Deposição de filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Alves, Marco Antonio Robert, 1964-
Data de Publicação: 1996
Tipo de documento: Tese
Idioma: por
Título da fonte: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
Texto Completo: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1584105
Resumo: Orientador: Edmundo da Silva Braga
id UNICAMP-30_23f0687b03b2fe71cb8fb89c7b68d47d
oai_identifier_str oai::112970
network_acronym_str UNICAMP-30
network_name_str Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
repository_id_str
spelling Deposição de filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RFCarbonoFilmes finosPlasma (Gases ionizados)DiodosOrientador: Edmundo da Silva BragaTese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de ComputaçãoResumo: Filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) foram obtidos através .da técnica de deposição química a partir da fase de vapor assistida por plasma de RF (RFPECVD). Os filmes foram depositados em um reator de placas paralelas utilizando como fonte do gás o metano (CH4) e a mistura gasosa metano/tetrafluoreto de carbono (CHJCF4).Os filmes de a-C:H foram depositados sobre o substrato de silício visando a fabricação das heteroestruturas metal/a-C:H/silício. A caracterização elétrica dos dispositivos foi realizada levantando as características corrente-tensão (1 x V) e capacitância-tensão (C x V). Observou-se que as heteroestruturas têm propriedades retificadoras, ou seja, se comportam como um diodo de heterojunção ou diodo MIS (metal/isolador/ semicondutor)DoutoradoDoutor em Engenharia Elétrica[s.n.]Braga, Edmundo da Silva, 1945-Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Faculdade de Engenharia Elétrica e de ComputaçãoPrograma de Pós-Graduação em Engenharia ElétricaUNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINASAlves, Marco Antonio Robert, 1964-19961996-11-07T00:00:00Zinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/doctoralThesisapplication/pdf1v.(varias paginações) : il.(Broch.)https://hdl.handle.net/20.500.12733/1584105ALVES, Marco Antonio Robert. Deposição de filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF. 1996. 1v.(varias paginações) Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação, Campinas, SP. Disponível em: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1584105. Acesso em: 2 set. 2024.https://repositorio.unicamp.br/acervo/detalhe/112970porreponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)instname:Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)instacron:UNICAMPinfo:eu-repo/semantics/openAccess2014-04-18T09:09:24Zoai::112970Biblioteca Digital de Teses e DissertaçõesPUBhttp://repositorio.unicamp.br/oai/tese/oai.aspsbubd@unicamp.bropendoar:2014-04-18T09:09:24Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP) - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)false
dc.title.none.fl_str_mv Deposição de filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF
title Deposição de filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF
spellingShingle Deposição de filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF
Alves, Marco Antonio Robert, 1964-
Carbono
Filmes finos
Plasma (Gases ionizados)
Diodos
title_short Deposição de filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF
title_full Deposição de filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF
title_fullStr Deposição de filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF
title_full_unstemmed Deposição de filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF
title_sort Deposição de filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF
author Alves, Marco Antonio Robert, 1964-
author_facet Alves, Marco Antonio Robert, 1964-
author_role author
dc.contributor.none.fl_str_mv Braga, Edmundo da Silva, 1945-
Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação
Programa de Pós-Graduação em Engenharia Elétrica
UNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS
dc.contributor.author.fl_str_mv Alves, Marco Antonio Robert, 1964-
dc.subject.por.fl_str_mv Carbono
Filmes finos
Plasma (Gases ionizados)
Diodos
topic Carbono
Filmes finos
Plasma (Gases ionizados)
Diodos
description Orientador: Edmundo da Silva Braga
publishDate 1996
dc.date.none.fl_str_mv 1996
1996-11-07T00:00:00Z
dc.type.status.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.type.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/doctoralThesis
format doctoralThesis
status_str publishedVersion
dc.identifier.uri.fl_str_mv (Broch.)
https://hdl.handle.net/20.500.12733/1584105
ALVES, Marco Antonio Robert. Deposição de filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF. 1996. 1v.(varias paginações) Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação, Campinas, SP. Disponível em: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1584105. Acesso em: 2 set. 2024.
identifier_str_mv (Broch.)
ALVES, Marco Antonio Robert. Deposição de filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF. 1996. 1v.(varias paginações) Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação, Campinas, SP. Disponível em: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1584105. Acesso em: 2 set. 2024.
url https://hdl.handle.net/20.500.12733/1584105
dc.language.iso.fl_str_mv por
language por
dc.relation.none.fl_str_mv https://repositorio.unicamp.br/acervo/detalhe/112970
dc.rights.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
eu_rights_str_mv openAccess
dc.format.none.fl_str_mv application/pdf
1v.(varias paginações) : il.
dc.publisher.none.fl_str_mv [s.n.]
publisher.none.fl_str_mv [s.n.]
dc.source.none.fl_str_mv reponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
instname:Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
instacron:UNICAMP
instname_str Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
instacron_str UNICAMP
institution UNICAMP
reponame_str Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
collection Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
repository.name.fl_str_mv Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP) - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
repository.mail.fl_str_mv sbubd@unicamp.br
_version_ 1809188791427006464

Registros relacionados