono pela t??cnica de magnetron sputtering usando substratos monocristalinos de alumina com plano-c orientado em (0001) e substratos de Si (111) e Si (100), empregando Co, Ni e Cu como filmes intermedi??rios (buffer-layers). As deposi????es foram conduzidas em tr??s etapas, sendo primeiramente realizadas com buffer-layers de cobalto em substratos de alumina, onde somente ap??s a produ????o de grande n??mero de amostras, foram ent??o realizadas as deposi????es usando buffer-layer de cobre em substratos de Si. Em seguida foram realizadas as deposi????es com buffer-layers de n??quel em substratos de alumina. A cristalinidade dos filmes de carbono foi avaliada por meio da t??cnica de espectroscopia Raman e complementarmente por difra????o de raios X (DRX). A caracteriza????o morfol??gica dos filmes foi feita por meio da microscopia eletr??nica de varredura (MEV E FEG-SEM) e microscopia eletr??nica de transmiss??o de alta resolu????o (HRTEM). Picos de DRX referentes aos filmes de carbono foram observados apenas nos resultados das amostras com buffer-layers de cobalto e de n??quel. A espectroscopia Raman mostrou que os filmes de carbono com maior grau de cristalinidade foram os produzidos com substratos de Si (111) e buffers de Cu, e com substratos de alumina com buffer-layers de Ni e Co, tendo este ??ltimo uma amostra com o maior grau de cristalinidade de todas as produzidas no trabalho. Foi observado que o cobalto possui menor recobrimento sobre os substratos de alumina quando comparado ao n??quel. Foram realizados testes de absor????o de ??ons de Ce pelos filmes de carbono em duas amostras e foi observado que a absor????o n??o ocorreu devido, provavelmente, ao baixo grau de cristalinidade dos filmes de carbono em ambas amostras.
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A caracteriza????o morfol??gica dos filmes foi feita por meio da microscopia eletr??nica de varredura (MEV E FEG-SEM) e microscopia eletr??nica de transmiss??o de alta resolu????o (HRTEM). Picos de DRX referentes aos filmes de carbono foram observados apenas nos resultados das amostras com buffer-layers de cobalto e de n??quel. A espectroscopia Raman mostrou que os filmes de carbono com maior grau de cristalinidade foram os produzidos com substratos de Si (111) e buffers de Cu, e com substratos de alumina com buffer-layers de Ni e Co, tendo este ??ltimo uma amostra com o maior grau de cristalinidade de todas as produzidas no trabalho. Foi observado que o cobalto possui menor recobrimento sobre os substratos de alumina quando comparado ao n??quel. 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