Contribuição ao estudo dos processos de corrosão de fotorresiste por plasma ionico e por ion reativo

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Costa Filho, Cicero Ferreira Fernandes
Data de Publicação: 1985
Tipo de documento: Dissertação
Idioma: por
Título da fonte: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
Texto Completo: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1579643
Resumo: Orientador: Edmundo da Silva Braga
id UNICAMP-30_b2797be1caaa73b9a5b7287e42ca6dd0
oai_identifier_str oai::53101
network_acronym_str UNICAMP-30
network_name_str Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
repository_id_str
spelling Contribuição ao estudo dos processos de corrosão de fotorresiste por plasma ionico e por ion reativoCorrosãoQuímica de plasmaÍonsOrientador: Edmundo da Silva BragaDissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia de CampinasResumo: Para fabricaçao de circuitos e dispositivos VLSI Very Laige Scale of Integration (Muita Larga Escala de Integraçao), a tecnologia de corrosão de material por plasma desempenhou um papel fundamental. A despeito desse processo de corrosao já ser atual mente utilizado em linhas de produçao na indústria de semi-condutores, a pesquisa sobre os mecanismos físicos e químícos nele envolvidos encontra-se em plena efervescência. Neste trabalho, apresentamos o projeto de uma câmara de reações por plasma iônico e por Ion reativo, caracterizamos o processo de corrosão de fotorresiste por ambos esses processos, estudamos o efeito de polarizações aplicados aos eletrodos sobre a taxa de corrosão do fotorresiste e investigamos a validez do emprego da microbalança como método de detecçao do ponto final. Em adição, com o intuito de melhor interpretarmos os resultados obtidos, efetuamos medidas da corrente que flui do eletrodo não conectado a fonte de RF para o terra e da tensão induzida no eletrodo conectado à fonte de RF em função da potência de RF, da pressão e de polarizações aplicadas aos eletrodos da câmara de reaçoes. No trabalho de caracterização, o ponto final das corrosões foi detectado por meio de espectroscopia ótica.Abstract: Not informed.MestradoMestre em Engenharia Elétrica[s.n.]Braga, Edmundo da Silva, 1945-Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Faculdade de Engenharia de CampinasPrograma de Pós-Graduação em Engenharia ElétricaUNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINASCosta Filho, Cicero Ferreira Fernandes1985info:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisapplication/pdf119f. : il.https://hdl.handle.net/20.500.12733/1579643COSTA FILHO, Cicero Ferreira Fernandes. Contribuição ao estudo dos processos de corrosão de fotorresiste por plasma ionico e por ion reativo. 1985. 119f. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia de Campinas, Campinas, SP. Disponível em: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1579643. Acesso em: 2 set. 2024.https://repositorio.unicamp.br/acervo/detalhe/53101porreponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)instname:Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)instacron:UNICAMPinfo:eu-repo/semantics/openAccess2014-04-18T00:17:32Zoai::53101Biblioteca Digital de Teses e DissertaçõesPUBhttp://repositorio.unicamp.br/oai/tese/oai.aspsbubd@unicamp.bropendoar:2014-04-18T00:17:32Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP) - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)false
dc.title.none.fl_str_mv Contribuição ao estudo dos processos de corrosão de fotorresiste por plasma ionico e por ion reativo
title Contribuição ao estudo dos processos de corrosão de fotorresiste por plasma ionico e por ion reativo
spellingShingle Contribuição ao estudo dos processos de corrosão de fotorresiste por plasma ionico e por ion reativo
Costa Filho, Cicero Ferreira Fernandes
Corrosão
Química de plasma
Íons
title_short Contribuição ao estudo dos processos de corrosão de fotorresiste por plasma ionico e por ion reativo
title_full Contribuição ao estudo dos processos de corrosão de fotorresiste por plasma ionico e por ion reativo
title_fullStr Contribuição ao estudo dos processos de corrosão de fotorresiste por plasma ionico e por ion reativo
title_full_unstemmed Contribuição ao estudo dos processos de corrosão de fotorresiste por plasma ionico e por ion reativo
title_sort Contribuição ao estudo dos processos de corrosão de fotorresiste por plasma ionico e por ion reativo
author Costa Filho, Cicero Ferreira Fernandes
author_facet Costa Filho, Cicero Ferreira Fernandes
author_role author
dc.contributor.none.fl_str_mv Braga, Edmundo da Silva, 1945-
Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Faculdade de Engenharia de Campinas
Programa de Pós-Graduação em Engenharia Elétrica
UNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS
dc.contributor.author.fl_str_mv Costa Filho, Cicero Ferreira Fernandes
dc.subject.por.fl_str_mv Corrosão
Química de plasma
Íons
topic Corrosão
Química de plasma
Íons
description Orientador: Edmundo da Silva Braga
publishDate 1985
dc.date.none.fl_str_mv 1985
dc.type.status.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.type.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/masterThesis
format masterThesis
status_str publishedVersion
dc.identifier.uri.fl_str_mv https://hdl.handle.net/20.500.12733/1579643
COSTA FILHO, Cicero Ferreira Fernandes. Contribuição ao estudo dos processos de corrosão de fotorresiste por plasma ionico e por ion reativo. 1985. 119f. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia de Campinas, Campinas, SP. Disponível em: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1579643. Acesso em: 2 set. 2024.
url https://hdl.handle.net/20.500.12733/1579643
identifier_str_mv COSTA FILHO, Cicero Ferreira Fernandes. Contribuição ao estudo dos processos de corrosão de fotorresiste por plasma ionico e por ion reativo. 1985. 119f. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia de Campinas, Campinas, SP. Disponível em: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1579643. Acesso em: 2 set. 2024.
dc.language.iso.fl_str_mv por
language por
dc.relation.none.fl_str_mv https://repositorio.unicamp.br/acervo/detalhe/53101
dc.rights.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
eu_rights_str_mv openAccess
dc.format.none.fl_str_mv application/pdf
119f. : il.
dc.publisher.none.fl_str_mv [s.n.]
publisher.none.fl_str_mv [s.n.]
dc.source.none.fl_str_mv reponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
instname:Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
instacron:UNICAMP
instname_str Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
instacron_str UNICAMP
institution UNICAMP
reponame_str Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
collection Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
repository.name.fl_str_mv Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP) - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
repository.mail.fl_str_mv sbubd@unicamp.br
_version_ 1809188749069778944

Registros relacionados