Estudo das propriedades elétricas e morfológicas de transistores de filme fino de óxido de zinco processados por solução
Autor(a) principal: | |
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Data de Publicação: | 2023 |
Tipo de documento: | Tese |
Idioma: | por |
Título da fonte: | Repositório Institucional da UNESP |
Texto Completo: | http://hdl.handle.net/11449/244089 |
Resumo: | Esta tese de doutorado é o resultado de alguns trabalhos realizados em estudos de dispositivos eletrônicos à base de óxidos metálicos processados por solução. O primeiro trabalho apresenta um estudo comparativo de como o método de deposição (spray-pirólise e spin-coating) da camada ativa de transistores de filme fino (TFT) afeta as propriedades físicas e o desempenho dos dispositivos. As propriedades dos filmes foram analisadas através de técnicas de espectroscopia de fotoelétrons de raios X (XPS), análise termogravimétrica (TG), microscopia eletrônica de varredura (MEV), difração de raio-x (DRX), espectroscopia UV-Vis e Elipsometria, enquanto as propriedades elétricas foram analisadas através das curvas características de um TFT, analisando a mobilidade dos portadores de carga, tensão limiar e da resistência elétrica dos filmes. O segundo trabalho apresentado nessa tese analisa os efeitos de defeitos intrínsecos na interface entre o semicondutor/isolante em TFT nas propriedades elétricas dos dispositivos através da variação da espessura da camada dielétrica (100, 200 e 300 nm) e da temperatura (80 – 350k). A influência de parâmetros como a estrutura e temperatura permitiram uma análise mais detalhada do transporte de carga de dispositivos TFT, fornecendo, dessa forma, um maior conhecimento das propriedades físicas dos materiais estudados. |
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Estudo das propriedades elétricas e morfológicas de transistores de filme fino de óxido de zinco processados por soluçãoStudy of the electrical and morphological properties of solution processed zinc oxide thin film transistorsTransistor de ZnOSpray-piróliseSpin-coatingDefeitos intrínsecos de interfaceDispositivos eletrônicosZnO transistorInterface intrinsic defectsElectronic devicesEsta tese de doutorado é o resultado de alguns trabalhos realizados em estudos de dispositivos eletrônicos à base de óxidos metálicos processados por solução. O primeiro trabalho apresenta um estudo comparativo de como o método de deposição (spray-pirólise e spin-coating) da camada ativa de transistores de filme fino (TFT) afeta as propriedades físicas e o desempenho dos dispositivos. As propriedades dos filmes foram analisadas através de técnicas de espectroscopia de fotoelétrons de raios X (XPS), análise termogravimétrica (TG), microscopia eletrônica de varredura (MEV), difração de raio-x (DRX), espectroscopia UV-Vis e Elipsometria, enquanto as propriedades elétricas foram analisadas através das curvas características de um TFT, analisando a mobilidade dos portadores de carga, tensão limiar e da resistência elétrica dos filmes. O segundo trabalho apresentado nessa tese analisa os efeitos de defeitos intrínsecos na interface entre o semicondutor/isolante em TFT nas propriedades elétricas dos dispositivos através da variação da espessura da camada dielétrica (100, 200 e 300 nm) e da temperatura (80 – 350k). A influência de parâmetros como a estrutura e temperatura permitiram uma análise mais detalhada do transporte de carga de dispositivos TFT, fornecendo, dessa forma, um maior conhecimento das propriedades físicas dos materiais estudados.This doctoral thesis results from some work carried out in the study of electronic devices based on metallic oxides processed by solution. The first part of the work presents a comparative study of how the deposition method (spray-pyrolysis and spincoating) of the active layer of thin film transistors (TFT) affects both the physical properties and the performance of the devices. The properties of the films were analyzed using Xray photoelectron spectroscopy (XPS), thermogravimetric analysis (TG), scanning electron microscopy (SEM), x-ray diffraction (XRD), UV-Vis spectroscopy, and ellipsometry, while the electrical properties were analyzed through the characteristic curves of a TFT, analyzing the mobility of charge carriers, threshold voltage and electrical resistance of the films. The second work presented in this thesis analyzes the effects of intrinsic defects at the interface between the semiconductor/insulator in TFT on the electrical properties of the devices by varying the thickness of the dielectric layer (100, 200 and 300 nm) and temperature (80 – 350k). The influence structure and temperature allowed a more detailed analysis of the charge transport of TFT devices, providing greater knowledge of the physical properties of the studied materials.Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior (CAPES)Capes: 001Universidade Estadual Paulista (Unesp)Santos, Lucas Fugikawa [UNESP]Universidade Estadual Paulista (Unesp)Braga, João Paulo2023-06-16T13:25:25Z2023-06-16T13:25:25Z2023-04-20info:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/doctoralThesisapplication/pdfhttp://hdl.handle.net/11449/24408933004153068P9porinfo:eu-repo/semantics/openAccessreponame:Repositório Institucional da UNESPinstname:Universidade Estadual Paulista (UNESP)instacron:UNESP2023-10-11T06:07:14Zoai:repositorio.unesp.br:11449/244089Repositório InstitucionalPUBhttp://repositorio.unesp.br/oai/requestopendoar:29462024-08-05T14:37:39.095516Repositório Institucional da UNESP - Universidade Estadual Paulista (UNESP)false |
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Esta tese de doutorado é o resultado de alguns trabalhos realizados em estudos de dispositivos eletrônicos à base de óxidos metálicos processados por solução. O primeiro trabalho apresenta um estudo comparativo de como o método de deposição (spray-pirólise e spin-coating) da camada ativa de transistores de filme fino (TFT) afeta as propriedades físicas e o desempenho dos dispositivos. As propriedades dos filmes foram analisadas através de técnicas de espectroscopia de fotoelétrons de raios X (XPS), análise termogravimétrica (TG), microscopia eletrônica de varredura (MEV), difração de raio-x (DRX), espectroscopia UV-Vis e Elipsometria, enquanto as propriedades elétricas foram analisadas através das curvas características de um TFT, analisando a mobilidade dos portadores de carga, tensão limiar e da resistência elétrica dos filmes. O segundo trabalho apresentado nessa tese analisa os efeitos de defeitos intrínsecos na interface entre o semicondutor/isolante em TFT nas propriedades elétricas dos dispositivos através da variação da espessura da camada dielétrica (100, 200 e 300 nm) e da temperatura (80 – 350k). A influência de parâmetros como a estrutura e temperatura permitiram uma análise mais detalhada do transporte de carga de dispositivos TFT, fornecendo, dessa forma, um maior conhecimento das propriedades físicas dos materiais estudados. |
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