Caracterização da deposição e corrosão dos filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Balachova, Olga Viatcheslavovna
Data de Publicação: 1998
Tipo de documento: Dissertação
Idioma: por
Título da fonte: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
Texto Completo: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1586142
Resumo: Orientador: Edmundo da Silva Braga
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spelling Caracterização da deposição e corrosão dos filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RFCarbonoFilmes finosPlasma (Gases ionizados)Orientador: Edmundo da Silva BragaDissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de ComputaçãoResumo: Os filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) foram fabricados através da técnica de deposição química a partir da fase de vapor assistida por plasma de rádio freqüência ( RF ), em um reator de placas paralelas, utilizando como fonte gasosa o metano ( CH4). Os filmes de carbono (a-C:H) foram depositados sobre substratos de silício ( Si ), óxido de silício ( Si02 ) e quartzo de espessuras diferentes. Foram obtidas as curvas características da taxa de deposição dos filmes de carbono em função da potência de RF e da espessura do substrato. Foi estudado o comportamento dos filmes de carbono (a-C:H) no plasma de oxigênio ( 02 ) e tetrafluoreto de carbono (CF 4 ) e foram obtidas as curvas de taxas de corrosão correspondentes. Também como resultado das experiências foram obtidas as curvas de taxa de corrosão de Si e Si02 no plasma de CF 4. Foram determinados também os valores da taxa de corrosão do fotorresiste Az 5214 no plasma de O2 e CF 4MestradoEletrônica, Microeletrônica e OptoeletrônicaMestre em Engenharia Elétrica[s.n.]Braga, Edmundo da Silva, 1945-Universidade Estadual de Campinas. Faculdade de Engenharia Elétrica e de ComputaçãoPrograma de Pós-Graduação em Engenharia ElétricaUNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINASBalachova, Olga Viatcheslavovna19981998-06-19T00:00:00Zinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisapplication/pdf52f. : il.https://hdl.handle.net/20.500.12733/1586142BALACHOVA, Olga Viatcheslavovna. Caracterização da deposição e corrosão dos filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF. 1998. 52f. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação, Campinas, SP. Disponível em: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1586142. Acesso em: 14 mai. 2024.https://repositorio.unicamp.br/acervo/detalhe/131749porreponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)instname:Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)instacron:UNICAMPinfo:eu-repo/semantics/openAccess2014-04-18T11:35:07Zoai::131749Biblioteca Digital de Teses e DissertaçõesPUBhttp://repositorio.unicamp.br/oai/tese/oai.aspsbubd@unicamp.bropendoar:2014-04-18T11:35:07Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP) - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)false
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