Processamento de placas de circuito impresso por tratamento com misturas contendo ácido fluorídrico
Autor(a) principal: | |
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Data de Publicação: | 2017 |
Tipo de documento: | Trabalho de conclusão de curso |
Idioma: | por |
Título da fonte: | Repositório Institucional da UFRJ |
Texto Completo: | http://hdl.handle.net/11422/5693 |
Resumo: | Nos dias atuais a sociedade vive o auge de dois extremos: a tecnologia, onde a automação está cada vez mais avançada e a obsolescência programada, fazendo com que o consumo de produtos eletrônicos seja tão grande quanto o de alimentos. Os equipamentos eletroeletrônicos têm tido uma vida útil cada vez menor e sua alta produção gera dois principais problemas: o alto consumo de recursos naturais de fontes não renováveis, como os minerais extraídos para a produção de metais, e o descarte inapropriado destes resíduos eletroeletrônicos, representando um perigo aos catadores e pessoas que moram próximas ao local do descarte, e a perda da possibilidade de reciclá-los. Este trabalho descreve o processamento de placas de circuito impresso de telefones celulares por misturas HF + H2O2 ou HF + NaClO. A resina que recobre as placas foi previamente removida por aquecimento com NaOH 6 mol L-1 por 1 h. Em cerca de 1 h a 35-40 oC, a mistura HF 5 mol L-1 + H2O2 5 mol L-1 dissolveu quase totalmente cobre e metais menos nobres que o hidrogênio na série de potenciais, obtendo-se um concentrado sólido rico em metais nobres (ouro, prata, paládio, platina). Da solução se pôde extrair o cobre seletivamente com ácido (bis)2-etil-hexilfosfórico (D2EHPA) (6% vol. em n-heptano). Em outra rota, em cerca de 1 h a 40-45ºC, a mistura HF 10 mol L-1 + NaClO 3% (m/m) dissolveu quase totalmente o cobre e metais nobres com exceção da prata, que precipitou na forma de cloreto. Da solução também se pôde extrair o cobre seletivamente com ácido (bis)2-etil-hexilfosfórico (D2EHPA) (6% vol. em n-heptano). Estes resultados fornecem uma nova visão de reciclagem para componentes eletroeletrônicos de pequeno porte e abre portas para novas pesquisas nessa área. |
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Os equipamentos eletroeletrônicos têm tido uma vida útil cada vez menor e sua alta produção gera dois principais problemas: o alto consumo de recursos naturais de fontes não renováveis, como os minerais extraídos para a produção de metais, e o descarte inapropriado destes resíduos eletroeletrônicos, representando um perigo aos catadores e pessoas que moram próximas ao local do descarte, e a perda da possibilidade de reciclá-los. Este trabalho descreve o processamento de placas de circuito impresso de telefones celulares por misturas HF + H2O2 ou HF + NaClO. A resina que recobre as placas foi previamente removida por aquecimento com NaOH 6 mol L-1 por 1 h. Em cerca de 1 h a 35-40 oC, a mistura HF 5 mol L-1 + H2O2 5 mol L-1 dissolveu quase totalmente cobre e metais menos nobres que o hidrogênio na série de potenciais, obtendo-se um concentrado sólido rico em metais nobres (ouro, prata, paládio, platina). Da solução se pôde extrair o cobre seletivamente com ácido (bis)2-etil-hexilfosfórico (D2EHPA) (6% vol. em n-heptano). Em outra rota, em cerca de 1 h a 40-45ºC, a mistura HF 10 mol L-1 + NaClO 3% (m/m) dissolveu quase totalmente o cobre e metais nobres com exceção da prata, que precipitou na forma de cloreto. Da solução também se pôde extrair o cobre seletivamente com ácido (bis)2-etil-hexilfosfórico (D2EHPA) (6% vol. em n-heptano). Estes resultados fornecem uma nova visão de reciclagem para componentes eletroeletrônicos de pequeno porte e abre portas para novas pesquisas nessa área.porUniversidade Federal do Rio de JaneiroUFRJBrasilInstituto de QuímicaCNPQ::CIENCIAS EXATAS E DA TERRA::QUIMICA::QUIMICA INORGANICAÁcido fluorídricoPlacas de circuito impressoTelefones celularesProcessamento de placas de circuito impresso por tratamento com misturas contendo ácido fluorídricoinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/bachelorThesisabertoinfo:eu-repo/semantics/openAccessreponame:Repositório Institucional da UFRJinstname:Universidade Federal do Rio de Janeiro (UFRJ)instacron:UFRJORIGINALWalner Costa Silva.pdfWalner Costa Silva.pdfapplication/pdf837570http://pantheon.ufrj.br:80/bitstream/11422/5693/1/Walner+Costa+Silva.pdf3e197a678980cff2510bb0b17fe04b8bMD51LICENSElicense.txtlicense.txttext/plain; charset=utf-81853http://pantheon.ufrj.br:80/bitstream/11422/5693/2/license.txtdd32849f2bfb22da963c3aac6e26e255MD5211422/56932023-11-30 00:02:38.0oai:pantheon.ufrj.br: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Repositório de PublicaçõesPUBhttp://www.pantheon.ufrj.br/oai/requestopendoar:2023-11-30T03:02:38Repositório Institucional da UFRJ - Universidade Federal do Rio de Janeiro (UFRJ)false |
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