Estudo do efeito da espessura e da temperatura de recozimento nas propriedades ópticas e morfológicas de filmes finos de nitreto de silício
Autor(a) principal: | |
---|---|
Data de Publicação: | 2022 |
Tipo de documento: | Dissertação |
Idioma: | por |
Título da fonte: | Repositório Institucional da Universidade Federal Fluminense (RIUFF) |
Texto Completo: | http://app.uff.br/riuff/handle/1/26879 |
Resumo: | A utilização de vidros com alto desempenho energético apresenta-se de forma marcante na arquitetura moderna, não apenas em função de suas qualidades estéticas, mas principalmente devido a sua capacidade de reduzir o aporte de energia solar aos ambientes. Esses produtos são normalmente constituídos de uma lâmina de vidro plano revestido por uma ou mais camadas com espessuras nanométricas, constituídas em sua maioria por materiais metálicos e cerâmicos. As propriedades físicas e químicas associadas a cada camada afetam consideravelmente a performance do produto final, sendo de grande interesse por parte da indústria o estudo na busca de camadas com propriedades otimizadas, como uma melhor uniformidade de espessura, isotropia de composição e baixa rugosidade nas interfaces. O presente trabalho tem por objetivo estudar o efeito da espessura e da temperatura de tratamento térmico nas propriedades ópticas, mecânicas e cristalográficas de filmes finos de nitreto de Silício (SiNx) depositados sobre substratos de vidro do tipo soda-cálcio. As camadas foram depositadas através de técnica de magnetron sputtering reativo, onde os parâmetros de deposição foram mantidos constantes, sendo apenas a velocidade das amostras sob o plasma variada a fim de se obter filmes finos com espessuras entre 50 e 250 nm, posteriormente submetidas a tratamentos térmicos a temperaturas entre 400 e 700 °C. A espessura, rugosidade superficial e propriedades ópticas dos revestimentos foram avaliadas através da técnica de elipsometria espectral com múltiplos ângulos de incidência a ampla faixa espectral. A técnica de Microscopia Confocal foi empregada para a inspeção superficial das amostras, assim como a técnica de Difração de Raios X para a avaliação da estrutura cristalina dos filmes finos produzidos. Testes instrumentados de dureza foram ainda empregados para a avaliação da dureza e módulo de elasticidade das amostras. Como principais resultados são apresentados o comportamento linear de queda do índice de refração em função de temperatura de tratamento térmico e a formação de defeitos na superfície dos revestimentos quando tratados a temperaturas mais elevadas, além dos comportamentos da estrutura cristalina e propriedades mecânicas em função da temperatura e espessura dos revestimentos. |
id |
UFF-2_e75e5bdb92250bf601e96bdf7469fb68 |
---|---|
oai_identifier_str |
oai:app.uff.br:1/26879 |
network_acronym_str |
UFF-2 |
network_name_str |
Repositório Institucional da Universidade Federal Fluminense (RIUFF) |
repository_id_str |
2120 |
spelling |
Estudo do efeito da espessura e da temperatura de recozimento nas propriedades ópticas e morfológicas de filmes finos de nitreto de silícioElipsometria espectralNitreto de silícioMagnetron sputteringVidros planosVidroOnda eletromagnéticaElipsometriaEngenharia MetalúrgicaProdução intelectualSpectroscopic ellipsometrySilicon nitrideMagnetron sputteringFlat glassA utilização de vidros com alto desempenho energético apresenta-se de forma marcante na arquitetura moderna, não apenas em função de suas qualidades estéticas, mas principalmente devido a sua capacidade de reduzir o aporte de energia solar aos ambientes. Esses produtos são normalmente constituídos de uma lâmina de vidro plano revestido por uma ou mais camadas com espessuras nanométricas, constituídas em sua maioria por materiais metálicos e cerâmicos. As propriedades físicas e químicas associadas a cada camada afetam consideravelmente a performance do produto final, sendo de grande interesse por parte da indústria o estudo na busca de camadas com propriedades otimizadas, como uma melhor uniformidade de espessura, isotropia de composição e baixa rugosidade nas interfaces. O presente trabalho tem por objetivo estudar o efeito da espessura e da temperatura de tratamento térmico nas propriedades ópticas, mecânicas e cristalográficas de filmes finos de nitreto de Silício (SiNx) depositados sobre substratos de vidro do tipo soda-cálcio. As camadas foram depositadas através de técnica de magnetron sputtering reativo, onde os parâmetros de deposição foram mantidos constantes, sendo apenas a velocidade das amostras sob o plasma variada a fim de se obter filmes finos com espessuras entre 50 e 250 nm, posteriormente submetidas a tratamentos térmicos a temperaturas entre 400 e 700 °C. A espessura, rugosidade superficial e propriedades ópticas dos revestimentos foram avaliadas através da técnica de elipsometria espectral com múltiplos ângulos de incidência a ampla faixa espectral. A técnica de Microscopia Confocal foi empregada para a inspeção superficial das amostras, assim como a técnica de Difração de Raios X para a avaliação da estrutura cristalina dos filmes finos produzidos. Testes instrumentados de dureza foram ainda empregados para a avaliação da dureza e módulo de elasticidade das amostras. Como principais resultados são apresentados o comportamento linear de queda do índice de refração em função de temperatura de tratamento térmico e a formação de defeitos na superfície dos revestimentos quando tratados a temperaturas mais elevadas, além dos comportamentos da estrutura cristalina e propriedades mecânicas em função da temperatura e espessura dos revestimentos.The use of high energy performance glazing has strong impact in the modern architecture not only due to its aesthetics qualities, but mainly due to its capacity of reducing the amount of solar energy inside buildings. This kind of products are normally made by means of a flat glass pane coated with one or more layers with nanometric thicknesses, mainly composed by metallic and ceramic materials. The physical and chemical properties associated to each layer considerably impact the final product performance, being the study toward obtaining layers with optimal properties, like better thickness uniformity, composition isotropy, and low interfaces roughness of high interest by the industry. The aim of the present study is to evaluate the effect of the thickness and the annealing temperature on the optical, mechanical and crystallographic properties of silicon nitride (SiNx) thin films deposited on soda-lime glass. The layers were deposited by means of reactive magnetron sputtering technique, keeping all deposition parameters fixed, just with the substrate speed under the plasma being varied in order to produce thin films with thicknesses varying from 50 nm to 250 nm, later submitted to thermal annealing at temperatures varying from 400°C to 700°C. The thickness, optical and morphological properties of the samples were evaluated by means of spectroscopy ellipsometry with multiple incidence angles and wide spectral region. Confocal microscopy was applied for samples surface inspection, as well as the use of X Rays diffraction in order to investigate the produced thin films lattice structure. Instrumented hardness tests were applied on the evaluation of samples hardness and elasticity modulus. As main results are shown the linear fall behavior of the refraction index as a function of the thermal treatment temperature and the defects formation on coatings surface when treated at high temperatures, besides of the structural and mechanical properties behaviors as functions of temperature and film thickness.79 p.Silva, Ladário dahttp://lattes.cnpq.br/3743563498830737Cruz, Leila Rosa de Oliveirahttp://lattes.cnpq.br/0075319046844894Moreira, Luciano Pessanhahttp://lattes.cnpq.br/5673024226638200http://lattes.cnpq.br/5333046913382185Kreling, Afonso2022-11-09T13:38:49Z2022-11-09T13:38:49Zinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisapplication/pdfKRELING, Afonso. Estudo do efeito da espessura e da temperatura de recozimento nas propriedades ópticas e morfológicas de filmes finos de nitreto de silício. 2015. 79 f. Dissertação (Mestrado) - Curso de Engenharia Metalúrgica, Programa de Pós-Graduação em Engenharia Metalúrgica, Universidade Federal Fluminense, Volta Redonda, 2015.http://app.uff.br/riuff/handle/1/26879CC-BY-SAinfo:eu-repo/semantics/openAccessporreponame:Repositório Institucional da Universidade Federal Fluminense (RIUFF)instname:Universidade Federal Fluminense (UFF)instacron:UFF2022-11-09T13:38:53Zoai:app.uff.br:1/26879Repositório InstitucionalPUBhttps://app.uff.br/oai/requestriuff@id.uff.bropendoar:21202024-08-19T10:51:56.466558Repositório Institucional da Universidade Federal Fluminense (RIUFF) - Universidade Federal Fluminense (UFF)false |
dc.title.none.fl_str_mv |
Estudo do efeito da espessura e da temperatura de recozimento nas propriedades ópticas e morfológicas de filmes finos de nitreto de silício |
title |
Estudo do efeito da espessura e da temperatura de recozimento nas propriedades ópticas e morfológicas de filmes finos de nitreto de silício |
spellingShingle |
Estudo do efeito da espessura e da temperatura de recozimento nas propriedades ópticas e morfológicas de filmes finos de nitreto de silício Kreling, Afonso Elipsometria espectral Nitreto de silício Magnetron sputtering Vidros planos Vidro Onda eletromagnética Elipsometria Engenharia Metalúrgica Produção intelectual Spectroscopic ellipsometry Silicon nitride Magnetron sputtering Flat glass |
title_short |
Estudo do efeito da espessura e da temperatura de recozimento nas propriedades ópticas e morfológicas de filmes finos de nitreto de silício |
title_full |
Estudo do efeito da espessura e da temperatura de recozimento nas propriedades ópticas e morfológicas de filmes finos de nitreto de silício |
title_fullStr |
Estudo do efeito da espessura e da temperatura de recozimento nas propriedades ópticas e morfológicas de filmes finos de nitreto de silício |
title_full_unstemmed |
Estudo do efeito da espessura e da temperatura de recozimento nas propriedades ópticas e morfológicas de filmes finos de nitreto de silício |
title_sort |
Estudo do efeito da espessura e da temperatura de recozimento nas propriedades ópticas e morfológicas de filmes finos de nitreto de silício |
author |
Kreling, Afonso |
author_facet |
Kreling, Afonso |
author_role |
author |
dc.contributor.none.fl_str_mv |
Silva, Ladário da http://lattes.cnpq.br/3743563498830737 Cruz, Leila Rosa de Oliveira http://lattes.cnpq.br/0075319046844894 Moreira, Luciano Pessanha http://lattes.cnpq.br/5673024226638200 http://lattes.cnpq.br/5333046913382185 |
dc.contributor.author.fl_str_mv |
Kreling, Afonso |
dc.subject.por.fl_str_mv |
Elipsometria espectral Nitreto de silício Magnetron sputtering Vidros planos Vidro Onda eletromagnética Elipsometria Engenharia Metalúrgica Produção intelectual Spectroscopic ellipsometry Silicon nitride Magnetron sputtering Flat glass |
topic |
Elipsometria espectral Nitreto de silício Magnetron sputtering Vidros planos Vidro Onda eletromagnética Elipsometria Engenharia Metalúrgica Produção intelectual Spectroscopic ellipsometry Silicon nitride Magnetron sputtering Flat glass |
description |
A utilização de vidros com alto desempenho energético apresenta-se de forma marcante na arquitetura moderna, não apenas em função de suas qualidades estéticas, mas principalmente devido a sua capacidade de reduzir o aporte de energia solar aos ambientes. Esses produtos são normalmente constituídos de uma lâmina de vidro plano revestido por uma ou mais camadas com espessuras nanométricas, constituídas em sua maioria por materiais metálicos e cerâmicos. As propriedades físicas e químicas associadas a cada camada afetam consideravelmente a performance do produto final, sendo de grande interesse por parte da indústria o estudo na busca de camadas com propriedades otimizadas, como uma melhor uniformidade de espessura, isotropia de composição e baixa rugosidade nas interfaces. O presente trabalho tem por objetivo estudar o efeito da espessura e da temperatura de tratamento térmico nas propriedades ópticas, mecânicas e cristalográficas de filmes finos de nitreto de Silício (SiNx) depositados sobre substratos de vidro do tipo soda-cálcio. As camadas foram depositadas através de técnica de magnetron sputtering reativo, onde os parâmetros de deposição foram mantidos constantes, sendo apenas a velocidade das amostras sob o plasma variada a fim de se obter filmes finos com espessuras entre 50 e 250 nm, posteriormente submetidas a tratamentos térmicos a temperaturas entre 400 e 700 °C. A espessura, rugosidade superficial e propriedades ópticas dos revestimentos foram avaliadas através da técnica de elipsometria espectral com múltiplos ângulos de incidência a ampla faixa espectral. A técnica de Microscopia Confocal foi empregada para a inspeção superficial das amostras, assim como a técnica de Difração de Raios X para a avaliação da estrutura cristalina dos filmes finos produzidos. Testes instrumentados de dureza foram ainda empregados para a avaliação da dureza e módulo de elasticidade das amostras. Como principais resultados são apresentados o comportamento linear de queda do índice de refração em função de temperatura de tratamento térmico e a formação de defeitos na superfície dos revestimentos quando tratados a temperaturas mais elevadas, além dos comportamentos da estrutura cristalina e propriedades mecânicas em função da temperatura e espessura dos revestimentos. |
publishDate |
2022 |
dc.date.none.fl_str_mv |
2022-11-09T13:38:49Z 2022-11-09T13:38:49Z |
dc.type.status.fl_str_mv |
info:eu-repo/semantics/publishedVersion |
dc.type.driver.fl_str_mv |
info:eu-repo/semantics/masterThesis |
format |
masterThesis |
status_str |
publishedVersion |
dc.identifier.uri.fl_str_mv |
KRELING, Afonso. Estudo do efeito da espessura e da temperatura de recozimento nas propriedades ópticas e morfológicas de filmes finos de nitreto de silício. 2015. 79 f. Dissertação (Mestrado) - Curso de Engenharia Metalúrgica, Programa de Pós-Graduação em Engenharia Metalúrgica, Universidade Federal Fluminense, Volta Redonda, 2015. http://app.uff.br/riuff/handle/1/26879 |
identifier_str_mv |
KRELING, Afonso. Estudo do efeito da espessura e da temperatura de recozimento nas propriedades ópticas e morfológicas de filmes finos de nitreto de silício. 2015. 79 f. Dissertação (Mestrado) - Curso de Engenharia Metalúrgica, Programa de Pós-Graduação em Engenharia Metalúrgica, Universidade Federal Fluminense, Volta Redonda, 2015. |
url |
http://app.uff.br/riuff/handle/1/26879 |
dc.language.iso.fl_str_mv |
por |
language |
por |
dc.rights.driver.fl_str_mv |
CC-BY-SA info:eu-repo/semantics/openAccess |
rights_invalid_str_mv |
CC-BY-SA |
eu_rights_str_mv |
openAccess |
dc.format.none.fl_str_mv |
application/pdf |
dc.source.none.fl_str_mv |
reponame:Repositório Institucional da Universidade Federal Fluminense (RIUFF) instname:Universidade Federal Fluminense (UFF) instacron:UFF |
instname_str |
Universidade Federal Fluminense (UFF) |
instacron_str |
UFF |
institution |
UFF |
reponame_str |
Repositório Institucional da Universidade Federal Fluminense (RIUFF) |
collection |
Repositório Institucional da Universidade Federal Fluminense (RIUFF) |
repository.name.fl_str_mv |
Repositório Institucional da Universidade Federal Fluminense (RIUFF) - Universidade Federal Fluminense (UFF) |
repository.mail.fl_str_mv |
riuff@id.uff.br |
_version_ |
1811823592746254336 |