Desenvolvimento de um processo litográfico para microeletrônica.

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Yunaka, Nelson Takashi
Data de Publicação: 1995
Tipo de documento: Dissertação
Idioma: por
Título da fonte: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP
Texto Completo: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3133/tde-15082024-074221/
Resumo: A definição e otimização dos processos de fabricação de circuitos integrados é uma das etapas básicas essenciais para obter-se dispositivos semicondutores. É destacado a fotolitografia entre estes processos, com a qual define-se a geometria dos materiais para a construção do dispositivo sobre substratos semicondutores em escala micrométrica. Com o objetivo de estabelecer um processo litográfico e métodos para o seu controle foram estudados as características dos fotorresistes em cada etapa do processo. Usou-se o fotorresiste positivo AZ-1350J. Obteve-se espectros UV, FTIR e análise térmica do fotorresiste. Propõe-se opcções para melhorar o processo litográfico implementado no decorrer do trabalho. Um método para determinação de parâmetros que mais afetam o processo e que pode ser usado para obter-se as melhores condições destes parâmetros é também proposto.
id USP_428e9441ba1887c89bf8bb1c07b74cd6
oai_identifier_str oai:teses.usp.br:tde-15082024-074221
network_acronym_str USP
network_name_str Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP
repository_id_str 2721
spelling Desenvolvimento de um processo litográfico para microeletrônica.Untitled in englishMateriaisMaterialsMicroelectronicsMicroeletrônicaA definição e otimização dos processos de fabricação de circuitos integrados é uma das etapas básicas essenciais para obter-se dispositivos semicondutores. É destacado a fotolitografia entre estes processos, com a qual define-se a geometria dos materiais para a construção do dispositivo sobre substratos semicondutores em escala micrométrica. Com o objetivo de estabelecer um processo litográfico e métodos para o seu controle foram estudados as características dos fotorresistes em cada etapa do processo. Usou-se o fotorresiste positivo AZ-1350J. Obteve-se espectros UV, FTIR e análise térmica do fotorresiste. Propõe-se opcções para melhorar o processo litográfico implementado no decorrer do trabalho. Um método para determinação de parâmetros que mais afetam o processo e que pode ser usado para obter-se as melhores condições destes parâmetros é também proposto.Definition and Optimization of integrated circuits fabrication processes are essential basic step to conceive semiconductor devices. Among these processes photolithography plays a key role for definition of micrometric scale patterns to be transfered to semiconductor device building material. With de aim to establish a lithographic process control procedures, photoresist features in each process steps were studied. AZ1350J positive photoresist was used. UV and FTIR spectra, and termal analysis of the photoresist were obtained. Optional procedures and techniques are proposed to impove the lithographic process developed in this work.Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USPMaciel, Homero SantiagoYunaka, Nelson Takashi1995-03-27info:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisapplication/pdfhttps://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3133/tde-15082024-074221/reponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USPinstname:Universidade de São Paulo (USP)instacron:USPLiberar o conteúdo para acesso público.info:eu-repo/semantics/openAccesspor2024-08-15T18:24:02Zoai:teses.usp.br:tde-15082024-074221Biblioteca Digital de Teses e Dissertaçõeshttp://www.teses.usp.br/PUBhttp://www.teses.usp.br/cgi-bin/mtd2br.plvirginia@if.usp.br|| atendimento@aguia.usp.br||virginia@if.usp.bropendoar:27212024-08-15T18:24:02Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP - Universidade de São Paulo (USP)false
dc.title.none.fl_str_mv Desenvolvimento de um processo litográfico para microeletrônica.
Untitled in english
title Desenvolvimento de um processo litográfico para microeletrônica.
spellingShingle Desenvolvimento de um processo litográfico para microeletrônica.
Yunaka, Nelson Takashi
Materiais
Materials
Microelectronics
Microeletrônica
title_short Desenvolvimento de um processo litográfico para microeletrônica.
title_full Desenvolvimento de um processo litográfico para microeletrônica.
title_fullStr Desenvolvimento de um processo litográfico para microeletrônica.
title_full_unstemmed Desenvolvimento de um processo litográfico para microeletrônica.
title_sort Desenvolvimento de um processo litográfico para microeletrônica.
author Yunaka, Nelson Takashi
author_facet Yunaka, Nelson Takashi
author_role author
dc.contributor.none.fl_str_mv Maciel, Homero Santiago
dc.contributor.author.fl_str_mv Yunaka, Nelson Takashi
dc.subject.por.fl_str_mv Materiais
Materials
Microelectronics
Microeletrônica
topic Materiais
Materials
Microelectronics
Microeletrônica
description A definição e otimização dos processos de fabricação de circuitos integrados é uma das etapas básicas essenciais para obter-se dispositivos semicondutores. É destacado a fotolitografia entre estes processos, com a qual define-se a geometria dos materiais para a construção do dispositivo sobre substratos semicondutores em escala micrométrica. Com o objetivo de estabelecer um processo litográfico e métodos para o seu controle foram estudados as características dos fotorresistes em cada etapa do processo. Usou-se o fotorresiste positivo AZ-1350J. Obteve-se espectros UV, FTIR e análise térmica do fotorresiste. Propõe-se opcções para melhorar o processo litográfico implementado no decorrer do trabalho. Um método para determinação de parâmetros que mais afetam o processo e que pode ser usado para obter-se as melhores condições destes parâmetros é também proposto.
publishDate 1995
dc.date.none.fl_str_mv 1995-03-27
dc.type.status.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.type.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/masterThesis
format masterThesis
status_str publishedVersion
dc.identifier.uri.fl_str_mv https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3133/tde-15082024-074221/
url https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3133/tde-15082024-074221/
dc.language.iso.fl_str_mv por
language por
dc.relation.none.fl_str_mv
dc.rights.driver.fl_str_mv Liberar o conteúdo para acesso público.
info:eu-repo/semantics/openAccess
rights_invalid_str_mv Liberar o conteúdo para acesso público.
eu_rights_str_mv openAccess
dc.format.none.fl_str_mv application/pdf
dc.coverage.none.fl_str_mv
dc.publisher.none.fl_str_mv Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
publisher.none.fl_str_mv Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
dc.source.none.fl_str_mv
reponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP
instname:Universidade de São Paulo (USP)
instacron:USP
instname_str Universidade de São Paulo (USP)
instacron_str USP
institution USP
reponame_str Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP
collection Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP
repository.name.fl_str_mv Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP - Universidade de São Paulo (USP)
repository.mail.fl_str_mv virginia@if.usp.br|| atendimento@aguia.usp.br||virginia@if.usp.br
_version_ 1815257029055348736

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