Deposição de filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Alves, Marco Antonio Robert, 1964-
Data de Publicação: 1996
Tipo de documento: Tese
Idioma: por
Título da fonte: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
Texto Completo: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1584105
Resumo: Orientador: Edmundo da Silva Braga
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spelling Deposição de filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RFCarbonoFilmes finosPlasma (Gases ionizados)DiodosOrientador: Edmundo da Silva BragaTese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de ComputaçãoResumo: Filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) foram obtidos através .da técnica de deposição química a partir da fase de vapor assistida por plasma de RF (RFPECVD). Os filmes foram depositados em um reator de placas paralelas utilizando como fonte do gás o metano (CH4) e a mistura gasosa metano/tetrafluoreto de carbono (CHJCF4).Os filmes de a-C:H foram depositados sobre o substrato de silício visando a fabricação das heteroestruturas metal/a-C:H/silício. A caracterização elétrica dos dispositivos foi realizada levantando as características corrente-tensão (1 x V) e capacitância-tensão (C x V). Observou-se que as heteroestruturas têm propriedades retificadoras, ou seja, se comportam como um diodo de heterojunção ou diodo MIS (metal/isolador/ semicondutor)DoutoradoDoutor em Engenharia Elétrica[s.n.]Braga, Edmundo da Silva, 1945-Universidade Estadual de Campinas. Faculdade de Engenharia Elétrica e de ComputaçãoPrograma de Pós-Graduação em Engenharia ElétricaUNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINASAlves, Marco Antonio Robert, 1964-19961996-11-07T00:00:00Zinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/doctoralThesisapplication/pdf1v.(varias paginações) : il.(Broch.)https://hdl.handle.net/20.500.12733/1584105ALVES, Marco Antonio Robert. Deposição de filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF. 1996. 1v.(varias paginações) Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação, Campinas, SP. Disponível em: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1584105. Acesso em: 14 mai. 2024.https://repositorio.unicamp.br/acervo/detalhe/112970porreponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)instname:Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)instacron:UNICAMPinfo:eu-repo/semantics/openAccess2014-04-18T09:09:24Zoai::112970Biblioteca Digital de Teses e DissertaçõesPUBhttp://repositorio.unicamp.br/oai/tese/oai.aspsbubd@unicamp.bropendoar:2014-04-18T09:09:24Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP) - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)false
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