Deposição e caracterização de filmes finos de NbAIN por magnetron sputtering reativo
Autor(a) principal: | |
---|---|
Data de Publicação: | 2016 |
Tipo de documento: | Dissertação |
Idioma: | por |
Título da fonte: | Repositório Institucional da UFS |
Texto Completo: | https://ri.ufs.br/handle/riufs/3526 |
Resumo: | The objective of this work was to study NbAlN thin films and the influence of variation in the concentration of aluminum in the crystal structure, mechanical properties and oxidation resistance of these coatings. The thin films were deposited by reactive magnetron sputtering and characterized by Grazing Incidence X-ray Diffraction (GIXRD), Energy Dispersive Spectroscopy (EDS), Rutherford Backscattering Spectrometry (RBS), nanohardness analysis and oxidation tests at high temperatures. It was first necessary to define the deposition parameters of NbN thin films with δ-NbN phase (fcc). From this, NbAlN thin films were deposited and present at concentration of 10, 20 and 42 at% Al. The NbAlN crystalline phase obtained was the δ-NbN, however it was observed a shift of the peaks in the patterns obtained GIXRD of regions for larger angles for these samples, indicating the formation of a solid solution. The higher oxidation resistance temperature was 700° C for the sample with 42 in at% Al. From the SEM analysis it was possible to observe the surface of the film after oxidation, all films showed defects, however the amount of such defects was lower in samples with higher aluminum concentrations. The average hardness values obtained for thin films NbAlN was 25 GPa. |
id |
UFS-2_0e035f8a6de63dc3b99ae75b0753f1c7 |
---|---|
oai_identifier_str |
oai:ufs.br:riufs/3526 |
network_acronym_str |
UFS-2 |
network_name_str |
Repositório Institucional da UFS |
repository_id_str |
|
spelling |
Carvalho, Renata GomesTentardini, Eduardo Kirinushttp://lattes.cnpq.br/92697675235013942017-09-26T12:02:05Z2017-09-26T12:02:05Z2016-02-17Carvalho, Renata Gomes. Deposição e caracterização de filmes finos de NbAIN por magnetron sputtering reativo. 2016. 78 f. Dissertação (Pós-Graduação em Ciência e Engenharia de Materiais) - Universidade Federal de Sergipe, São Cristóvão, 2016.https://ri.ufs.br/handle/riufs/3526The objective of this work was to study NbAlN thin films and the influence of variation in the concentration of aluminum in the crystal structure, mechanical properties and oxidation resistance of these coatings. The thin films were deposited by reactive magnetron sputtering and characterized by Grazing Incidence X-ray Diffraction (GIXRD), Energy Dispersive Spectroscopy (EDS), Rutherford Backscattering Spectrometry (RBS), nanohardness analysis and oxidation tests at high temperatures. It was first necessary to define the deposition parameters of NbN thin films with δ-NbN phase (fcc). From this, NbAlN thin films were deposited and present at concentration of 10, 20 and 42 at% Al. The NbAlN crystalline phase obtained was the δ-NbN, however it was observed a shift of the peaks in the patterns obtained GIXRD of regions for larger angles for these samples, indicating the formation of a solid solution. The higher oxidation resistance temperature was 700° C for the sample with 42 in at% Al. From the SEM analysis it was possible to observe the surface of the film after oxidation, all films showed defects, however the amount of such defects was lower in samples with higher aluminum concentrations. The average hardness values obtained for thin films NbAlN was 25 GPa.O objetivo do presente trabalho foi estudar filmes finos de NbAlN e verificar a influência da variação da concentração de alumínio na estrutura cristalina, propriedades mecânicas e resistência à oxidação desses revestimentos. Os filmes finos foram depositados por magnetron sputtering reativo e caracterizados por Difração de Raios X em Ângulo Rasante (GIXRD), Espectroscopia de Energia dispersiva (EDS), Espectroscopia por Retroespalhamento Rutherford (RBS), análises de nanodureza e testes de oxidação a altas temperaturas. Primeiramente foi necessário definir os parâmetros de deposição de filmes finos de NbN com fase δ-NbN (cfc). A partir disso, filmes finos de NbAlN foram depositados e apresentaram concentração em at% de Al de 10, 20 e 42. A fase cristalina obtida para os filmes de NbAlN foi a δ-NbN, entretanto foi observado um deslocamento dos picos obtidos nos padrões de GIXRD para regiões de ângulos maiores para essas amostras, o que indica a formação de uma solução sólida. A maior temperatura de resistência à oxidação foi de 700°C para a amostra com 42 at% de Al. A partir das análises de MEV foi possível observar a superfície dos filmes após a oxidação, todos os filmes apresentaram defeitos, entretanto a quantidade desses defeitos foi menor nas amostras com maiores concentrações de alumínio. Os valores médios de dureza obtido para os filmes finos de NbAlN foi de 25 GPa.Conselho Nacional de Pesquisa e Desenvolvimento Científico e Tecnológico - CNPqapplication/pdfporUniversidade Federal de SergipePós-Graduação em Ciência e Engenharia de MateriaisUFSBrasilFilmes finosCompostos de nióbioOxidaçãoProteção catódicaNitreto de nióbioSputteringNiobium nitrideThin filmsOxidationENGENHARIAS::ENGENHARIA DE MATERIAIS E METALURGICADeposição e caracterização de filmes finos de NbAIN por magnetron sputtering reativoDeposition and characterization of NbAIN thin films by reactive magnetron sputteringinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisinfo:eu-repo/semantics/openAccessreponame:Repositório Institucional da UFSinstname:Universidade Federal de Sergipe (UFS)instacron:UFSTEXTRENATA_GOMES_CARVALHO.pdf.txtRENATA_GOMES_CARVALHO.pdf.txtExtracted texttext/plain115581https://ri.ufs.br/jspui/bitstream/riufs/3526/2/RENATA_GOMES_CARVALHO.pdf.txt1cf69407bfc6a762f83c3ca5c3494c04MD52THUMBNAILRENATA_GOMES_CARVALHO.pdf.jpgRENATA_GOMES_CARVALHO.pdf.jpgGenerated Thumbnailimage/jpeg1322https://ri.ufs.br/jspui/bitstream/riufs/3526/3/RENATA_GOMES_CARVALHO.pdf.jpg3b66007afeca923c06168a7025bab3fdMD53ORIGINALRENATA_GOMES_CARVALHO.pdfapplication/pdf3481691https://ri.ufs.br/jspui/bitstream/riufs/3526/1/RENATA_GOMES_CARVALHO.pdf20bdde3a1441166167796f6bc7e15911MD51riufs/35262017-11-27 21:25:17.082oai:ufs.br:riufs/3526Repositório InstitucionalPUBhttps://ri.ufs.br/oai/requestrepositorio@academico.ufs.bropendoar:2017-11-28T00:25:17Repositório Institucional da UFS - Universidade Federal de Sergipe (UFS)false |
dc.title.por.fl_str_mv |
Deposição e caracterização de filmes finos de NbAIN por magnetron sputtering reativo |
dc.title.alternative.eng.fl_str_mv |
Deposition and characterization of NbAIN thin films by reactive magnetron sputtering |
title |
Deposição e caracterização de filmes finos de NbAIN por magnetron sputtering reativo |
spellingShingle |
Deposição e caracterização de filmes finos de NbAIN por magnetron sputtering reativo Carvalho, Renata Gomes Filmes finos Compostos de nióbio Oxidação Proteção catódica Nitreto de nióbio Sputtering Niobium nitride Thin films Oxidation ENGENHARIAS::ENGENHARIA DE MATERIAIS E METALURGICA |
title_short |
Deposição e caracterização de filmes finos de NbAIN por magnetron sputtering reativo |
title_full |
Deposição e caracterização de filmes finos de NbAIN por magnetron sputtering reativo |
title_fullStr |
Deposição e caracterização de filmes finos de NbAIN por magnetron sputtering reativo |
title_full_unstemmed |
Deposição e caracterização de filmes finos de NbAIN por magnetron sputtering reativo |
title_sort |
Deposição e caracterização de filmes finos de NbAIN por magnetron sputtering reativo |
author |
Carvalho, Renata Gomes |
author_facet |
Carvalho, Renata Gomes |
author_role |
author |
dc.contributor.author.fl_str_mv |
Carvalho, Renata Gomes |
dc.contributor.advisor1.fl_str_mv |
Tentardini, Eduardo Kirinus |
dc.contributor.authorLattes.fl_str_mv |
http://lattes.cnpq.br/9269767523501394 |
contributor_str_mv |
Tentardini, Eduardo Kirinus |
dc.subject.por.fl_str_mv |
Filmes finos Compostos de nióbio Oxidação Proteção catódica Nitreto de nióbio |
topic |
Filmes finos Compostos de nióbio Oxidação Proteção catódica Nitreto de nióbio Sputtering Niobium nitride Thin films Oxidation ENGENHARIAS::ENGENHARIA DE MATERIAIS E METALURGICA |
dc.subject.eng.fl_str_mv |
Sputtering Niobium nitride Thin films Oxidation |
dc.subject.cnpq.fl_str_mv |
ENGENHARIAS::ENGENHARIA DE MATERIAIS E METALURGICA |
description |
The objective of this work was to study NbAlN thin films and the influence of variation in the concentration of aluminum in the crystal structure, mechanical properties and oxidation resistance of these coatings. The thin films were deposited by reactive magnetron sputtering and characterized by Grazing Incidence X-ray Diffraction (GIXRD), Energy Dispersive Spectroscopy (EDS), Rutherford Backscattering Spectrometry (RBS), nanohardness analysis and oxidation tests at high temperatures. It was first necessary to define the deposition parameters of NbN thin films with δ-NbN phase (fcc). From this, NbAlN thin films were deposited and present at concentration of 10, 20 and 42 at% Al. The NbAlN crystalline phase obtained was the δ-NbN, however it was observed a shift of the peaks in the patterns obtained GIXRD of regions for larger angles for these samples, indicating the formation of a solid solution. The higher oxidation resistance temperature was 700° C for the sample with 42 in at% Al. From the SEM analysis it was possible to observe the surface of the film after oxidation, all films showed defects, however the amount of such defects was lower in samples with higher aluminum concentrations. The average hardness values obtained for thin films NbAlN was 25 GPa. |
publishDate |
2016 |
dc.date.issued.fl_str_mv |
2016-02-17 |
dc.date.accessioned.fl_str_mv |
2017-09-26T12:02:05Z |
dc.date.available.fl_str_mv |
2017-09-26T12:02:05Z |
dc.type.status.fl_str_mv |
info:eu-repo/semantics/publishedVersion |
dc.type.driver.fl_str_mv |
info:eu-repo/semantics/masterThesis |
format |
masterThesis |
status_str |
publishedVersion |
dc.identifier.citation.fl_str_mv |
Carvalho, Renata Gomes. Deposição e caracterização de filmes finos de NbAIN por magnetron sputtering reativo. 2016. 78 f. Dissertação (Pós-Graduação em Ciência e Engenharia de Materiais) - Universidade Federal de Sergipe, São Cristóvão, 2016. |
dc.identifier.uri.fl_str_mv |
https://ri.ufs.br/handle/riufs/3526 |
identifier_str_mv |
Carvalho, Renata Gomes. Deposição e caracterização de filmes finos de NbAIN por magnetron sputtering reativo. 2016. 78 f. Dissertação (Pós-Graduação em Ciência e Engenharia de Materiais) - Universidade Federal de Sergipe, São Cristóvão, 2016. |
url |
https://ri.ufs.br/handle/riufs/3526 |
dc.language.iso.fl_str_mv |
por |
language |
por |
dc.rights.driver.fl_str_mv |
info:eu-repo/semantics/openAccess |
eu_rights_str_mv |
openAccess |
dc.format.none.fl_str_mv |
application/pdf |
dc.publisher.none.fl_str_mv |
Universidade Federal de Sergipe |
dc.publisher.program.fl_str_mv |
Pós-Graduação em Ciência e Engenharia de Materiais |
dc.publisher.initials.fl_str_mv |
UFS |
dc.publisher.country.fl_str_mv |
Brasil |
publisher.none.fl_str_mv |
Universidade Federal de Sergipe |
dc.source.none.fl_str_mv |
reponame:Repositório Institucional da UFS instname:Universidade Federal de Sergipe (UFS) instacron:UFS |
instname_str |
Universidade Federal de Sergipe (UFS) |
instacron_str |
UFS |
institution |
UFS |
reponame_str |
Repositório Institucional da UFS |
collection |
Repositório Institucional da UFS |
bitstream.url.fl_str_mv |
https://ri.ufs.br/jspui/bitstream/riufs/3526/2/RENATA_GOMES_CARVALHO.pdf.txt https://ri.ufs.br/jspui/bitstream/riufs/3526/3/RENATA_GOMES_CARVALHO.pdf.jpg https://ri.ufs.br/jspui/bitstream/riufs/3526/1/RENATA_GOMES_CARVALHO.pdf |
bitstream.checksum.fl_str_mv |
1cf69407bfc6a762f83c3ca5c3494c04 3b66007afeca923c06168a7025bab3fd 20bdde3a1441166167796f6bc7e15911 |
bitstream.checksumAlgorithm.fl_str_mv |
MD5 MD5 MD5 |
repository.name.fl_str_mv |
Repositório Institucional da UFS - Universidade Federal de Sergipe (UFS) |
repository.mail.fl_str_mv |
repositorio@academico.ufs.br |
_version_ |
1802110779947745280 |