Desenvolvimento de um sistema RP/RTCVD para deposição de filmes finos isolantes e metalicos

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Bonfim, Marlio J. Couto
Data de Publicação: 1992
Tipo de documento: Dissertação
Idioma: por
Título da fonte: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
Texto Completo: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1579804
Resumo: Orientador : Jacobus W. Swart
id UNICAMP-30_5a005705555f1d9a829aae9ee68eb3e8
oai_identifier_str oai::55338
network_acronym_str UNICAMP-30
network_name_str Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
repository_id_str
spelling Desenvolvimento de um sistema RP/RTCVD para deposição de filmes finos isolantes e metalicosFilmes finosOrientador : Jacobus W. SwartDissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia EletricaResumo: A técnica de deposição de filmes finos por CVD (Chemical Vapor Deposition) é de grande interesse atual, especialmente na mlcroeletrônica. Este trabalho apresenta o desenvolvimento de um sistema RT/RPCVD (Rapid Thermal / Remote Plasma CVD) para deposição de filmes isolantes e metálicos, voltado para aplicações em microeletrônica. O sistema possui alta versatilidade, devido principalmente às características de aquecimento rápido e disponibilidade de plasma-remoto. A câmara de reação é isolada do meio ambiente através de uma antecâmara, o que torna o processo menos susceptível a contaminantes externos, bem como permite a automação da seqüência de processo, entre outras vantagens. Um estudo preliminar da deposição de Óxido de Silício foi efetuado para caracterização e validação do equipamento. Foi avaliada a dependência do processo com as variáveis temperatura, tempo, pressão, fluxo de reagentes e potência de plasma. As características dos filmes obtidos foram determinadas a partir de medidas de espessura, uniformidade, espectroscopia de Infra Vermelho, microscopia óptica e eletrônica. Taxas de deposição entre 10 nm/min e 1000 nm/min foram obtidas em determinadas condições de processo, enquanto que a uniformidade de deposição situou-se entre 2% e 5%. Á partir das análises por espectroscopia de Infra Vermelho, os filmes demonstraram estequiometria SiO1,7-1,9, e baixa incorporação de outros elementos mesmo em deposições auxiliadas por plasmaAbstract: Thin film deposition by means of Chemical Vapor Deposition (CVD) has been of a great interest, specially in microelectronics. This work shows the development of a RT/RPCVD (Rapid Thermal / Remote Plasma CVD) systems for thin film deposition of dielectrics and metais, for use on microelectronics appliations. It is a very fIexible system because of its capabilities of Remote Plasma and Rapid Thermal Processing. It's reaction chamber is isolated from environment through a load-Iock, making the process less susceptible to external contaminants and allowing automated loading, and other advantages. A preliminary study of Silicon Dioxide deposition was used to characterize and validate the system. The process dependency with temperature, time, pressure, fIow of reactants and plasma uniformity measurements, Infra power was evaluated. Film thickness and Red spectroscopy, optical and electronics microscopy were performed to characterize the films. Deposition rates between 10 nm/min and 1000 nm/min were achieved in selected process conditions, while the uniformity of the film was from 2% to 5%. Film stoiquiometry was Si 1,7-1,9 with low incorporation of strange elements, even under plasma assisted depositionsMestradoMestre em Engenharia Elétrica[s.n.]Swart, Jacobus Willibrordus, 1950-Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Faculdade de Engenharia ElétricaPrograma de Pós-Graduação em Engenharia ElétricaUNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINASBonfim, Marlio J. Couto19921992-08-03T00:00:00Zinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisapplication/pdf1v. (varias paginações).(Broch.)https://hdl.handle.net/20.500.12733/1579804BONFIM, Marlio J. Couto. Desenvolvimento de um sistema RP/RTCVD para deposição de filmes finos isolantes e metalicos. 1992. 1v. (varias paginações) Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica, Campinas, SP. Disponível em: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1579804. Acesso em: 2 set. 2024.https://repositorio.unicamp.br/acervo/detalhe/55338Publicação FEEporreponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)instname:Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)instacron:UNICAMPinfo:eu-repo/semantics/openAccess2017-02-18T02:09:03Zoai::55338Biblioteca Digital de Teses e DissertaçõesPUBhttp://repositorio.unicamp.br/oai/tese/oai.aspsbubd@unicamp.bropendoar:2017-02-18T02:09:03Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP) - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)false
dc.title.none.fl_str_mv Desenvolvimento de um sistema RP/RTCVD para deposição de filmes finos isolantes e metalicos
title Desenvolvimento de um sistema RP/RTCVD para deposição de filmes finos isolantes e metalicos
spellingShingle Desenvolvimento de um sistema RP/RTCVD para deposição de filmes finos isolantes e metalicos
Bonfim, Marlio J. Couto
Filmes finos
title_short Desenvolvimento de um sistema RP/RTCVD para deposição de filmes finos isolantes e metalicos
title_full Desenvolvimento de um sistema RP/RTCVD para deposição de filmes finos isolantes e metalicos
title_fullStr Desenvolvimento de um sistema RP/RTCVD para deposição de filmes finos isolantes e metalicos
title_full_unstemmed Desenvolvimento de um sistema RP/RTCVD para deposição de filmes finos isolantes e metalicos
title_sort Desenvolvimento de um sistema RP/RTCVD para deposição de filmes finos isolantes e metalicos
author Bonfim, Marlio J. Couto
author_facet Bonfim, Marlio J. Couto
author_role author
dc.contributor.none.fl_str_mv Swart, Jacobus Willibrordus, 1950-
Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Faculdade de Engenharia Elétrica
Programa de Pós-Graduação em Engenharia Elétrica
UNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS
dc.contributor.author.fl_str_mv Bonfim, Marlio J. Couto
dc.subject.por.fl_str_mv Filmes finos
topic Filmes finos
description Orientador : Jacobus W. Swart
publishDate 1992
dc.date.none.fl_str_mv 1992
1992-08-03T00:00:00Z
dc.type.status.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.type.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/masterThesis
format masterThesis
status_str publishedVersion
dc.identifier.uri.fl_str_mv (Broch.)
https://hdl.handle.net/20.500.12733/1579804
BONFIM, Marlio J. Couto. Desenvolvimento de um sistema RP/RTCVD para deposição de filmes finos isolantes e metalicos. 1992. 1v. (varias paginações) Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica, Campinas, SP. Disponível em: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1579804. Acesso em: 2 set. 2024.
identifier_str_mv (Broch.)
BONFIM, Marlio J. Couto. Desenvolvimento de um sistema RP/RTCVD para deposição de filmes finos isolantes e metalicos. 1992. 1v. (varias paginações) Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica, Campinas, SP. Disponível em: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1579804. Acesso em: 2 set. 2024.
url https://hdl.handle.net/20.500.12733/1579804
dc.language.iso.fl_str_mv por
language por
dc.relation.none.fl_str_mv https://repositorio.unicamp.br/acervo/detalhe/55338
Publicação FEE
dc.rights.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
eu_rights_str_mv openAccess
dc.format.none.fl_str_mv application/pdf
1v. (varias paginações).
dc.publisher.none.fl_str_mv [s.n.]
publisher.none.fl_str_mv [s.n.]
dc.source.none.fl_str_mv reponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
instname:Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
instacron:UNICAMP
instname_str Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
instacron_str UNICAMP
institution UNICAMP
reponame_str Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
collection Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
repository.name.fl_str_mv Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP) - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
repository.mail.fl_str_mv sbubd@unicamp.br
_version_ 1809188750189658112

Registros relacionados