Estudo de retroespalhamento Rutherford em camadas de SiO/sub 2/ implantados com Ge e Si

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Kremer, Felipe
Data de Publicação: 2004
Outros Autores: Lopes, João Marcelo Jordão
Tipo de documento: Artigo de conferência
Idioma: por
Título da fonte: Repositório Institucional da UFRGS
Texto Completo: http://hdl.handle.net/10183/61544
Resumo: 035
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