Obtenção e caracterização de filmes de silicio policristalino para aplicação em tecnologia MOS porta de silicio
Autor(a) principal: | |
---|---|
Data de Publicação: | 1984 |
Tipo de documento: | Dissertação |
Idioma: | por |
Título da fonte: | Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP) |
Texto Completo: | https://hdl.handle.net/20.500.12733/1577049 |
Resumo: | Orientador: Wilmar Bueno de Moraes |
id |
UNICAMP-30_59c9d5a5ad0dd48619272d566c2acc11 |
---|---|
oai_identifier_str |
oai::47112 |
network_acronym_str |
UNICAMP-30 |
network_name_str |
Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP) |
repository_id_str |
|
spelling |
Obtenção e caracterização de filmes de silicio policristalino para aplicação em tecnologia MOS porta de silicioSemicondutores de óxido metálicoSilício - TecnologiaMateriaisOrientador: Wilmar Bueno de MoraesDissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia de CampinasResumo: O objetivo deste trabalho é investigar a obtenção de filmes de silício policristalino, depositados no reator epitaxial projetado e construído no nosso laboratório, a partir da redução de tetracloreto de silício por hidrogênio, e caracterizar estes filmes visando aplicá-los em uma tecnologia MOS porta de silício. Para tanto, ajustamos alguns parâmetros geométricos do reator epitaxial, verificamos a dependência da deposição e morfologia dos filmes com os parâmetros CVD (temperatura do substrato, fluxo total de gases e concentração de SiCl4). Dopamos os filmes por difusão térmica convencional, determinamos: taxa e resolução de ataque químico, resistência de folha, resistência de contato da interface silício policristalino/alumínio, largura efetiva da linha de silício policristalino, cargas no óxido de porta, etc. E ainda, foi definido um roteiro de instruções básicas para a construção de um transistor canal N com porta de silício.Abstract: Not informed.MestradoMestre em Engenharia Elétrica[s.n.]Moraes, Wilmar Bueno de, 1939-Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Faculdade de Engenharia de CampinasPrograma de Pós-Graduação em Engenharia ElétricaUNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINASFerreira, Elnatan Chagas, 1955-19841984-12-13T00:00:00Zinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisapplication/pdf1v. (paginação irregular).https://hdl.handle.net/20.500.12733/1577049FERREIRA, Elnatan Chagas. Obtenção e caracterização de filmes de silicio policristalino para aplicação em tecnologia MOS porta de silicio. 1984. 1v. (paginação irregular) Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia de Campinas, Campinas, SP. Disponível em: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1577049. Acesso em: 2 set. 2024.https://repositorio.unicamp.br/acervo/detalhe/47112porreponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)instname:Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)instacron:UNICAMPinfo:eu-repo/semantics/openAccess2014-04-17T23:23:31Zoai::47112Biblioteca Digital de Teses e DissertaçõesPUBhttp://repositorio.unicamp.br/oai/tese/oai.aspsbubd@unicamp.bropendoar:2014-04-17T23:23:31Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP) - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)false |
dc.title.none.fl_str_mv |
Obtenção e caracterização de filmes de silicio policristalino para aplicação em tecnologia MOS porta de silicio |
title |
Obtenção e caracterização de filmes de silicio policristalino para aplicação em tecnologia MOS porta de silicio |
spellingShingle |
Obtenção e caracterização de filmes de silicio policristalino para aplicação em tecnologia MOS porta de silicio Ferreira, Elnatan Chagas, 1955- Semicondutores de óxido metálico Silício - Tecnologia Materiais |
title_short |
Obtenção e caracterização de filmes de silicio policristalino para aplicação em tecnologia MOS porta de silicio |
title_full |
Obtenção e caracterização de filmes de silicio policristalino para aplicação em tecnologia MOS porta de silicio |
title_fullStr |
Obtenção e caracterização de filmes de silicio policristalino para aplicação em tecnologia MOS porta de silicio |
title_full_unstemmed |
Obtenção e caracterização de filmes de silicio policristalino para aplicação em tecnologia MOS porta de silicio |
title_sort |
Obtenção e caracterização de filmes de silicio policristalino para aplicação em tecnologia MOS porta de silicio |
author |
Ferreira, Elnatan Chagas, 1955- |
author_facet |
Ferreira, Elnatan Chagas, 1955- |
author_role |
author |
dc.contributor.none.fl_str_mv |
Moraes, Wilmar Bueno de, 1939- Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Faculdade de Engenharia de Campinas Programa de Pós-Graduação em Engenharia Elétrica UNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS |
dc.contributor.author.fl_str_mv |
Ferreira, Elnatan Chagas, 1955- |
dc.subject.por.fl_str_mv |
Semicondutores de óxido metálico Silício - Tecnologia Materiais |
topic |
Semicondutores de óxido metálico Silício - Tecnologia Materiais |
description |
Orientador: Wilmar Bueno de Moraes |
publishDate |
1984 |
dc.date.none.fl_str_mv |
1984 1984-12-13T00:00:00Z |
dc.type.status.fl_str_mv |
info:eu-repo/semantics/publishedVersion |
dc.type.driver.fl_str_mv |
info:eu-repo/semantics/masterThesis |
format |
masterThesis |
status_str |
publishedVersion |
dc.identifier.uri.fl_str_mv |
https://hdl.handle.net/20.500.12733/1577049 FERREIRA, Elnatan Chagas. Obtenção e caracterização de filmes de silicio policristalino para aplicação em tecnologia MOS porta de silicio. 1984. 1v. (paginação irregular) Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia de Campinas, Campinas, SP. Disponível em: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1577049. Acesso em: 2 set. 2024. |
url |
https://hdl.handle.net/20.500.12733/1577049 |
identifier_str_mv |
FERREIRA, Elnatan Chagas. Obtenção e caracterização de filmes de silicio policristalino para aplicação em tecnologia MOS porta de silicio. 1984. 1v. (paginação irregular) Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia de Campinas, Campinas, SP. Disponível em: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1577049. Acesso em: 2 set. 2024. |
dc.language.iso.fl_str_mv |
por |
language |
por |
dc.relation.none.fl_str_mv |
https://repositorio.unicamp.br/acervo/detalhe/47112 |
dc.rights.driver.fl_str_mv |
info:eu-repo/semantics/openAccess |
eu_rights_str_mv |
openAccess |
dc.format.none.fl_str_mv |
application/pdf 1v. (paginação irregular). |
dc.publisher.none.fl_str_mv |
[s.n.] |
publisher.none.fl_str_mv |
[s.n.] |
dc.source.none.fl_str_mv |
reponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP) instname:Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP) instacron:UNICAMP |
instname_str |
Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP) |
instacron_str |
UNICAMP |
institution |
UNICAMP |
reponame_str |
Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP) |
collection |
Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP) |
repository.name.fl_str_mv |
Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP) - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP) |
repository.mail.fl_str_mv |
sbubd@unicamp.br |
_version_ |
1809188724996571136 |